JPH07102300B2 - ガス吸収塔 - Google Patents
ガス吸収塔Info
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- JPH07102300B2 JPH07102300B2 JP1317705A JP31770589A JPH07102300B2 JP H07102300 B2 JPH07102300 B2 JP H07102300B2 JP 1317705 A JP1317705 A JP 1317705A JP 31770589 A JP31770589 A JP 31770589A JP H07102300 B2 JPH07102300 B2 JP H07102300B2
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- Japan
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- gas
- tower
- absorption
- inner cylinder
- desulfurization
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/02—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography
- B01D53/04—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography with stationary adsorbents
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/46—Removing components of defined structure
- B01D53/48—Sulfur compounds
- B01D53/50—Sulfur oxides
- B01D53/501—Sulfur oxides by treating the gases with a solution or a suspension of an alkali or earth-alkali or ammonium compound
- B01D53/504—Sulfur oxides by treating the gases with a solution or a suspension of an alkali or earth-alkali or ammonium compound characterised by a specific device
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- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えばボイラ廃ガス中に含まれる亜硫酸ガス
（硫黄酸化物）等の特定成分を該廃ガス中から吸収（脱
硫）する脱硫塔等のガス吸収塔に関するものである。
（硫黄酸化物）等の特定成分を該廃ガス中から吸収（脱
硫）する脱硫塔等のガス吸収塔に関するものである。
従来より、例えば石炭焚きボイラの廃ガス中には亜硫酸
ガス（SO2）等の硫黄酸化物が大量に含まれており、酸
性雨等の公害を防止するため、これを大気中に排出する
前に脱硫塔に通して硫黄酸化物を除去している。
ガス（SO2）等の硫黄酸化物が大量に含まれており、酸
性雨等の公害を防止するため、これを大気中に排出する
前に脱硫塔に通して硫黄酸化物を除去している。
このような従来から用いられている硫黄酸化物を吸収除
去するガス吸収塔としての脱硫塔は例えば第６図に示さ
れるような構造とされている。
去するガス吸収塔としての脱硫塔は例えば第６図に示さ
れるような構造とされている。
第６図において、10は一次脱硫塔、20は二次脱硫塔であ
り、廃ガスは一次脱硫塔10にまず供給されて大部分の硫
黄酸化物が除去され、次いで、廃ガスは二次脱硫塔20に
導入され残りの硫黄酸化物がここで所定値まで脱硫され
て除去される。
り、廃ガスは一次脱硫塔10にまず供給されて大部分の硫
黄酸化物が除去され、次いで、廃ガスは二次脱硫塔20に
導入され残りの硫黄酸化物がここで所定値まで脱硫され
て除去される。
一次脱硫塔10は断面矩形状で垂直塔状に形成され、最上
部に廃ガス供給口11が、最下部に廃ガス排出口13（二次
脱硫塔20への導入口）が形成され、この廃ガス排出口13
は二次脱硫塔20の下部へ開口されて接続されている。一
次脱硫塔10は支持脚19によって基礎に固定支持されてい
る。一次脱硫塔10の内部には垂直方向に所定間隔開けて
複数段で吸収液散布ノズル12が多数設けられており、こ
れらのノズル12は廃ガス流と対向されて設けられてい
る。これらのノズル12には二次脱硫塔20の最下部の吸収
液受槽21から配管14、ポンプ15を介して配管16が連結さ
れている。62は配管14のポンプ15の吸込側に設けられた
補給液供給管、17は使用済吸収液の一部を排出し排水処
理へ供給する排出パイプである。
部に廃ガス供給口11が、最下部に廃ガス排出口13（二次
脱硫塔20への導入口）が形成され、この廃ガス排出口13
は二次脱硫塔20の下部へ開口されて接続されている。一
次脱硫塔10は支持脚19によって基礎に固定支持されてい
る。一次脱硫塔10の内部には垂直方向に所定間隔開けて
複数段で吸収液散布ノズル12が多数設けられており、こ
れらのノズル12は廃ガス流と対向されて設けられてい
る。これらのノズル12には二次脱硫塔20の最下部の吸収
液受槽21から配管14、ポンプ15を介して配管16が連結さ
れている。62は配管14のポンプ15の吸込側に設けられた
補給液供給管、17は使用済吸収液の一部を排出し排水処
理へ供給する排出パイプである。
一方、二次脱硫塔20は断面円形状で垂直塔状に形成され
ており、その下部を支持脚35により基礎に固定支持され
ている。前記一次脱硫塔10の廃ガス排出口13の下方位置
における最下部には前記した吸収液受槽21が、その上部
には一次脱硫塔10の廃ガス排出口13の開口部に面して気
液分離室22が設けられている。さらにその上部には上部
