JPS61133682A - レ−ザ光減衰装置 - Google Patents
レ−ザ光減衰装置Info
- Publication number
- JPS61133682A JPS61133682A JP59255385A JP25538584A JPS61133682A JP S61133682 A JPS61133682 A JP S61133682A JP 59255385 A JP59255385 A JP 59255385A JP 25538584 A JP25538584 A JP 25538584A JP S61133682 A JPS61133682 A JP S61133682A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser light
- rotating body
- rotary body
- disk
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
- H01S3/0057—Temporal shaping, e.g. pulse compression, frequency chirping
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
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- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は炭酸ガスレーザを始めとする定常大出力レー
ザの減衰装置に関するものである。
ザの減衰装置に関するものである。
第４図は従来のレーザ光減衰装置を示す構成図であり９
図においてＴｌｌは開口部をもつ回転体で反射形の円盤
、（２）はこの回転体（１）を回転させるモータ、（３
）はレーザ光吸収体、（至）はレーザ光吸収体を冷却す
る冷却水、（４）はレーザ光、（５）は円盤による反射
光、（６）は円盤（１）の開口部を通過したレーザ光で
ある。第５図にはモータ（２）の軸方向からみた円盤（
１）とモータ（２）を示す◎（ＩＩは開口部である。
図においてＴｌｌは開口部をもつ回転体で反射形の円盤
、（２）はこの回転体（１）を回転させるモータ、（３
）はレーザ光吸収体、（至）はレーザ光吸収体を冷却す
る冷却水、（４）はレーザ光、（５）は円盤による反射
光、（６）は円盤（１）の開口部を通過したレーザ光で
ある。第５図にはモータ（２）の軸方向からみた円盤（
１）とモータ（２）を示す◎（ＩＩは開口部である。
次に動作について説明する。今、ｓｏｏｗ程度のｃｏ２
レーザ光を考える。円盤（１）に入射したレーザ光（４
）は反射され、光吸収体（３）に入射する。しかし。
レーザ光を考える。円盤（１）に入射したレーザ光（４
）は反射され、光吸収体（３）に入射する。しかし。
円盤（１）は回転しているため開口部α１がレーザ光路
と重なるとレーザ光は開口部α１を通過し、レーザ光（
６）として出射される。開口部Ｏ１の開き角をθとする
と、１回転に要する時間Ｔとして１回転の開時間のみレ
ーザ光は開口部ａ１を通過する０従ってに減衰されるこ
とになる。定常大出力レーザ光のパワーをモニターする
場合、一般に検出器に大出力を入れられないため、この
ような減衰装置が必須となっている。
と重なるとレーザ光は開口部α１を通過し、レーザ光（
６）として出射される。開口部Ｏ１の開き角をθとする
と、１回転に要する時間Ｔとして１回転の開時間のみレ
ーザ光は開口部ａ１を通過する０従ってに減衰されるこ
とになる。定常大出力レーザ光のパワーをモニターする
場合、一般に検出器に大出力を入れられないため、この
ような減衰装置が必須となっている。
従来のレーザ減衰装置は以上のように構成されているの
で。
で。
（１）光吸収体（３）が必要である。しかも光吸収体（
３）を水冷する必要から冷却水（至）の配管が必要であ
る。
３）を水冷する必要から冷却水（至）の配管が必要であ
る。
（ト）円盤（１）をレーザ光と斜めに設置する為、レー
ザ光からみた投影面積をかせぐ必要上２円盤の大きさを
大きくする必要がある。
ザ光からみた投影面積をかせぐ必要上２円盤の大きさを
大きくする必要がある。
（ｌｉｔ） 円盤（１）の反射光をうまく光吸収体（
３）に入るように調整する必要がある。
３）に入るように調整する必要がある。
等の問題点があった。
この発明は上記のような従来のものの問題点を解消する
ためになされたもので、冷却水配管の必要な光吸収体を
不要とし、移動、設置、調整が容易にできるとともに２
円盤の大きさを小さくすることのできるレーザ光減衰装
置を得ることを目的とする。
