JPS61138104A - パタ−ン検査方法 - Google Patents
パタ−ン検査方法Info
- Publication number
- JPS61138104A JPS61138104A JP59259168A JP25916884A JPS61138104A JP S61138104 A JPS61138104 A JP S61138104A JP 59259168 A JP59259168 A JP 59259168A JP 25916884 A JP25916884 A JP 25916884A JP S61138104 A JPS61138104 A JP S61138104A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- bit
- bits
- line
- design data
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明はレチクル、フォトマスク等のパターンを設計デ
ータと比較してパターンの良否を検査する方法に関する
ものである。
ータと比較してパターンの良否を検査する方法に関する
ものである。
半導体装置の製造に用いられるレチクルやフォトマスク
は、パターンを形成した際にこれらのパターンが設計デ
ータ通りに形成されているか否かを検査する必要があり
、従来、この種の検査方法の一つとして、検出したパタ
ーン信号を２値化した上でこれを設計データと比較する
方法が提案されている。
は、パターンを形成した際にこれらのパターンが設計デ
ータ通りに形成されているか否かを検査する必要があり
、従来、この種の検査方法の一つとして、検出したパタ
ーン信号を２値化した上でこれを設計データと比較する
方法が提案されている。
ところで、前記したレチクル等のパターンは通常光、Ｅ
Ｂ線等を利用したりソグラフィ技術によって形成してい
るが露光要因、現像要因によって若干の形状変化が生ず
ることは避けられず、特にパターン角部では丸味を帯び
た形状になることが多い。このため、このように形成さ
れたパターンについて前述のパターン検査を行なうと、
実際には支障がないのにも拘らず、パターン形状と設計
データとの間に不一致が生じ、これを不良として検査し
てしまうことになる。
Ｂ線等を利用したりソグラフィ技術によって形成してい
るが露光要因、現像要因によって若干の形状変化が生ず
ることは避けられず、特にパターン角部では丸味を帯び
た形状になることが多い。このため、このように形成さ
れたパターンについて前述のパターン検査を行なうと、
実際には支障がないのにも拘らず、パターン形状と設計
データとの間に不一致が生じ、これを不良として検査し
てしまうことになる。
このようなことから、設計データ側において、パターン
角部に相当する部位に丸味をつけたデ−夕を予め用意し
ておき、このデータとパターンとを比較する方法が試み
られている。例えば、第４図（Ａ）に示すように、パタ
ーン１０を形成する微細分割されたデータビット１１・
・・に対して、３×３の処理ビット群Ａを相対させ、注
目ビットＸに対する処理ビット群Ａの各ビット１２のｒ
ｒ １ ｒｔ。
角部に相当する部位に丸味をつけたデ−夕を予め用意し
ておき、このデータとパターンとを比較する方法が試み
られている。例えば、第４図（Ａ）に示すように、パタ
ーン１０を形成する微細分割されたデータビット１１・
・・に対して、３×３の処理ビット群Ａを相対させ、注
目ビットＸに対する処理ビット群Ａの各ビット１２のｒ
ｒ １ ｒｔ。
０′″を検出してその多−数決を求める。この例ではパ
ターン無し″ビ′が５個、パターン有り１″０′″が３
個であり、結局注目ビットにを１１ Ｌ Ｈｇにする。
ターン無し″ビ′が５個、パターン有り１″０′″が３
個であり、結局注目ビットにを１１ Ｌ Ｈｇにする。
これを角部のデータビット１１・・・について夫々求め
ることにより、第４図（Ｂ）のように角部のとれたパタ
ーンデータ１３を得ることができる。
ることにより、第４図（Ｂ）のように角部のとれたパタ
ーンデータ１３を得ることができる。
このようなパターンデータＩ３を用いることにより、丸
味を帯びたパターンに対する検査精度を向上できる。し
かしながら、前述したデータピッ１−１１・・・の処理
方法では、常に一義的な丸味のパターンデータしか得る
ことができず、パターン形状２寸法に応じて異なる形状
２寸法の丸味づけを行なうことは不可能であり、種々の
パターンに対して夫々適正な検査を行なうことは極めて
困難である。
味を帯びたパターンに対する検査精度を向上できる。し
かしながら、前述したデータピッ１−１１・・・の処理
方法では、常に一義的な丸味のパターンデータしか得る
ことができず、パターン形状２寸法に応じて異なる形状
２寸法の丸味づけを行なうことは不可能であり、種々の
パターンに対して夫々適正な検査を行なうことは極めて
困難である。
なお、パターン検出技術を詳しく述べである例としては
、工業調査発行電子材料１９８１年１１月号別冊、昭和
５６年１１月１０日発行、Ｐ、２１４〜Ｐ、２２０があ
る。
、工業調査発行電子材料１９８１年１１月号別冊、昭和
５６年１１月１０日発行、Ｐ、２１４〜Ｐ、２２０があ
る。
本発明の目的はデータの角部において任意のデータビッ
ト処理を可能とし、これにより種々のパターンに夫々適
正な丸味付けを行なうことができ、検査精度の向上を実
現できる検査方法を提供することにある。
ト処理を可能とし、これにより種々のパターンに夫々適
