JPS6114185A - 浮彫模様の形成法 - Google Patents

浮彫模様の形成法

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JPS6114185A
JPS6114185A JP13477584A JP13477584A JPS6114185A JP S6114185 A JPS6114185 A JP S6114185A JP 13477584 A JP13477584 A JP 13477584A JP 13477584 A JP13477584 A JP 13477584A JP S6114185 A JPS6114185 A JP S6114185A
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mortar layer
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mortar
paint
curing
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怜 田中
雅史 狩野
充弘 松田
充 河野
輝行 高橋
高山 裕一
賢一 西川
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Dai Nippon Toryo KK
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Dai Nippon Toryo KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、モルタル層表面に凹凸状の浮彫模様を形成す
る方法に関するものである。
〔産業上の利用分野〕
浮彫模様を有する材料は、建築関係の外装及び内装用を
はじめとして、その他さまざまな分野において幅広く利
用されている。
〔従来の技術〕
従来、モルタル層表面へ浮彫模様を形成する方法の代表
的なものとしては、+1)こて、へらによる方法、(2
)ローラーによる方法、(3)吹付による方法、(4)
エンボソシングによる方法、(5)プラストによる方法
等が知られている。
しかして、(1)の方法は、しっくい壁の仕上げ工法と
して発展してきたものであり、細かな浮彫模様を形成す
ることは非常に難しく、熟練を要するものであった。
また、(2)の方法は、パターンローラーを押印して凹
凸を形成させるものであるため、単純な繰返し模様の形
成には適した方法であるが、複雑、微細な模様の形成に
は適さないものであった。
さらに、(3)の方、法は、吹イ1ガンによりランダム
な凹凸模様を形成するには適した方法であるが、例えば
図柄、文字等の特定の模様を形成することが出来ないと
いう欠点を有するものであった。
また、(4)の方法は、一応工場におりる大量生産に適
した方法であるが、個々の製品にそれぞれ異なった模様
を付すには不適当な方法であった。
(5)の方法は、モルタル層上を部分的にマスクし、マ
スクされていない個所をブラスト処理することにより削
り、凹凸状の浮彫模様を形成するものである。しかし、
この方法は、ブラスト処理の際に、粉塵及び騒音等が発
生するために作業環境の悪化、すなわち作業場の周囲へ
の悪影響も大きく、加えて作業時間も長く、しかも危険
をも伴う等の各種欠点を有するものであった。
さらに、従来コンクリートパネルにモルタルを塗布する
際に、モルタルとコンクリートの密着性を向上させる目
的で、コンクリート表面を凹凸状にする手段として、次
のような方法が知られている。すなわち、型枠にあらか
じめ部分的にセメント硬化遅延剤を塗布し、次いでコン
クリートを型枠内に流し込み、養生し、次いで洗い出し
を行なう凹凸状のコンクリートパネルを製造する方法で
ある。
ところで、この方法は型枠を必要とし、しかも任意の基
材に適用できるものではなかった。さらに、得られた凹