の二次脱硫部から落下する吸収液の受槽23が設けられ、
この吸収液受槽23には下端を前記気液分離室22に開口さ
れた複数個のチムニー（煙突）24が垂直方向に貫通して
設けられている。チムニー24にはその上部にガス排出口
が形成された状態で傘24aが設けられ、さらにこの傘24a
にはこれと同様な構造の複数個の小チムニー24bが設け
られている。さらに、この吸収液受槽23の上部にはガス
と吸収液とを接触させるプラスチック等の充填物25が設
けられ、その上方には多数の吸収液散布ノズル31が設け
られている。そして、その上方にはガスに同伴する液滴
などのミストを除去するエリミネータ26が設けられてお
り、塔20の最上部には脱硫されたガスの排出口27が設け
られている。ノズル31には吸収液受槽23から配管28、ポ
ンプ29を介して配管30が連結されている。配管28にはポ
ンプ29の吸込側に補給液供給管32が接続されている。
ており、その下部を支持脚35により基礎に固定支持され
ている。前記一次脱硫塔10の廃ガス排出口13の下方位置
における最下部には前記した吸収液受槽21が、その上部
には一次脱硫塔10の廃ガス排出口13の開口部に面して気
液分離室22が設けられている。さらにその上部には上部
の二次脱硫部から落下する吸収液の受槽23が設けられ、
この吸収液受槽23には下端を前記気液分離室22に開口さ
れた複数個のチムニー（煙突）24が垂直方向に貫通して
設けられている。チムニー24にはその上部にガス排出口
が形成された状態で傘24aが設けられ、さらにこの傘24a
にはこれと同様な構造の複数個の小チムニー24bが設け
られている。さらに、この吸収液受槽23の上部にはガス
と吸収液とを接触させるプラスチック等の充填物25が設
けられ、その上方には多数の吸収液散布ノズル31が設け
られている。そして、その上方にはガスに同伴する液滴
などのミストを除去するエリミネータ26が設けられてお
り、塔20の最上部には脱硫されたガスの排出口27が設け
られている。ノズル31には吸収液受槽23から配管28、ポ
ンプ29を介して配管30が連結されている。配管28にはポ
ンプ29の吸込側に補給液供給管32が接続されている。
このような構造の脱硫塔の作動を説明する。
例えば温度が140〜150℃、SO2濃度1000ppmのボイラー廃
ガスは一次脱硫塔10の廃ガス供給口11から塔10内に供給
され、下方に向かって下降する途中で吸収液散布ノズル
12から散布される吸収液と向流接触して廃ガス中のSO2
などの硫黄酸化物が大部分除去される。この時、廃ガス
中に含まれるフライアッシュなどのダストの除去や廃ガ
スの冷却も行われる。このような作用を受けた廃ガスは
一次脱硫塔10の廃ガス排出口13を出た段階で例えば温度
が60℃、SO2濃度が150ppm程度とされている。一次脱硫
を受けた廃ガスは廃ガス排出口13から二次脱硫塔20内の
気液分離室22に導入され、ここで、気体と液体とに分離
され、液体は最下部の吸収液受槽21に溜められ、気体と
しての廃ガスは塔20の上方へと流れ、チムニー24、小チ
ムニー24bを通過して塔20の断面に均等に分配され、さ
らに上部の充填物25内部に導入される。充填物25内部で
は、上方の吸収液散布ノズル31から散布される吸収液と
廃ガスが均等に接触し、廃ガス中のSO2が例えば40ppm程
度まで除去される。この充填物25を通過して落下した吸
収液は受槽23に受け止められて溜められ、ポンプ29によ
り配管28、30を介してノズル31へと送られて循環使用さ
れる。なお、吸収液受槽23からは吸収液が溢流して下方
の一次脱硫部の吸収液受槽21へ落下する。充填物25で所
定値までSO2を除去された廃ガスはエリミネータ26を通
ってミストを除去された後、排出口27から排出される。
ガスは一次脱硫塔10の廃ガス供給口11から塔10内に供給
され、下方に向かって下降する途中で吸収液散布ノズル
12から散布される吸収液と向流接触して廃ガス中のSO2
などの硫黄酸化物が大部分除去される。この時、廃ガス
中に含まれるフライアッシュなどのダストの除去や廃ガ
スの冷却も行われる。このような作用を受けた廃ガスは
一次脱硫塔10の廃ガス排出口13を出た段階で例えば温度
が60℃、SO2濃度が150ppm程度とされている。一次脱硫
を受けた廃ガスは廃ガス排出口13から二次脱硫塔20内の
気液分離室22に導入され、ここで、気体と液体とに分離
され、液体は最下部の吸収液受槽21に溜められ、気体と
しての廃ガスは塔20の上方へと流れ、チムニー24、小チ
ムニー24bを通過して塔20の断面に均等に分配され、さ
らに上部の充填物25内部に導入される。充填物25内部で
は、上方の吸収液散布ノズル31から散布される吸収液と
廃ガスが均等に接触し、廃ガス中のSO2が例えば40ppm程
度まで除去される。この充填物25を通過して落下した吸
収液は受槽23に受け止められて溜められ、ポンプ29によ
り配管28、30を介してノズル31へと送られて循環使用さ
れる。なお、吸収液受槽23からは吸収液が溢流して下方
の一次脱硫部の吸収液受槽21へ落下する。充填物25で所
定値までSO2を除去された廃ガスはエリミネータ26を通
ってミストを除去された後、排出口27から排出される。
このようなSO2（亜硫酸ガス）の吸収除去に使用される
吸収液は例えばMgSO3（亜硫酸マグネシュウム）、Mg（H
SO3）２〔酸性亜硫酸マグネシュウム）MgSO4（硫酸マグ
ネシュウム）およびH2O（水）からなる混合水溶液であ
り、SO2の吸収には主としてMgSO3が作用する。また混合
水溶液にはMg（OH）２〔水酸化マグネシュウム〕が補給
される。そして、一次脱硫塔10には例えば濃度５％、PH
値5.2の混合水溶液が、二次脱硫塔20には例えば濃度１
％、PH値5.9〜6.2の混合水溶液が使用される。
吸収液は例えばMgSO3（亜硫酸マグネシュウム）、Mg（H
SO3）２〔酸性亜硫酸マグネシュウム）MgSO4（硫酸マグ
ネシュウム）およびH2O（水）からなる混合水溶液であ
り、SO2の吸収には主としてMgSO3が作用する。また混合
水溶液にはMg（OH）２〔水酸化マグネシュウム〕が補給
される。そして、一次脱硫塔10には例えば濃度５％、PH
値5.2の混合水溶液が、二次脱硫塔20には例えば濃度１