正な丸味付けを行なうことができ、検査精度の向上を実
現できる検査方法を提供することにある。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明Ｍ８の記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。
本明Ｍ８の記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すればち下記のとおりである。
を簡単に説明すればち下記のとおりである。
すなわち、パターンの角部に相対するパターンビットに
対して注目ビット上を通りかつ斜めに交差するライン上
のビットを選択し、かつこれらのビットの論理和や論理
積を求めて注目ビットを処理することにより、選択ビッ
ト数やラインの角度を適宜調整すればデータビットの角
部の丸味を自由に変化でき、これにより検査精度の向上
を達成できる。
対して注目ビット上を通りかつ斜めに交差するライン上
のビットを選択し、かつこれらのビットの論理和や論理
積を求めて注目ビットを処理することにより、選択ビッ
ト数やラインの角度を適宜調整すればデータビットの角
部の丸味を自由に変化でき、これにより検査精度の向上
を達成できる。
（実施例〕
第１図はレチクル等に形成するパターン（図示せず）の
角部に相対する設計データ１をパターンに対応して示し
てものであり、パターンを微小分割した多１！１個のパ
ターンビットａ・・からなり、各パターンビットａ・・
・を２値化して所要のメモリ内に記憶させている。本例
ではＩＩ Ｏ１１をパターン部とし、″ビゝをパターン
外としている。
角部に相対する設計データ１をパターンに対応して示し
てものであり、パターンを微小分割した多１！１個のパ
ターンビットａ・・からなり、各パターンビットａ・・
・を２値化して所要のメモリ内に記憶させている。本例
ではＩＩ Ｏ１１をパターン部とし、″ビゝをパターン
外としている。
今、この設計データ（パターンデータ）に対し角部に丸
味を持たせる場合、第２図のように角のデータピッ１−
ａｘｌに注目しこのパターンピットａｘｌ上を通りかつ
斜め（本例では４５°の角度）に交差するラインＬ１を
想定する。そして、このラインＬ１に重なるパターンビ
ットａｌｌ〜ａ１４を選択し、かつ各パターンビットａ
ｌｌ＝ａ１４に対する次の論理式を算出する。
味を持たせる場合、第２図のように角のデータピッ１−
ａｘｌに注目しこのパターンピットａｘｌ上を通りかつ
斜め（本例では４５°の角度）に交差するラインＬ１を
想定する。そして、このラインＬ１に重なるパターンビ
ットａｌｌ〜ａ１４を選択し、かつ各パターンビットａ
ｌｌ＝ａ１４に対する次の論理式を算出する。
ａｌｌ八ａへ４ △ （ａ１２０ａ１３Ｕａｘｌ）こ
の結果、注目パターンビットａｘｌは′″ｌ”となり、
パターンから除かれる。
の結果、注目パターンビットａｘｌは′″ｌ”となり、
パターンから除かれる。
次に、同図のパターンビットａ−ｘ２ａを注目ビットと
し、この上を通るラインＬ２を想定する。そして、ライ
ンＬ２に重なるパターンビットａ２Ｌ〜ａ２４を選択し
、前人と同様に。
し、この上を通るラインＬ２を想定する。そして、ライ
ンＬ２に重なるパターンビットａ２Ｌ〜ａ２４を選択し
、前人と同様に。
ａ２１△ａ２３ △ （ａ ２２ｕａ ｘ２ｂ ｕａ
ｘ２ａ）からａｘ２ａを求める。同様にパターンビッ
トａｘ２ｂについても。
ｘ２ａ）からａｘ２ａを求める。同様にパターンビッ
トａｘ２ｂについても。
ａ２２△ａ２４ △ （ａ ｘ２ａ ｕａ Ｘ２３Ｌ
Ｉ ａ ｘ２ｂ）からａｘ２ｂを求める。
Ｉ ａ ｘ２ｂ）からａｘ２ｂを求める。
このように、角から内方へ向けて各パターンビットａ・
・・について論理計算をすれば、第３図のように角部が
丸味を帯びたパターンデータ２を得ることができる。し
たがって、このパターン２に基づいて実際のパターンと
の比較検査を行なえば適正な検査を行なうことができる
。
・・について論理計算をすれば、第３図のように角部が
丸味を帯びたパターンデータ２を得ることができる。し
たがって、このパターン２に基づいて実際のパターンと
の比較検査を行なえば適正な検査を行なうことができる
。
ここで、ラインＬＩＬＺ上におけるパターンビットの選
択数やラインの角度θを適宜に変更すれば、各パターン
ピノｈ ａ・・・の′″ｌｌＴ、ｌ＃ＱＩ＋の値も変化
され、前述とは異なった丸味のパターン形状になる。換
言すれば、パターンビット選択数やライン角度θを調整
することにより、任意の丸味付けを行なうことができ、
実際のパターン処理条件の変化等に応じて夫々に好適な
丸味付けを行なうことができる。
択数やラインの角度θを適宜に変更すれば、各パターン
ピノｈ ａ・・・の′″ｌｌＴ、ｌ＃ＱＩ＋の値も変化
され、前述とは異なった丸味のパターン形状になる。換
言すれば、パターンビット選択数やライン角度θを調整
することにより、任意の丸味付けを行なうことができ、
実際のパターン処理条件の変化等に応じて夫々に好適な
丸味付けを行なうことができる。
設計データのパターンビットに対して、注目ビット上を
通りかつ斜めに交差するライン上の複数のビットを選択
し、これらのビット間での論理計算を行なって注目ビッ
トの２値化処理を行なっているので、ライン上で選択す
るビット数やライン角度を適宜変化させることにより設
計データのパターン角部を任意に丸味づけすることがで
き、実際に形成されるパターンに対応したデータを得る
ことができ高精度な検査を行なうことができる。
通りかつ斜めに交差するライン上の複数のビットを選択