凸は、シャープな(輪郭のはつきすした)、かつ彫りの
深い凹凸模様ではなかった。
それ故、この方法は、美観を目的とした浮彫模様の形成
手段としては不適当なものであった。
〔発萌が解決しようとする問題点〕
本発明者らは、以上の如き浮彫模様の分野における現状
に鑑み、任意の基材上に、鮮明でランダム模様でない任
意の凹凸状の浮彫模様を、熟練を要することなく簡単に
形成する方法につき鋭意検討した結果、本発明に到った
のである。
〔問題点を解決するための手段〕
すなわち本発明は、 (i)基材上にモルタルを塗布し、モルタル層を   
      、。
形成する工程、 (1))該モルタル層が未硬化の間に、自然硬化型塗料
を該モルタル層表面に部分的に、模様伏に塗布し、乾燥
させる工程、 (iii )該モルタル層表面にセメント硬化遅延剤溶
液を塗布する工程、 (iv)該モルタル層を養生する工程、及び(v)モル
タル層の養生の後、塗料塗膜を施していない個所のモル
タル層を洗浄除去する工程、の諸工程からなる、深い凹
凸を有する浮彫模様の・形成方法に関するものである。
本発明においては、モルタル層が未硬化の間に、塗料塗
膜を施していないモルタル層に、セメント硬化遅延剤溶
液を含浸する。したがって、硬化遅延剤を含浸した個所
は、硬化が遅延し、養生後であっても洗浄により容易に
除去できる。一方、塗料塗膜の下のモルタル層は、塗膜
によって保護され、かつセメント硬化遅延剤溶液を含浸
しておらず、養生により硬化しているので除笠されるこ
とはない。それ故本発明の方法は、塗料塗膜の模様に応
じてシャープな形状で、深い凹凸を有する浮彫模様を、
モルタル層表面に形成できるという特長を有するもので
ある。
ま゛た、本発明においては、モルタル層の厚さ及びセメ
ント硬化遅延剤の含浸及び除去の程度を、適当にコント
ロールすることにより、浅い凹凸を有するものは勿論の
こと、深い凹凸を有するものまで、所望の深さの凹凸を
有する浮彫模様が自由に形成できるという特長を有する
。さらに本発明の方法は、浮彫模様がモルタル層からな
るものであるため、非常に安価にしかも深い凹凸を有す
る浮彫模様を形成することができるという特長を有する
以下、本発明の凹凸を有する浮彫模様の形成方法につき
、さらに具体的に説明する。
まず本発明において使用する基材としては、公知のモル
タルを密着できるあらゆる基材が適用できる。例えば、
鉄、アルミニウム、ステンレス等の金属、ガラス、タイ
ル、陶磁器、コンクリート、レンガ、石材、木材、プラ
スチックあるいはこれらの積層体等を挙げることができ
る。その表面は必ずしも平面である必要はなく、例えば
曲面であってもよい。これら基材には、必要に応じて粗
面にしたり、着色したり、プライマーを施したり等の下
地処理を施すこともできる。
本発明においては、第一工程として、前記のような基材
上にモルタルを、コテ、ヘラ、スプレー等の通常用いら
れる手段により塗布し、モルタル層を形成する。該モル
タル層の厚さは、特に制限はない。しかし凹凸の彫りの
深さに応じ、実用上約1〜20龍にすることが好ましい
本発明で使用するモルタルは、従来から−・般に使用さ
れているものがそのまま適用出来る。すなわちセメント
、砂等の骨材及び水からなるものであり、必要に応じさ
らに着色顔料、各種添加剤等を配合したものである。ま
たアクリル樹脂系エマルジョン、酢酸ビニル樹脂系エマ
ルジョン、エポキシ樹脂系エマルジョン、スチレンブタ
ジェン樹脂系エマルジョン等を配合した、いわゆる樹脂
モルタルも本発明において使用出来る。
本発明においてはモルタル層は、同一色のモルタルを使
用する以外に、色の異なるモルタルを複数回塗り重ねる
こともできる。このように色の異なる複数のモルタル層
を形成することにより、後述する洗浄除去工程において
、モルタル層を洗浄除去する際の各場所の除去程度、す
なわち凹部の深さを加減することにより、深さに応じて
多色の変化のある凹凸浮彫模様を形成することが可能と