％、PH値5.9〜6.2の混合水溶液が使用される。
所定の脱硫性能を確保するためには脱硫部における処理
ガスのガス流速を特に一次脱硫部においては所定の流速
に保たねばならないが、前記したような従来の脱硫塔で
は、一次脱硫塔と二次脱硫塔とが別個に設けられている
ので、装置全体が大きくなることはもとより、特に、多
量の廃ガス量、例えば350,000Nm3/Hrを処理する場合に
は、一次脱硫塔10の断面寸法が2m×4m、二次脱硫塔20の
内径が8mと大型になり、この大型の一次、二次脱硫塔が
それぞれ１塔ずつ、計２塔も必要となり、多量の廃ガス
を処理する場合には装置が大掛かりになり、設置面積を
多く必要とし、配置制限を受けやすいという欠点があ
る。また、二次脱硫塔20にはチムニー24を取り付けた吸
収液受槽23が必要であり、この構造が複雑であり、か
つ、高価なものであるという欠点もある。
ガスのガス流速を特に一次脱硫部においては所定の流速
に保たねばならないが、前記したような従来の脱硫塔で
は、一次脱硫塔と二次脱硫塔とが別個に設けられている
ので、装置全体が大きくなることはもとより、特に、多
量の廃ガス量、例えば350,000Nm3/Hrを処理する場合に
は、一次脱硫塔10の断面寸法が2m×4m、二次脱硫塔20の
内径が8mと大型になり、この大型の一次、二次脱硫塔が
それぞれ１塔ずつ、計２塔も必要となり、多量の廃ガス
を処理する場合には装置が大掛かりになり、設置面積を
多く必要とし、配置制限を受けやすいという欠点があ
る。また、二次脱硫塔20にはチムニー24を取り付けた吸
収液受槽23が必要であり、この構造が複雑であり、か
つ、高価なものであるという欠点もある。
本発明の目的はこのような欠点を除去して、吸収塔を小
型化し、設置面積を多く必要とせず、シンプルな配置を
可能とするなどしたガス吸収塔を提供することにある。
型化し、設置面積を多く必要とせず、シンプルな配置を
可能とするなどしたガス吸収塔を提供することにある。
本発明のガス吸収塔は、 （１） 塔本体の内部の下部と上部にそれぞれ一次吸収
部（一次脱硫部）と二次吸収部（二次脱硫部）とを収容
配置し、該塔下部に配置される一次吸収部を、塔の略中
央部に配置されて塔壁面との間でガス通路を形成し、上
部を該二次吸収部と連通開口され、下部を閉止されて二
次吸収部からの落下吸収液の受槽を形成された内筒と、
該ガス通路に開口するガス導入口と、該ガス導入口から
ガス通路に沿って所定距離隔てた位置でガス通路と連通
されて内筒内へ通じるように内筒側壁に開口されて設け
られたガス流入口と、該内筒へのガス流入口へ到る間の
ガス通路内にガス流れ方向に沿って複数位置に配置した
吸収液散布ノズルと、から構成したものである。また、 （２） 該ガス通路をガス導入口の取付位置から２方向
へ分岐して配し、該ガス流入口をガス導入口とは反対位
置側の内筒側壁に開口して設けると共に、各々のガス通
路をガス流入口で合流させた構成としたものである。ま
た、 （３） 該ガス導入口をガス通路の接線方向に向けて開
口して設け、該ガス流入口を該ガス導入口が位置する側
の内筒側壁に開口して設けた構成にしたものである。
部（一次脱硫部）と二次吸収部（二次脱硫部）とを収容
配置し、該塔下部に配置される一次吸収部を、塔の略中
央部に配置されて塔壁面との間でガス通路を形成し、上
部を該二次吸収部と連通開口され、下部を閉止されて二
次吸収部からの落下吸収液の受槽を形成された内筒と、
該ガス通路に開口するガス導入口と、該ガス導入口から
ガス通路に沿って所定距離隔てた位置でガス通路と連通
されて内筒内へ通じるように内筒側壁に開口されて設け
られたガス流入口と、該内筒へのガス流入口へ到る間の
ガス通路内にガス流れ方向に沿って複数位置に配置した
吸収液散布ノズルと、から構成したものである。また、 （２） 該ガス通路をガス導入口の取付位置から２方向
へ分岐して配し、該ガス流入口をガス導入口とは反対位
置側の内筒側壁に開口して設けると共に、各々のガス通
路をガス流入口で合流させた構成としたものである。ま
た、 （３） 該ガス導入口をガス通路の接線方向に向けて開
口して設け、該ガス流入口を該ガス導入口が位置する側
の内筒側壁に開口して設けた構成にしたものである。
前記（１）項のような構成にすると、吸収塔下部の一次
吸収部のガス導入口から導入される硫黄酸化物等の特定
成分を含んだボイラ廃ガス等のガスは内筒と塔本体壁面
とで形成されるガス流路を通りここでガス流れ方向に沿
って複数位置に配置された吸収液散布ノズルから散布さ
れる吸収液と接触されて冷却、除塵、および所定分の硫
黄酸化物等の特定成分の吸収（脱硫）が行われる。この
ガス通路は充分な容積を確保でき所定のガス流速を確保
しうるので一次吸収作用が確実に行われる。このガス通
路で所定分の特定成分を除去されたガスはガス導入口か
ら所定距離隔てた位置の内筒の側壁に形成されたガス流
入口へと流入され、内筒上部を出て、その上方に位置す
る二次吸収部へと導入されて、最終的な吸収作用を受け
る。また、二次吸収部で吸収作用を終えた吸収液は下方
へ落下し内筒の内部下部の受槽に収容される。
吸収部のガス導入口から導入される硫黄酸化物等の特定
成分を含んだボイラ廃ガス等のガスは内筒と塔本体壁面
とで形成されるガス流路を通りここでガス流れ方向に沿
って複数位置に配置された吸収液散布ノズルから散布さ
れる吸収液と接触されて冷却、除塵、および所定分の硫
黄酸化物等の特定成分の吸収（脱硫）が行われる。この
ガス通路は充分な容積を確保でき所定のガス流速を確保
しうるので一次吸収作用が確実に行われる。このガス通
路で所定分の特定成分を除去されたガスはガス導入口か
ら所定距離隔てた位置の内筒の側壁に形成されたガス流
入口へと流入され、内筒上部を出て、その上方に位置す
る二次吸収部へと導入されて、最終的な吸収作用を受け
る。また、二次吸収部で吸収作用を終えた吸収液は下方
へ落下し内筒の内部下部の受槽に収容される。
しかして、本発明のガス吸収塔では、従来の吸収塔（脱
硫塔）の気液分離室22が位置する部分に一次吸収部が組
み込まれている構成とされているので、塔の全体構造が
シンプルとなり、また従来の吸収塔のようにチムニー24
を取り付け、所定深さ（高さ）を必要とした吸収液受槽
23が不要となり、この分、装置高さを低くでき、装置を