ためになされたもので、冷却水配管の必要な光吸収体を
不要とし、移動、設置、調整が容易にできるとともに２
円盤の大きさを小さくすることのできるレーザ光減衰装
置を得ることを目的とする。
この発明に係るレーザ光減衰装置は回転体にレーザ光を
吸収する吸収体を用い、かつ回転体の一部に冷却用のフ
ィンを取付けたものである。
吸収する吸収体を用い、かつ回転体の一部に冷却用のフ
ィンを取付けたものである。
この発明における回転体はレーザ光の光吸収体としての
役目もかね、従来の光吸収体が水冷により逃がしていた
熱を回転体の回転による強制風冷により逃がす。またこ
の際回転体の一部につけられたフィンは風冷効果を著し
く増強する。
役目もかね、従来の光吸収体が水冷により逃がしていた
熱を回転体の回転による強制風冷により逃がす。またこ
の際回転体の一部につけられたフィンは風冷効果を著し
く増強する。
以下この発明の一実施例を図について説明する。
第１図はこの発明の一実施例によるレーザ光減衰装置を
示す構成図であり、（７）は回転体（１）の一部に設け
られた冷却用のフィンである。
示す構成図であり、（７）は回転体（１）の一部に設け
られた冷却用のフィンである。
次に動作例を説明する。入射光はｓｏｏ ｗ ａｏ２レ
ーザ光とする。円盤（１）はＡＩ！にアルマイト処理を
したもので、Ｃ０２レーザ光の吸収率は９９％以上であ
る。回転円盤の直径Ｄ−２００ｍｍ、回転数−６０００
回転／分。半径ｒ口＝５０１１にの所の熱伝達率αをも
とめ、これを代表値とする。レイノズル数Ｒｅｒは半径
５０朋の所の回転速度Ｖθとして（Ｖθ−２π×ここで
νは空気の動粘性係数である。レイノズル数がこの値で
あれば層流域とみなせ、又セルト数は Ｂｕｒ −
０，３４Ｘ Ｒｅｒ −１０２従って熱伝達率αは ここでλは空気の熱伝達率である。円盤の上昇温度△Ｔ
９面積Ａ、入射パワーＷｒとするとＷｒ’！Ａ△Ｔ・α でおおむね表わされ以上の値を代入すると従って３００
℃近くに円盤はなる。以上の計算は円盤の厚みを考慮し
ていない為実際の場合は厚み方向への熱伝導からいま少
し温度が下がる。まだフィンによる冷却効果が加わりさ
らに温度は下がる。
ーザ光とする。円盤（１）はＡＩ！にアルマイト処理を
したもので、Ｃ０２レーザ光の吸収率は９９％以上であ
る。回転円盤の直径Ｄ−２００ｍｍ、回転数−６０００
回転／分。半径ｒ口＝５０１１にの所の熱伝達率αをも
とめ、これを代表値とする。レイノズル数Ｒｅｒは半径
５０朋の所の回転速度Ｖθとして（Ｖθ−２π×ここで
νは空気の動粘性係数である。レイノズル数がこの値で
あれば層流域とみなせ、又セルト数は Ｂｕｒ −
０，３４Ｘ Ｒｅｒ −１０２従って熱伝達率αは ここでλは空気の熱伝達率である。円盤の上昇温度△Ｔ
９面積Ａ、入射パワーＷｒとするとＷｒ’！Ａ△Ｔ・α でおおむね表わされ以上の値を代入すると従って３００
℃近くに円盤はなる。以上の計算は円盤の厚みを考慮し
ていない為実際の場合は厚み方向への熱伝導からいま少
し温度が下がる。まだフィンによる冷却効果が加わりさ
らに温度は下がる。
第２図には直゛径２００朋厚み１０ｍｍ開口率２チの円
盤を６０００回転／分にて回転させた時のレーザ光入射
による温度上昇の実験値を示す。１ｋＷ入射においても
円盤の温度上昇は１００℃以下であり２回転数増大によ
りさらなる大出力にも適用可能である。
盤を６０００回転／分にて回転させた時のレーザ光入射
による温度上昇の実験値を示す。１ｋＷ入射においても
円盤の温度上昇は１００℃以下であり２回転数増大によ
りさらなる大出力にも適用可能である。
なおここでいう円盤の温度上昇は表面のレーザ光照射点
の最高温度である。
の最高温度である。
なお、上記実施例では円盤の表面にフィンをつけるもの
を示したが９円盤の側面に設けてもよいし、第３図に示
すように円盤（菫）の両面につけてもよい。
を示したが９円盤の側面に設けてもよいし、第３図に示
すように円盤（菫）の両面につけてもよい。
以上のようにこの発明によれば９回転体にレーザ光を吸
収する吸収体を用い、かつ回転体の一部に冷却用のフィ
ンを取付けたので、（ロ）転体自体がビームダンパをか
ねることができ、レーザビームに対して回転体を直角に
設置することができる。
収する吸収体を用い、かつ回転体の一部に冷却用のフィ
ンを取付けたので、（ロ）転体自体がビームダンパをか
ねることができ、レーザビームに対して回転体を直角に
設置することができる。
このため９回転体は従来のものよりも小さくてすみ、ま
た例えばビームパワー測定装置として組み込む場合、装
置全体が従来のものよりもコンパクトになる利点を生じ
る。さらに回転体の直径を小さくできることから１回転
体の駆動用モータの負荷が小さ′くなり、モータの容量