なる。
このようにして形成したモルタル層が未硬化の間に、好
ましくはモルタル層表面の遊離水が消失し、指で軽く押
して変形しない程度になった時点で、自然硬化型塗料を
、モルタル層表面に部分的(すなわち全面ではない)に
、模様状に(所望の模様を形成するように)塗布し、塗
料塗膜を形成する。塗料を模様状に塗布する方法として
は、例えば、塗料業界で通常利用されているシルクスク
リーンを使用する方法、及びモルタル層表面を模様状に
マスクした後に塗料を塗布する方法等を挙げることがで
きる。しかし、これらに限定されるものではない。
なお、本発明で使用する自然硬化型塗料は、セメント硬
化遅延剤溶液を通過させない被膜を形成するものであれ
ば、従来から一般に使用されている自然硬化型塗料がそ
のまま使用出来る。具体的には、代表的なものとして、
油性塗料、61v化綿ラツカー、アクリルラッカー、ア
ルキッド樹脂系塗料、塩化ビニル樹脂系塗料、アクリル
樹Jlti系塗料、ウレタン樹脂系塗料、エポキシ樹脂
系塗料、塩化ゴム系塗料等の溶剤型塗料、酢酸ビニル樹
脂系エマルジョン塗料、アクリル樹脂系エマルジョン塗
料等の水系塗料等が挙げられる。
次いで、塗料塗膜を乾燥する。ただし、本発明における
塗料塗膜が乾燥した状iとは、必ずしも該塗料塗膜が完
全に硬化した状態を意味するものではない。例えば、セ
メント硬化遅延剤溶液を塗布したときに、該溶液が塗料
塗膜によって遮断され、該塗膜の下のモルタル層に含浸
しない程度に硬化した4状態であればよい。この場合、
塗料塗膜は、最終製品に必ずしも残存していなくともよ
く、セメント硬化遅延剤溶液が、塗料塗膜の下のモルタ
ル層に含浸するのを防止する機能を持っていればよいの
である。
次いでモルタル層表面に、セメント硬化遅延剤溶液を塗
布する。該溶液は、塗料塗膜の下のモルタル層には含浸
することはない。したがって、塗料塗膜を施していない
個所のモルタル層にのみセメント硬化遅延剤溶液を含浸
させることができる。
またセメント硬化遅延剤溶液の粘度、塗布量を調節する
ことにより、凹凸の深さを自由に変えることができる。
すなわち、例えばセメント硬化遅延剤の粘度を低くし、
及び/又は塗布量を多くすることにより、セメント硬化
遅延剤をより深く含浸することができるため、凹凸の深
さを大きくすることができる。
本発明において使用するセメント硬化遅延剤溶液の粘度
は、モルタル層への浸透性等を考慮すると104ポイズ
(20℃において)以下であることが好ましい。該粘度
範囲のセメント硬化遅延剤溶液を使用することによって
、よりシャープな凹部を形成することができる。
本発明においてセメント硬化遅延剤溶液としては、従来
から一般に使用されているものがそのまま使用可能であ
る。具体的には、例えばリン酸二水素ナトリウム、リン
酸水素二ナトリウム、リン酸ナトリウム、四ホウ酸ナト
リウム、糖類、酢酸カルシウム、オキシカルボン酸塩、
リグニンスルフォン酸塩、アルコール等が代表的なもの
としてあげられる。なお、固体のものについては、水溶
液として使用する。
また・セメント硬化遅延剤溶液は・ポリビニルアルコー
ル、メチルセルロース、アルギン酸ソーダ、ヘントナイ
ト等の増粘剤を添加する等の手段により、所望の粘度に
調整することができる。
本発明においては、セメント硬化遅延剤溶液を適用後、
モルタル層を一定時間養生させる。養生方法としては、
通常モルタルの養生方法として知られている自然養生法
、水蒸気養生法、加圧養生法等が採用出来る。
養生のための時間は、後述する洗浄除去工程において、
セメント硬化遅延剤溶液を塗布、含浸ししていない個所
(すなわち、塗料塗膜を施した個所)のモルタル層は除
去されない程度に硬化し、かつセメント硬化遅延剤溶液
を塗布、含浸した個所(すなわち、塗料塗膜を施してい
ない個所)のモルタル層は未硬化であるか、もしくは比
較的容易に除去できる程度に半硬化するに要する時間と
しい。
モルタル層を養生させた後、水あるいは水に洗剤等を添