小さくすることができる。また、例えば、前記したよう
な多量の廃ガス量350,000Nm3/Hrを処理する場合でも一
つの塔で行えるものである。
硫塔）の気液分離室22が位置する部分に一次吸収部が組
み込まれている構成とされているので、塔の全体構造が
シンプルとなり、また従来の吸収塔のようにチムニー24
を取り付け、所定深さ（高さ）を必要とした吸収液受槽
23が不要となり、この分、装置高さを低くでき、装置を
小さくすることができる。また、例えば、前記したよう
な多量の廃ガス量350,000Nm3/Hrを処理する場合でも一
つの塔で行えるものである。
そして、前記（２）項のような構成にすると、ガス通路
が二分されるので一次吸収部でのガス流速を遅くでき、
圧力損失を低くできると共にミストがガスからより分離
され易く、二次吸収部へのミストの同伴が少なくされ
る。
が二分されるので一次吸収部でのガス流速を遅くでき、
圧力損失を低くできると共にミストがガスからより分離
され易く、二次吸収部へのミストの同伴が少なくされ
る。
また、前記（３）項のような構成にすると、一次吸収部
におけるガス通路の長さを長くすることができ、このガ
ス通路でガスと吸収液との接触回数を多くとることがで
き、ガス吸収率を良くすることができる。そして、ミス
ト除去区間長さを有効に確保することができるため、二
次吸収部へのミストの同伴量を少なくできる。
におけるガス通路の長さを長くすることができ、このガ
ス通路でガスと吸収液との接触回数を多くとることがで
き、ガス吸収率を良くすることができる。そして、ミス
ト除去区間長さを有効に確保することができるため、二
次吸収部へのミストの同伴量を少なくできる。
第１図および第２図は本発明の第１実施例を説明するも
のであり、第１図は脱硫塔の縦断面図、第２図は第１図
のII〜II線矢視断面（平面）図である。なお、以下の実
施例においては、吸収塔が脱硫塔であり、ガスがボイラ
廃ガスであり、廃ガス中の吸収すべき特定成分が亜硫酸
ガス等の硫黄酸化物である場合を説明する。
のであり、第１図は脱硫塔の縦断面図、第２図は第１図
のII〜II線矢視断面（平面）図である。なお、以下の実
施例においては、吸収塔が脱硫塔であり、ガスがボイラ
廃ガスであり、廃ガス中の吸収すべき特定成分が亜硫酸
ガス等の硫黄酸化物である場合を説明する。
第１図に示すように、脱硫塔40は円筒状塔型に形成され
ており、その下部を支持脚41で基礎に支持固定されてい
る。脱硫塔40の下部分には一次脱硫部（一次吸収部）50
が形成され、その上部に二次脱硫部（二次吸収部）60が
形成されている。そして、二次脱硫部60の上方にはエリ
ミネータ26が位置しており、最上部には廃ガス排出口27
が形成されている。
ており、その下部を支持脚41で基礎に支持固定されてい
る。脱硫塔40の下部分には一次脱硫部（一次吸収部）50
が形成され、その上部に二次脱硫部（二次吸収部）60が
形成されている。そして、二次脱硫部60の上方にはエリ
ミネータ26が位置しており、最上部には廃ガス排出口27
が形成されている。
一次脱硫部50には、第２図にも示すように塔本体40と同
心状に配置され、断面が円形であり所定の高さを有する
内筒51がその壁部上端を截頭逆円錐状の仕切部材51aに
よって塔本体40の内壁に固定されて取り付けられてお
り、内筒51の下部51bは閉塞されて吸収液受槽51cが形成
されている。内筒51の上部は開口されて二次脱硫部60と
連通されている。そして、内筒51と塔本体40壁面との間
には所定の高さを有し、断面が環状の廃ガス通路52、52
が形成され、この通路52、52に面して廃ガス導入口53が
塔本体40の側壁に開口され、この廃ガス導入口53には廃
ガス導入ダクト54が接続されている。この環状通路52は
第２図に示すように廃ガス導入口53から二分されて内筒
51を囲むようにして形成され、廃ガス導入口53から遠ざ
かり所定距離隔てた位置である廃ガス導入口53とは反対
側の内筒51の上部側壁には各々の環状通路52、52を通過
し一次脱硫（吸収）を終えた廃ガスの流入口55が形成さ
れている。各々の環状通路52、52の終端は廃ガス流入口
55で合流されている。この流入口55は所定の高さと幅を
有している。各々の環状通路52、52内には、第２図に示
すように平面視状態でガス流に沿って間隔をおいた複数
位置（本実施例では各通路内に３個所ずつ）に吸収液散
布ノズル12が多数設けられ、また各個所のノズル12は第
１図に示すように高さ方向にも複数段（本実施例では５
段）設けられており、各ノズル12は廃ガス流と対向させ
て設けられている。内筒51の下部51bと塔本体40の底部
との間には一次吸収液の受槽57が形成される。この受槽
57の底部には配管14が接続され、この配管14にはポンプ
15を介して配管16が接続され、さらに配管16は各々のノ
ズル12に分岐されて接続されている。配管14にはポンプ
15の吸込側に補給液供給管62が接続され、配管16には使
用済吸収液の排出管17が接続されている。
心状に配置され、断面が円形であり所定の高さを有する
内筒51がその壁部上端を截頭逆円錐状の仕切部材51aに
よって塔本体40の内壁に固定されて取り付けられてお
り、内筒51の下部51bは閉塞されて吸収液受槽51cが形成
されている。内筒51の上部は開口されて二次脱硫部60と
連通されている。そして、内筒51と塔本体40壁面との間
には所定の高さを有し、断面が環状の廃ガス通路52、52
が形成され、この通路52、52に面して廃ガス導入口53が
塔本体40の側壁に開口され、この廃ガス導入口53には廃
ガス導入ダクト54が接続されている。この環状通路52は
第２図に示すように廃ガス導入口53から二分されて内筒
51を囲むようにして形成され、廃ガス導入口53から遠ざ
かり所定距離隔てた位置である廃ガス導入口53とは反対
側の内筒51の上部側壁には各々の環状通路52、52を通過
し一次脱硫（吸収）を終えた廃ガスの流入口55が形成さ
れている。各々の環状通路52、52の終端は廃ガス流入口
55で合流されている。この流入口55は所定の高さと幅を
有している。各々の環状通路52、52内には、第２図に示
すように平面視状態でガス流に沿って間隔をおいた複数
位置（本実施例では各通路内に３個所ずつ）に吸収液散