し、これらのビット間での論理計算を行なって注目ビッ
トの２値化処理を行なっているので、ライン上で選択す
るビット数やライン角度を適宜変化させることにより設
計データのパターン角部を任意に丸味づけすることがで
き、実際に形成されるパターンに対応したデータを得る
ことができ高精度な検査を行なうことができる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例にもとづき
具体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。たとえばパターンビッ
トの選択数やライン角度を変化すればこれに応じて論理
式を４′１１違させることもある。また、＄１雑なパタ
ーン形状の場合には、ラインを複数本利用することもあ
る。
具体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。たとえばパターンビッ
トの選択数やライン角度を変化すればこれに応じて論理
式を４′１１違させることもある。また、＄１雑なパタ
ーン形状の場合には、ラインを複数本利用することもあ
る。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるレチクルパターンの
検査方法に適用した場合について説明したが、それに限
定されるものではなく、フォ１−マスクやウェーハにお
けるパターンや他の分野におけるパターンの検査に適用
できる。
をその背景となった利用分野であるレチクルパターンの
検査方法に適用した場合について説明したが、それに限
定されるものではなく、フォ１−マスクやウェーハにお
けるパターンや他の分野におけるパターンの検査に適用
できる。
第１図は修正前の設計データのパターン図、第２図は修
正方法を説明するパターン図、第３図は修正後のパター
ン図、 第４図（Ａ）、（Ｂ）は従東における修正方法を説明す
るパターン図である。 １・・・設計データ、２・パターンデータ、ａ。 ａ ｌ］〜Ａ１４． ａ ２１− ａ ２４−パター
ンビット、ａｘｌ。 ａ ｘ２ａ、 ａ ｘ２ｂ−注目ビット、Ｌ、Ｉ、
Ｌ２・−・ラーｒン、Ａ・・・処理ピッ１一群、＋１・
・・データビット、１３・・・パターンデータ。
正方法を説明するパターン図、第３図は修正後のパター
ン図、 第４図（Ａ）、（Ｂ）は従東における修正方法を説明す
るパターン図である。 １・・・設計データ、２・パターンデータ、ａ。 ａ ｌ］〜Ａ１４． ａ ２１− ａ ２４−パター
ンビット、ａｘｌ。 ａ ｘ２ａ、 ａ ｘ２ｂ−注目ビット、Ｌ、Ｉ、
Ｌ２・−・ラーｒン、Ａ・・・処理ピッ１一群、＋１・
・・データビット、１３・・・パターンデータ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、被検査パターンと設計データとを比較してパターン
検査を行なう方法において、パターンの角部に相当する
設計データのパターンビットに対して、注目ビット上を
通りかつ斜めに交差するライン上の複数のビットを選択
し、これらのビットの論理和や論理積を求めて注目ビッ
トの２値化処理を行なうことを特徴とするパターン検査
方法。 ２、選択ビット数を適宜変化させてなる特許請求の範囲
第１項記載のパターン検査方法。 ３、ラインの傾斜角を適宜変化させてなる特許請求の範
囲第１項又は第２項記載のパターン検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59259168A JPS61138104A (ja) | 1984-12-10 | 1984-12-10 | パタ−ン検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59259168A JPS61138104A (ja) | 1984-12-10 | 1984-12-10 | パタ−ン検査方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61138104A true JPS61138104A (ja) | 1986-06-25 |
Family
ID=17330296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59259168A Pending JPS61138104A (ja) | 1984-12-10 | 1984-12-10 | パタ−ン検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61138104A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010541003A (ja) * | 2007-09-28 | 2010-12-24 | シノプシス， インコーポレイテッド | マスク角部円形化効果のモデル化によるプロセスモデル精度の向上 |
-
1984
- 1984-12-10 JP JP59259168A patent/JPS61138104A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010541003A (ja) * | 2007-09-28 | 2010-12-24 | シノプシス， インコーポレイテッド | マスク角部円形化効果のモデル化によるプロセスモデル精度の向上 |
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