加した洗浄液を用い、かつ回転ブラシで擦る方法、ある
いは該洗浄液を高圧噴射する方法等の手段により、セメ
ント硬化遅延剤溶液を塗布、含浸した個所のモルタル層
を除去する。
このようにして得られたモルタル層は、前記塗料塗膜に
より形成した模様に対応した凹凸模様を形成するもので
あった。
本発明に於いてはさらに必要に応し、色彩を付    
    )与したり、光沢度を調整したりすることがで
きる1、さらに耐候性、耐水性、耐薬品性等を付与する
ために、全面もしくは凹部(又は凸部)に別の着色塗膜
を施したり、全面にクリヤーもしくはカラークリヤー等
の塗膜を施したり、あるいは研磨するごともできる。
以上、記載したように本発明の方法により、任意の深さ
の、深い凹凸を有する、浮彫模様を、簡単に、かつ安価
に得ることが可能である。また、塗料塗膜により形成し
た模様に対応した凹凸を有する浮彫模様を形成できるた
め、塗料塗膜の模様を色々と変化させることにより、所
望の凹凸模様を簡単に得ることができるという特長を有
する。
また、本発明の方法により得られた凹凸模様を形成した
モルタル層を有するものは、建材、装飾品等に利用でき
、工場あるいは現場においても製造できる特長を有して
いる。
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。
なお、実施例中1部」、「%」は重量基準であ実施例1 周囲に木製枠をもうけた石綿スレート板(900X18
00XlOu+)表面に、ポルトランドセメント25部
、シリカ粉55部、減水剤0.3部及び水20部からな
るモルタルを、コテにて塗布し、3ml厚の平滑なモル
タル層を形成した。
20℃で1時間放置し、表面の水が消失し、指で軽く押
して変形しないことを確認した後、図柄を描いたシルク
スクリーン(注1)をモルタル層表面に密着させた。
(注1)〔台板の上に紫外線硬化型樹脂溶液を200g
/rrr塗布し9oメツシユのポリエステル製砂を張り
付けた。この紗の上に図柄を描いたポジフィルムを重ね
、ロールにて気泡を追い出しながら紗とフィルムを密着
させた。次いで紫外線を照射し、フィルムの透明部に位
置する紫外線硬化型樹脂を硬化させ、未硬化樹脂を溶剤
で洗い落としシルクスクリーンを作成した。〕次いで、
アクリル樹脂系塗料〔「ビルディング」(大日本塗料社
製商品名)〕を、ンシルクスクリーンにドクターブレー
ドにて塗布(100g/m)した。
次いで、シルクスクリーンを取り除き、20℃で30分
間塗膜を乾燥させた後、塗膜を施していない露出したモ
ルタル層表面に、リン酸三ナトリウム60部、フタロシ
アニンブルー1部及び水89部からな゛るセメン1〜硬
化遅延剤溶液を、スプレーにて塗布(300g/n()
した。
該塗布の後、モルタル層を温度20℃、相対湿度75%
の雰囲気中で1日養生させた。
次いで、水を注ぎ(306部分)ながら5分/ポの割合
で、回転(250rpm )するナイロン糸(径0.6
1)1)1 >を束ねた円型ブラシ(φ100宵諏)で
擦り、セメント硬化遅延剤溶液を含浸させた個所のモル
タル層を除去した。
得うれた表面には、シルクスクリーンの図柄に対応した
、平均深さ約1.5mmのシャープな模様状凹凸が形成
できた。
次いでモルタル層全面にアクリル樹脂系工°フルジゴン
シーラーを施した後、白色アクリル樹脂系エマルジョン
塗料を塗布、乾燥した。
このようにして得られたモルタル層表面には、きわめて
浮彫り感のある、浮彫模様が得られた。
実施例2 石綿スレート板表面に、ポルトランドセメント30部、
シリカ粉25部、酢酸ビニル樹脂系エマルジョン(NV
50%)8部、メチルセルロース系増粘剤1部、減水剤
0.3部及び水25部からなるモルタルをコテにて塗布
し、10龍厚の平滑なモルタル層を形成した。20℃で
1時間放置し、表面の水が消失し、指で軽く押して変形
しないことを確認した後、図柄を描いたシルクスクリー
ンをモルタル層表面に密着させた。