布ノズル12が多数設けられ、また各個所のノズル12は第
１図に示すように高さ方向にも複数段（本実施例では５
段）設けられており、各ノズル12は廃ガス流と対向させ
て設けられている。内筒51の下部51bと塔本体40の底部
との間には一次吸収液の受槽57が形成される。この受槽
57の底部には配管14が接続され、この配管14にはポンプ
15を介して配管16が接続され、さらに配管16は各々のノ
ズル12に分岐されて接続されている。配管14にはポンプ
15の吸込側に補給液供給管62が接続され、配管16には使
用済吸収液の排出管17が接続されている。
一方、一次脱硫部50の上方の二次脱硫部60にはプラスッ
ク等の充填物25とその上部に横断して配置された多数の
吸収液散布ノズル31が設けられており、このノズル31は
内筒51下部の受槽51cとの間を配管30、ポンプ29、配管2
8によって接続されている。配管28にはポンプ29の吸込
側に補給液供給管32が接続されている。
ク等の充填物25とその上部に横断して配置された多数の
吸収液散布ノズル31が設けられており、このノズル31は
内筒51下部の受槽51cとの間を配管30、ポンプ29、配管2
8によって接続されている。配管28にはポンプ29の吸込
側に補給液供給管32が接続されている。
次に、第１実施例の作用を説明する。
温度140〜150℃、亜硫酸ガス（SO2）を約1000ppm含有し
たボイラ廃ガスは廃ガス導入ダクト54から廃ガス導入口
53を通って一次脱硫部50に導入され、廃ガスは第２図に
示すように内筒51の作用により内筒51を取り囲むように
二分されて二つの環状通路52、52内を流れ、廃ガス導入
口53とは反対側に形成された内筒51の上部壁部に形成さ
れたガス流入口55へと送られる。この間に各々の環状通
路52、52内では多数のノズル12から前記したと同様な組
成の混合水溶液である吸収液がポンプ29の作用でボイラ
廃ガス流と対向して噴出され、廃ガス中の亜硫酸ガス
（SO2）が例えば150ppm程度になるまで吸収されるとと
もに、廃ガスはフライアッシュ等のダストを除去され、
60℃程度に冷却される。廃ガスを脱硫、冷却し、そのダ
ストを除去した後の吸収液は受槽57に落下して一定レベ
ルに保たれる。受槽57には図示していない液面レベル計
が設置されており、受槽57の液面レベルが液面レベル計
の検出により一定となるように排出管17から使用済吸収
液が抜き出される。環状通路52、52は所要の幅と高さ及
び長さ（円周方向）を形成せしめることが可能であり、
充分な容積が確保され、また、環状通路52、52は二分さ
れて脱硫塔40に導入されるガス量がほぼ半量ずつ各々の
通路52、52を流れるため処理廃ガス量が多くても一次脱
硫部50でのガス流速を遅くすることができ、例えば所定
効率の脱硫（吸収）作用を行わせるに必要な所定のガス
流速（実速度が例えば15〜20m/sec.）を確保することが
でき、処理廃ガス量に対応させて所定の効率の脱硫を行
わせるようにすることができる。従って、ガス通路52、
52でのガス流速を遅くすることができるため、一次脱硫
部50での圧力損失を低くおさえることができ、また、ガ
ス通路52、52で散布された吸収液のミストがこの通路内
で分離されて吸収液受槽57へ回収され易くなるため、二
次脱硫部60へのミスト同伴量を少なくすることができ
る。
たボイラ廃ガスは廃ガス導入ダクト54から廃ガス導入口
53を通って一次脱硫部50に導入され、廃ガスは第２図に
示すように内筒51の作用により内筒51を取り囲むように
二分されて二つの環状通路52、52内を流れ、廃ガス導入
口53とは反対側に形成された内筒51の上部壁部に形成さ
れたガス流入口55へと送られる。この間に各々の環状通
路52、52内では多数のノズル12から前記したと同様な組
成の混合水溶液である吸収液がポンプ29の作用でボイラ
廃ガス流と対向して噴出され、廃ガス中の亜硫酸ガス
（SO2）が例えば150ppm程度になるまで吸収されるとと
もに、廃ガスはフライアッシュ等のダストを除去され、
60℃程度に冷却される。廃ガスを脱硫、冷却し、そのダ
ストを除去した後の吸収液は受槽57に落下して一定レベ
ルに保たれる。受槽57には図示していない液面レベル計
が設置されており、受槽57の液面レベルが液面レベル計
の検出により一定となるように排出管17から使用済吸収
液が抜き出される。環状通路52、52は所要の幅と高さ及
び長さ（円周方向）を形成せしめることが可能であり、
充分な容積が確保され、また、環状通路52、52は二分さ
れて脱硫塔40に導入されるガス量がほぼ半量ずつ各々の
通路52、52を流れるため処理廃ガス量が多くても一次脱
硫部50でのガス流速を遅くすることができ、例えば所定
効率の脱硫（吸収）作用を行わせるに必要な所定のガス
流速（実速度が例えば15〜20m/sec.）を確保することが
でき、処理廃ガス量に対応させて所定の効率の脱硫を行
わせるようにすることができる。従って、ガス通路52、
52でのガス流速を遅くすることができるため、一次脱硫
部50での圧力損失を低くおさえることができ、また、ガ
ス通路52、52で散布された吸収液のミストがこの通路内
で分離されて吸収液受槽57へ回収され易くなるため、二
次脱硫部60へのミスト同伴量を少なくすることができ
る。
二つの環状通路52内で一次脱硫を終えた廃ガスは内筒51
のガス流入口55で合流してここから内筒51内へと流入し
内筒51内を上方へと流れて仕切部材51a部を通過し、そ
の上部の二次脱硫部60へ導入されて充填物25内部へ導入
される。なお、この時、二次脱硫部60へはガスが塔本体
40の中央部に位置する内筒51の内部から上方へと送られ
るので、ガスが塔の断面にわたってほぼ均等に流れるこ
ととなり、従来装置のようにチムニー24、24bを複数個
設けたりしてガスの均等分散化を敢えて行う必要もな
い。充填物25内ではその上部の吸収液散布ノズル31から
ポンプ29の作用で散布される前記と同様な組成の混合水
溶液と効率良く接触されて最終的な脱硫が行われ、充填
物25部を通過した時点で廃ガス中の亜硫酸ガス（SO2）
が例えば40ppm程度になるまで吸収される。この後、廃
ガスはエリミネータ26を通過してミストが除去され、最
