JPS6113052Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、例えば船舶に据付けられる燃焼ガス
中のすす及び亜硫酸ガスを処理する装置に関する
ものであり、その目的は、船舶の１デツキ間に納
め得るように小型化し得、組立てや据付けを容易
に行なえ、以つて製造コストおよび据付費用を大
巾に低減し得るものの提供にある。

以下本考案の一実施例を図面に基づいて説明す
る。１は円筒箱状の下部ケーシング、２は同様の
上部ケーシングで、両者間には仕切板３が存在す
る。４は上部ケーシング２の天板５と前記仕切板
３とを貫通して設けられたベンチユリーで、両ケ
ーシング１，２と同芯状となる。前記ベンチユリ
ー４は、両ケーシング１，２内に位置するスカー
ト部６と、天板５よりも上方に連なる喉部７と、
さらに上方に連なる入口部８とから構成され、前
記スカート部６の下端が下部ケーシング１の底板
９に定着する。１０は入口部８を囲むように設け
られた注水ヘツダーで、これから分岐した複数本
の降水管１１の先端には、前記喉部７内に開口し
且つベンチユリー軸芯側に向くスプレーノズル１
２が設けられている。前記下部ケーシング１内は
隔壁１３，１４により流入室１５と排出室１６と
に区画されている。前記スカート部６の下端で流
入室１５側にはガス排出孔１７が形成され、この
ガス排出孔１７を囲むように液溜１８が配備され
ている。前記上部ケーシング２内は中間仕切板１
９によつて上下に二分されており、さらに二分さ
れた区画室の夫々はリング２０，２１によつて内
室と外室とに区画されている。区画された夫々の
外室は、その中に渦巻状の帯状板２２，２３を設
けて渦巻状通路２４，２５を形成している。仕切
板３および中間仕切板１９の外周部にはその外周
に沿うように通孔２６，２７を形成し、これら通
孔２６，２７により前記渦巻状通路２４，２５の
始部２４Ａ，２５Ａを前記流入室１５に連通せし
めている。前記渦巻状通路始部２４Ａ，２５Ａに
つづく最外側路中に、上流側に開口する広角円形
型スプレーノズル２８を複数設けている。この広
角円形型スプレーノズル２８は天板５と中間仕切
板１９を貫通して上方から挿入され、例えばゴム
栓２９によつて中間仕切板１９に支持されてい
る。リング２０，２１より内側の内室は環状室３
０に形成され、前記渦巻状通路２４，２５の終部
２４Ｂ，２５Ｂがリング２０，２１に形成したガ
ス通過孔３１，３２を介して該環状室３０に連通
している。この環状室３０には前記ガス通過孔３
１，３２に対向する一対の広角円形型スプレーノ
ズル３３が設けられている。両広角円形型スプレ
ーノズル２８，３３は、天板５上に架台３４を介
して配備して曲形分配管３５に分岐管３６，３７
を介して連通し、また曲形分配管３５は第１枝管
３８を介して供給主管３９に連通している。前記
流入室１５内で通孔２７の近くにも広角円形型ス
プレーノズル４０が配備され、これは第２枝管４
１を介して前記供給主管３９に連通している。前
記広角円形型スプレーノズル３３の背部において
仕切板３に開孔４２が形成され、この開孔４２に
よつて環状室３０と排出室１６とを連通してい
る。また両渦巻状通路２４，２５の終端と前記排
出室１６のドレン内とはドレン管４３，４４によ
り連通されている。前記排出室１６の下部にはド
レン排出口４５が形成され、上部には処理ガス排
出口４６が形成されている。また流入室１５の下
部にはドレン排出口４７が形成され、上部にはガ
ス再循環入口４８が形成されている。前記帯状板
２２，２３、リング２０，２１、中間仕切板１９
の外縁には、天板５、仕切板３、上部ケーシング
２の対向面に接触するゴム成形品４９が装着され
ている。