次いで、アルキッド樹脂系塗料〔「ハイメル」(大日本
塗料社製商品名)〕を、シルクスクリーン上にドクター
ブレードにて塗布(100g/rrr)した。
次いでシルクスクリーンを取り除き、20℃で30分間
塗膜を乾燥させた後・1″夕′”′層表面6”・   
     5、四ホウ酸ナトリウム4部、フタロシアニ
ンブルー1部及び水100部からなるセメント硬化遅延
剤溶液を、スプレーにて塗布(500g/rrr) し
た。
次いでモルタル層を、温度20℃、相対湿度75%の雰
囲気中で1日養生させた。
該養生の後、実施例1と同様にして、セメント硬化遅延
剤溶液を含浸させた個所のモルタル層を洗浄除去した。
得られた表面には、シルクスクリーンの図柄に対応した
、平均深さ約3龍のシャープな模様状凹凸が形成できた
次いで、モルタル層全面に緑色ウレタン樹脂系塗料をス
プレーにて塗布、乾燥した後、凸部のみに赤色ウレタン
樹脂系塗料をゴムローラにて塗布、乾燥し、さらに全面
にクリヤーウレタン樹脂系塗料をスプレーにて塗布、乾
燥した。
このようにして得られたモルタル層表面には、凸部が緑
色の、′きわめて浮彫り感のある浮彫模様が得られた。
実施例3 石綿スレート板表面に白色ポルトランドセメント30部
、シリカ粉20部、ルチル型チタン白5部、アクリル樹
脂系エマルジョン(NV50%)7部、メチルセルロー
ス系増粘剤1部、減水剤0.5部及び水25部からなる
白色モルタルを51厚に塗布した。次いで、前記白色モ
ルタル中のルチル型チタン白5部の代りにナフトールレ
ッド1部を配合したモルタルを、2鶴厚に塗重ねた。
20℃で1時間放置し、表面の水が消失し、指で軽く押
して変形しないことを確認した後、図柄を描いたシルク
スクリーンをモルタル層表面に密着させた。
次いで、水性アルキッド樹脂塗料〔「サンデーオール」
 (サンデーペイント社製商品名)〕を、シルクスクリ
ーン上にドクターブレードにて塗布(100g/rrr
)  シタ。
該塗布の後、シルクスクリーンを取り除き、20℃で3
0分間塗膜を乾燥した後、モルタル層表面にリン酸水素
ナトリウム10部、フタロシアニンブルー1部、メチル
セルロース系増粘剤1部及び水88部からなるセメント
硬化遅延剤溶液を、スプレーにて塗布(800g/m)
 シた。
次いでモルタル層を、温度20℃、相対湿度75%の雰
囲気中で1日養生させた。
該養生の後、実施例1と同様にして、セメント硬化遅延
剤溶液を含浸させた個所のモルタル層を洗浄除去した。
得られた表面には、シルクスクリーンの図柄に対応した
平均深さ約3.5鶴のシャープな模様状凹凸が形成でき
た。
次いで、モルタル層全面にクリヤーウレタン樹脂系塗料
を塗布、乾燥した。
このようにして得られたモルタル層表面には、凸部が赤
色、凹部が白色のきわめて浮彫り感のある浮彫模様が得
られた。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(i)基材上にモルタルを塗布し、モルタル層を
    形成する工程、 (ii)自然硬化型塗料による塗膜を該モルタル層表面
    に部分的に、模様状に形成する工程、(iii)該モル
    タル層表面にセメント硬化遅延剤溶液を適用する工程、 (iv)該モルタル層を養生する工程、及び(v)モル
    タル層の養生の後、塗料塗膜を施していない個所のモル
    タル層を除去する工程、の諸工程からなる、深い凹凸を
    有する浮彫模様の形成法。
  2. (2)自然硬化型塗料の模様を、シルクスクリーン印刷
    の手法により形成することを特徴とする、特許請求の範
    囲第(1)項記載の浮彫模様の形成法。
  3. (3)モルタル層が、色の異なる複数のモルタル層から
    構成されていることを特徴とする、特許請求の範囲第(
    1)項又は第(2)項記載の浮彫模様の形成法。
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