上部の廃ガス排出口27から排出される。充填物25から落
下する吸収液は上方に拡径された截頭逆円錐状の仕切部
材51により案内されて内筒51内部に受けられ、その下部
の受槽51cに溜められる。なお、このように本実施例装
置では円筒51の内部の下部に受槽51cが形成されている
ので、従来装置のように吸収液受槽23を塔の内部に別途
設ける必要がなくなり、この分、塔の高さを低くするこ
とが可能になる。受槽51cの貯蔵液の液面はその一部が
前記ガス流入口55から溢流して受槽57へ流下することに
より一定レベルに溜められる。そして受槽51cの吸収液
は配管28、ポンプ29、配管30を経てノズル31へ循環使用
される。また、配管32および62からは適宜、Mg（OH）２
〔水酸化マグネシュウム〕が補給される。なお、一次脱
硫部50および二次脱硫部60で使用される吸収液は前記と
同様に、例えばMgSO3（亜硫酸マグネシュウム）、Mg（H
SO3）２〔酸性亜硫酸マグネシュウム〕、MgSO4（硫酸マ
グネシュウム）およびH2O（水）からなる混合水溶液で
あり、SO2の吸収には主としてMgSO3が作用する。なお、
脱硫（吸収）作用は次のような反応によって行われる。
のガス流入口55で合流してここから内筒51内へと流入し
内筒51内を上方へと流れて仕切部材51a部を通過し、そ
の上部の二次脱硫部60へ導入されて充填物25内部へ導入
される。なお、この時、二次脱硫部60へはガスが塔本体
40の中央部に位置する内筒51の内部から上方へと送られ
るので、ガスが塔の断面にわたってほぼ均等に流れるこ
ととなり、従来装置のようにチムニー24、24bを複数個
設けたりしてガスの均等分散化を敢えて行う必要もな
い。充填物25内ではその上部の吸収液散布ノズル31から
ポンプ29の作用で散布される前記と同様な組成の混合水
溶液と効率良く接触されて最終的な脱硫が行われ、充填
物25部を通過した時点で廃ガス中の亜硫酸ガス（SO2）
が例えば40ppm程度になるまで吸収される。この後、廃
ガスはエリミネータ26を通過してミストが除去され、最
上部の廃ガス排出口27から排出される。充填物25から落
下する吸収液は上方に拡径された截頭逆円錐状の仕切部
材51により案内されて内筒51内部に受けられ、その下部
の受槽51cに溜められる。なお、このように本実施例装
置では円筒51の内部の下部に受槽51cが形成されている
ので、従来装置のように吸収液受槽23を塔の内部に別途
設ける必要がなくなり、この分、塔の高さを低くするこ
とが可能になる。受槽51cの貯蔵液の液面はその一部が
前記ガス流入口55から溢流して受槽57へ流下することに
より一定レベルに溜められる。そして受槽51cの吸収液
は配管28、ポンプ29、配管30を経てノズル31へ循環使用
される。また、配管32および62からは適宜、Mg（OH）２
〔水酸化マグネシュウム〕が補給される。なお、一次脱
硫部50および二次脱硫部60で使用される吸収液は前記と
同様に、例えばMgSO3（亜硫酸マグネシュウム）、Mg（H
SO3）２〔酸性亜硫酸マグネシュウム〕、MgSO4（硫酸マ
グネシュウム）およびH2O（水）からなる混合水溶液で
あり、SO2の吸収には主としてMgSO3が作用する。なお、
脱硫（吸収）作用は次のような反応によって行われる。
Mg（OH）２［補給液］＋SO2＋H2O→MgSO3＋H2O MgSO3＋SO2＋H2O→Mg（HSO3）２ MgSO3＋1/2 O2→MgSO4 そして、一次脱硫部50には例えば濃度５％、PH値5.2の
混合水溶液が、二次脱硫部60には例えば濃度１％、PH値
5.9〜6.2の混合水溶液が使用される。PH値の調整は一次
脱硫部50および二次脱硫部60のそれぞれノズル12手前の
配管16およびノズル31手前の配管30に取り付けられた図
示していないPH計により検出されるそれぞれの吸収液の
PH値に基づいて、それぞれ補給液供給管62および32に設
置された図示していない補給液供給量調整弁の開度を制
御することにより行われる。
混合水溶液が、二次脱硫部60には例えば濃度１％、PH値
5.9〜6.2の混合水溶液が使用される。PH値の調整は一次
脱硫部50および二次脱硫部60のそれぞれノズル12手前の
配管16およびノズル31手前の配管30に取り付けられた図
示していないPH計により検出されるそれぞれの吸収液の
PH値に基づいて、それぞれ補給液供給管62および32に設
置された図示していない補給液供給量調整弁の開度を制
御することにより行われる。
本実施例装置は以上説明したように構成されることによ
り、前記したような多量の廃ガス量、例えば350,000Nm3
/Hrを処理する場合でも内径を8mとした一つの塔で行え
る。
り、前記したような多量の廃ガス量、例えば350,000Nm3
/Hrを処理する場合でも内径を8mとした一つの塔で行え
る。
第３図および第４図は本発明の第２実施例を示すもので
あり、第３図は脱硫塔の縦断面図、第４図は第３図のIV
〜IV線矢視断面（平面）図である。なお、第３図、第４
図において、第１図、第２図と同一部分または相当する
部分は同一符号を付しその説明は省略する。
あり、第３図は脱硫塔の縦断面図、第４図は第３図のIV
〜IV線矢視断面（平面）図である。なお、第３図、第４
図において、第１図、第２図と同一部分または相当する
部分は同一符号を付しその説明は省略する。
この実施例は、第４図に示すように、一次脱硫部50のガ
ス通路72を１本の環状通路に形成し、ガス導入口70をこ
の環状通路72の接線方向に向けて開口させて設け、二次
脱硫部60へ通じるガス流入口73をガス導入口70が位置す
る部分の内筒51の側壁に開口して設けたものである。即
ち、第４図に示すようにガス流入口73はガス導入ダクト
71の内側の側壁と内筒51の側壁と接合部分に形成されて
いる。なお、ガス導入ダクト71の内側の側壁は、内筒51
の側壁と塔本体壁面とに吸収液受槽57の吸収液液面下ま
で伸ばされ状態で接合されている。このため、ガス導入
ダクト71から導入されるガスと二次脱硫部60へ通じるガ
ス流入口73のガスは完全に分離され混合することはな
い。そして、吸収液散布ノズル12がガス通路72内でガス
導入口70側に寄せた位置の所定範囲内で所定間隔開けて
配置されて設けられている。