も小さくすることがで、きる利点も生まれる。また製造
コストの面からは従来の様な水冷ダンパが不要となるた
め、構造が簡単となり、安価となる効果が生まれる。
た例えばビームパワー測定装置として組み込む場合、装
置全体が従来のものよりもコンパクトになる利点を生じ
る。さらに回転体の直径を小さくできることから１回転
体の駆動用モータの負荷が小さ′くなり、モータの容量
も小さくすることがで、きる利点も生まれる。また製造
コストの面からは従来の様な水冷ダンパが不要となるた
め、構造が簡単となり、安価となる効果が生まれる。
第１図はこの発明の一実施例によるレーザ光減衰装置を
示す構成図、第２図はこの発明の一実施例によるレーザ
光減衰装置のレーザ光入射による温度上昇を示すグラフ
図、第３図はこの発明の他の実施例に係る回転体の側面
図、第４図は従来のレーザ光減衰装置を示す構成図、第
５図は従来のレーザ光減衰装置の回転体を示す正面図で
ある。 （旧・・回転体、（２）・・・モータ、 ｆｉｌ 、
＋６１・・・レーザ光。 （７）・・・フィン、（ｌ〔・・・開口部。 なお２図中、同一符号は同−又は相当部分を示すＯ
示す構成図、第２図はこの発明の一実施例によるレーザ
光減衰装置のレーザ光入射による温度上昇を示すグラフ
図、第３図はこの発明の他の実施例に係る回転体の側面
図、第４図は従来のレーザ光減衰装置を示す構成図、第
５図は従来のレーザ光減衰装置の回転体を示す正面図で
ある。 （旧・・回転体、（２）・・・モータ、 ｆｉｌ 、
＋６１・・・レーザ光。 （７）・・・フィン、（ｌ〔・・・開口部。 なお２図中、同一符号は同−又は相当部分を示すＯ
Claims (1)
- 開口部をもつ回転体とこの回転体を回転させるモータを
有し、レーザ光を減衰させるものにおいて、上記回転体
に上記レーザ光を吸収する吸収体を用い、かつ上記回転
体の一部に冷却用のフィンを取付けたことを特徴とする
レーザ光減衰装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59255385A JPS61133682A (ja) | 1984-12-03 | 1984-12-03 | レ−ザ光減衰装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59255385A JPS61133682A (ja) | 1984-12-03 | 1984-12-03 | レ−ザ光減衰装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61133682A true JPS61133682A (ja) | 1986-06-20 |
Family
ID=17278021
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59255385A Pending JPS61133682A (ja) | 1984-12-03 | 1984-12-03 | レ−ザ光減衰装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61133682A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1382982A1 (en) * | 2002-07-05 | 2004-01-21 | Agilent Technologies, Inc. | Heating compensated optical device |
| JP4762471B2 (ja) * | 1999-11-11 | 2011-08-31 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | アルミニウム物体よりなる陽極酸化層のマーキング |
-
1984
- 1984-12-03 JP JP59255385A patent/JPS61133682A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4762471B2 (ja) * | 1999-11-11 | 2011-08-31 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | アルミニウム物体よりなる陽極酸化層のマーキング |
| EP1382982A1 (en) * | 2002-07-05 | 2004-01-21 | Agilent Technologies, Inc. | Heating compensated optical device |
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