上記構成において、スプレーノズル１２から
水、海水または苛性ソーダ液を噴出させつつ入口
部８を介して燃焼ガス（ボイラ排ガスなど）Ａを
供給すると、この燃焼ガスＡは、喉部７において
スプレーノズル１２からの噴出液で冷却、除塵さ
れた後、スカート部６を通る間に加速され、ガス
排出孔１７から液溜１８内に吹き出される。この
とき液溜１８には前記スプレーノズル１２からの
噴出液が貯留されているので、ガス排出孔１７か
ら吹き出した燃焼ガスＡは、高速でこの貯溜液に
衝突してこれを気化あるいは霧化させる。前記燃
焼ガスＡはこの衝突で流れ方向が反転せしめら
れ、気化あるいは霧化した液と接触し、未だ除去
されていないすすが除去される。これと同時に燃
焼ガスＡ中の亜硫酸ガスの一部も前記液滴に吸収
されて除去される。燃焼ガスＡは次に、広角円形
型スプレーノズル４０で噴霧された液滴と高速で
接触し、これにより亜硫酸ガスが吸収除去された
のち、通孔２７，２６を通つて渦巻状通路２４，
２５に入る。渦巻状通路２４，２５では広角円形
型スプレーノズル２８から液が噴出されている。
したがつて渦巻状通路２４，２５に入つた燃焼ガ
スＡは噴霧された液滴と高速で接触し、再度亜硫
酸ガスが吸収除去される。渦巻状通路２４，２５
を流れるガスは高速流であつて、そのため微粒液
滴の亜硫酸ガス吸収効率は高く、しかも微粒液滴
はガスに同伴して渦巻状通路２４，２５を移動
し、ガスエネルギの遠心力により渦巻状通路２
４，２５の壁面、すなわち帯状板２２，２３の表
面に薄い液膜を形成する。したがつてガス中の未
反応亜硫酸ガスはこの液膜と接触して吸収され
る。このようにガスは渦巻状通路２４，２５を高
速で通過する間に効率良く脱硫される。亜硫酸ガ
スを吸収した吸収液は随時ドレン管４３，４４よ
り排出室１６に落下し、必要に応じて該排出室１
６からドレン排出口４５を通して排出される。渦
巻状通路２４，２５を通過したガスは、その中心
部からガス通過孔３１，３２を通つて環状室３０
に入る。このとき環状室３０内においては、広角
円形型スプレーノズル３３からガス通過孔３１，
３２に向けて液が噴出されている。したがつて環
状室３０に入つたガスは噴霧された液滴と高速で
接触し、亜硫酸ガスが最終的に吸収除去される。
そしてガスは開孔４２を通つて排出室１６に入
る。その後、処理ガスＢは処理ガス排出口４６か
ら低速で放出される。

上記作用中において環状室３０での噴霧中にベ
ンチユリー４の外壁の冷却が行なわれる。前記帯
状板２２，２３の端部は上部ケーシング２に接近
しているが工作上クリアランスが必要であるた
め、ゴム成形品４９を設けて工作上および気密性
を可能にしている。

以上述べた本考案によると次のような効果を期
待できる。

Γ 従来、渦巻状通路構成部の上方に気液分離室
などを形成するケーシングを設けていたが、本
考案ではこの機能を下部ケーシング内に区画形
成した排出室で持たせることができ、以つて全
体の高さを低くできて船舶の１デツキ間に納め
ることができる。

Γ 渦巻状通路や環状室が最上部に配置されるた
め、各スプレーノズルの取付けを容易に且つ自
由に行なうことができる。

Γ 上述のことから製造コストおよび据付費用を
大巾に低減できる。

【図面の簡単な説明】

図面は本考案の一実施例を示し、第１図は縦断
面図、第２図は第１図における−断面図、第
３図は同−断面図、第４図は要部の縦断面
図、第５図は第４図における部の拡大図であ
る。 １……下部ケーシング、２……上部ケーシン
グ、４……ベンチユリー、８……入口部、１２…
…スプレーノズル、１５……流入室、１６……排
出室、１７……ガス排出孔、１８……液溜、２
０，２１……リング、２２，２３……帯状板、２
４，２５……渦巻状通路、２４Ａ，２５Ａ……始
部、２４Ｂ，２５Ｂ……終部、２６，２７……通
孔、２８……広角円形型スプレーノズル、３０…
…環状室、３１，３２……ガス通過孔、３３……
広角円形型スプレーノズル、４０……広角円形型
スプレーノズル、４２……開孔、Ａ……燃焼ガ
ス、Ｂ……処理ガス。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 流入室と排出室とを区画形成した下部ケーシン
   グと、渦巻状通路を形成した上部ケーシングと、
   両ケーシングの中心部に貫設した燃焼ガスを加速
   して放出するベンチユリーとを有し、このベンチ
   ユリーの下端を液溜を介して前記流入室に連通す
   ると共に該流入室を前記渦巻状通路の始部に連通
   し、この渦巻状通路の終部を、該渦巻状通路とベ
   ンチユリーとの間に形成した環状室に連通すると
   共に、この環状室を前記排出室に連通し、前記ベ
   ンチユリーのガス入口部と渦巻状通路中と環状室
   とに夫々スプレーノズルを介装したことを特徴と
   する燃焼ガス中のすす及び亜硫酸ガスを処理する
   装置。