ス通路72を１本の環状通路に形成し、ガス導入口70をこ
の環状通路72の接線方向に向けて開口させて設け、二次
脱硫部60へ通じるガス流入口73をガス導入口70が位置す
る部分の内筒51の側壁に開口して設けたものである。即
ち、第４図に示すようにガス流入口73はガス導入ダクト
71の内側の側壁と内筒51の側壁と接合部分に形成されて
いる。なお、ガス導入ダクト71の内側の側壁は、内筒51
の側壁と塔本体壁面とに吸収液受槽57の吸収液液面下ま
で伸ばされ状態で接合されている。このため、ガス導入
ダクト71から導入されるガスと二次脱硫部60へ通じるガ
ス流入口73のガスは完全に分離され混合することはな
い。そして、吸収液散布ノズル12がガス通路72内でガス
導入口70側に寄せた位置の所定範囲内で所定間隔開けて
配置されて設けられている。
このように、一次脱硫部50のガス通路72を形成すると、
ガス通路が長くなると共にガスは１個の通路を流れるた
め、吸収液との接触回数が多くとれ、ガスの吸収率を良
くすることができる。そして、第４図においてガス流れ
方向で最も下流位置にあるノズル12とガス流入口73との
間のガス通路72を符号MEで示すようにミスト除去区間と
して確保できるので、一次脱硫部50でのミスト除去も良
好となり、二次脱硫部60へのミスト同伴量を少なくする
ことができる。
ガス通路が長くなると共にガスは１個の通路を流れるた
め、吸収液との接触回数が多くとれ、ガスの吸収率を良
くすることができる。そして、第４図においてガス流れ
方向で最も下流位置にあるノズル12とガス流入口73との
間のガス通路72を符号MEで示すようにミスト除去区間と
して確保できるので、一次脱硫部50でのミスト除去も良
好となり、二次脱硫部60へのミスト同伴量を少なくする
ことができる。
以上の第１、第２実施例の吸収塔に加えて、第５図に示
したように内筒51の上端と充填物25の間の空間に、内筒
51から上昇し二次脱硫部60へ導入されるガス分散装置80
を設けることもできる。このガス分散装置80は断面に所
定数均等に分散させて開口するガス通過口81aを形成し
た下部プレート81と、該ガス通過口81aの上部に位置し
多数のガス通過口82aを開設した複数個の上部プレート8
2から構成され、内筒51から排出されたガスが下部プレ
ート81のそれぞれのガス通過口81aへ分配導入され、更
に、上部へ流れて上部プレート82の多数のガス通過口82
aや上部プレート82同士の間を通過して、断面均等にガ
スが分散され、上部の二次脱硫部60の充填物25へ均等量
のガスが供給される。このため、充填物25での二次脱硫
（吸収）効率をより良好に行わせるようにすることがで
きる。二次脱硫部60からの落下吸収液はガス分散装置80
のガス通過口82a、81a等を通って内筒51内へ落下しその
吸収液受槽51cへ溜められる。このようにした場合で
も、従来装置が有していた第６図における吸収液受槽23
は必要ではなく、この分、吸収塔高さを低くでき、吸収
塔を小型化することができる。
したように内筒51の上端と充填物25の間の空間に、内筒
51から上昇し二次脱硫部60へ導入されるガス分散装置80
を設けることもできる。このガス分散装置80は断面に所
定数均等に分散させて開口するガス通過口81aを形成し
た下部プレート81と、該ガス通過口81aの上部に位置し
多数のガス通過口82aを開設した複数個の上部プレート8
2から構成され、内筒51から排出されたガスが下部プレ
ート81のそれぞれのガス通過口81aへ分配導入され、更
に、上部へ流れて上部プレート82の多数のガス通過口82
aや上部プレート82同士の間を通過して、断面均等にガ
スが分散され、上部の二次脱硫部60の充填物25へ均等量
のガスが供給される。このため、充填物25での二次脱硫
（吸収）効率をより良好に行わせるようにすることがで
きる。二次脱硫部60からの落下吸収液はガス分散装置80
のガス通過口82a、81a等を通って内筒51内へ落下しその
吸収液受槽51cへ溜められる。このようにした場合で
も、従来装置が有していた第６図における吸収液受槽23
は必要ではなく、この分、吸収塔高さを低くでき、吸収
塔を小型化することができる。
なお、以上の説明ではガス吸収塔が、ボイラ廃ガスに含
まれる硫黄酸化物を特定成分として吸収（脱硫）する脱
硫塔である場合を説明したが、本発明では勿論、他種の
ガスの特定成分を吸収する一般の吸収塔としても適用で
きるものである。
まれる硫黄酸化物を特定成分として吸収（脱硫）する脱
硫塔である場合を説明したが、本発明では勿論、他種の
ガスの特定成分を吸収する一般の吸収塔としても適用で
きるものである。
以上の説明から明らかなように、本発明は、請求項
（１）の構成にすることにより、ガス吸収塔を小型化す
ることができる。従って、多量のガスを処理する場合で
も、ガス吸収塔の設置面積を少なくすることができ、シ
ンプルな配置が可能となる。そして、一次吸収部におい
ては内筒と塔本体との間に充分な容積を確保しうるガス
通路を形成させることができるので、ガス中の特定成分
の吸収に必要な所定のガス流速を確保することができ、
吸収作用を確実に行わせることができる。また、 請求項（２）の構成にすることにより、ガス通路が二分
されるので一次吸収部でのガス流速を遅くでき、圧力損
失を低くできると共にミストがガスからより分離され易
く、二次吸収部へのミストの同伴量を少なくすることが
できる。そして、 請求項（３）の構成にすることにより、一次吸収部にお
けるガス通路の長さを長くすることができ、このガス通
路でガスと吸収液との接触回数を多くとることができ、
ガス吸収率を良くすることができる。そして、ミスト除
去区間長さを有効に確保することができるため、二次吸
収部へのミストの同伴量を少なくできる。
（１）の構成にすることにより、ガス吸収塔を小型化す
ることができる。従って、多量のガスを処理する場合で
も、ガス吸収塔の設置面積を少なくすることができ、シ
ンプルな配置が可能となる。そして、一次吸収部におい
ては内筒と塔本体との間に充分な容積を確保しうるガス
通路を形成させることができるので、ガス中の特定成分
の吸収に必要な所定のガス流速を確保することができ、
吸収作用を確実に行わせることができる。また、 請求項（２）の構成にすることにより、ガス通路が二分
されるので一次吸収部でのガス流速を遅くでき、圧力損
失を低くできると共にミストがガスからより分離され易
く、二次吸収部へのミストの同伴量を少なくすることが
できる。そして、 請求項（３）の構成にすることにより、一次吸収部にお
けるガス通路の長さを長くすることができ、このガス通
路でガスと吸収液との接触回数を多くとることができ、
ガス吸収率を良くすることができる。そして、ミスト除
去区間長さを有効に確保することができるため、二次吸
収部へのミストの同伴量を少なくできる。
第１図および第２図は本発明の第１実施例を示すもので
あり、第１図は脱硫塔の縦断面図、第２図は第１図のII
〜II線矢視断面（平面）図、第３図および第４図は本発
明の第２実施例を示すものであり、第３図は脱硫塔の縦
断面図、第４図は第３図のIV〜IV線矢視断面（平面）
図、第５図は本発明の更に他の実施例を示すものであり
ガス分散装置を設置した脱硫塔の要部縦断面図、第６図
は従来の脱硫塔を示す縦断面図である。 12……吸収液散布ノズル（一次脱硫部）、25……充填
物、31……吸収液散布ノズル（二次脱硫部）、26……エ
リミネータ、27……廃ガス排出口、40……脱硫塔本体、
50……一次脱硫部、60……二次脱硫部、51……内筒、5
2、72……環状通路、53、70……ガス導入口、54、71…
…廃ガス導入ダクト、55、73……ガス流入口（内筒）、
51c、57……吸収液受槽、80……ガス分散装置。
あり、第１図は脱硫塔の縦断面図、第２図は第１図のII
〜II線矢視断面（平面）図、第３図および第４図は本発
明の第２実施例を示すものであり、第３図は脱硫塔の縦
断面図、第４図は第３図のIV〜IV線矢視断面（平面）
図、第５図は本発明の更に他の実施例を示すものであり
ガス分散装置を設置した脱硫塔の要部縦断面図、第６図
は従来の脱硫塔を示す縦断面図である。 12……吸収液散布ノズル（一次脱硫部）、25……充填
物、31……吸収液散布ノズル（二次脱硫部）、26……エ
リミネータ、27……廃ガス排出口、40……脱硫塔本体、
50……一次脱硫部、60……二次脱硫部、51……内筒、5
2、72……環状通路、53、70……ガス導入口、54、71…
…廃ガス導入ダクト、55、73……ガス流入口（内筒）、
51c、57……吸収液受槽、80……ガス分散装置。
Claims (3)
- 【請求項１】ガス中の特定成分を一次吸収部と二次吸収
部とで吸収するガス吸収塔において、吸収塔内部の下部
と上部にそれぞれ一次吸収部と二次吸収部とを収容配置
し、該一次吸収部を、塔の略中央部に配置されて塔壁面
との間でガス通路を形成し、上部を該二次吸収部と連通
開口され、下部を閉止されて二次吸収部からの落下吸収
液の受槽を形成された内筒と、該ガス通路に開口するガ
ス導入口と、該ガス導入口からガス通路に沿って所定距
離隔てた位置でガス通路と連通されて内筒内へ通じるよ
うに内筒側壁に開口されて設けられたガス流入口と、該
内筒へのガス流入口へ到る間のガス通路内にガス流れ方
向に沿って複数位置に配置した吸収液散布ノズルと、か
ら構成したことを特徴とするガス吸収塔。 - 【請求項２】該ガス通路をガス導入口の取付位置から２
方向へ分岐して配し、該ガス流入口をガス導入口とは反
対位置側の内筒側壁に開口して設けると共に、各々のガ
ス通路をガス流入口で合流させたことを特徴とする請求
項（１）のガス吸収塔。 - 【請求項３】該ガス導入口をガス通路の接線方向に向け
て開口して設け、該ガス流入口を該ガス導入口が位置す
る側の内筒側壁に開口して設けたことを特徴とする請求
項（１）のガス吸収塔。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1317705A JPH07102300B2 (ja) | 1989-02-07 | 1989-12-08 | ガス吸収塔 |
| US07/470,629 US4968335A (en) | 1989-02-07 | 1990-01-26 | Gas absorption tower |
| DE4003370A DE4003370A1 (de) | 1989-02-07 | 1990-02-05 | Gasabsorptionsturm |
| KR1019900001449A KR930006401B1 (ko) | 1989-02-07 | 1990-02-07 | 가스 흡착 탑 |
| CN90100598A CN1019271B (zh) | 1989-02-07 | 1990-02-07 | 气体吸收塔 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2671089 | 1989-02-07 | ||
| JP1-26710 | 1989-02-07 | ||
| JP1317705A JPH07102300B2 (ja) | 1989-02-07 | 1989-12-08 | ガス吸収塔 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02290218A JPH02290218A (ja) | 1990-11-30 |
| JPH07102300B2 true JPH07102300B2 (ja) | 1995-11-08 |
Family
ID=26364520
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1317705A Expired - Lifetime JPH07102300B2 (ja) | 1989-02-07 | 1989-12-08 | ガス吸収塔 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4968335A (ja) |
| JP (1) | JPH07102300B2 (ja) |
| KR (1) | KR930006401B1 (ja) |
| CN (1) | CN1019271B (ja) |
| DE (1) | DE4003370A1 (ja) |
Families Citing this family (22)
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