JPS6113006Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6113006Y2 JPS6113006Y2 JP10540978U JP10540978U JPS6113006Y2 JP S6113006 Y2 JPS6113006 Y2 JP S6113006Y2 JP 10540978 U JP10540978 U JP 10540978U JP 10540978 U JP10540978 U JP 10540978U JP S6113006 Y2 JPS6113006 Y2 JP S6113006Y2
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- JP
- Japan
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- ion beam
- sample
- irradiation
- scattered
- irradiation device
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- Expired
Links
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- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 8
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Landscapes
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
生物へのイオンビームの照射は細飽の致死効
果、突然変異効果、DNA鎖切断などの分子レベ
ルでの損傷に関し様々な知見が集積されつつあ
る。特に重イオンビームは速中性子線やπ−中間
子と共にそのエネルギー付与の特色を利用して悪
性腫瘍の治療に用いられている。
果、突然変異効果、DNA鎖切断などの分子レベ
ルでの損傷に関し様々な知見が集積されつつあ
る。特に重イオンビームは速中性子線やπ−中間
子と共にそのエネルギー付与の特色を利用して悪
性腫瘍の治療に用いられている。
本考案はこの様な生物用イオンビーム照射装置
に係るものであり、試料照射時間の短縮と照射の
均一性を向上する事を目的とする。以下第１，
２，３図で従来使用されている生物用イオンビー
ム照射装置の概略を述べ、第５図に本考案による
生物用イオンビーム照射装置を示し、その特徴を
述べる。
に係るものであり、試料照射時間の短縮と照射の
均一性を向上する事を目的とする。以下第１，
２，３図で従来使用されている生物用イオンビー
ム照射装置の概略を述べ、第５図に本考案による
生物用イオンビーム照射装置を示し、その特徴を
述べる。
第１図に於て、加速器で加速され集束系を通過
したイオンビーム２はコースの末端に近い所でス
リツト１，１′によつて更に絞られ、極めて薄い
金属の散乱箔３にて散乱する。散乱ビーム中の主
ビーム２′は真空窓４を通つて空気中に取り出さ
れ生物試料の照射に使用される。ここに５は固体
検出器であり、１″はスリツトである。
したイオンビーム２はコースの末端に近い所でス
リツト１，１′によつて更に絞られ、極めて薄い
金属の散乱箔３にて散乱する。散乱ビーム中の主
ビーム２′は真空窓４を通つて空気中に取り出さ
れ生物試料の照射に使用される。ここに５は固体
検出器であり、１″はスリツトである。
この従来の生物用イオンビーム照射装置では被
照射試料全体に点状の主ビーム２′を均一に照射
するために、第２図に示すように試料ホルダー７
の支持体８を主ビームの進行方向に垂直な平面内
で上下させながらその面内で一方向に移動させて
試料をビームで均一に走査させる。又は、第３図
に示すように、主ビームの進行方向に垂直な平面
内で試料ホルダー７の支持体８を回転させながら
回転中心をその平面内で一方向にずらして試料を
ビームで均一に走査させる。
照射試料全体に点状の主ビーム２′を均一に照射
するために、第２図に示すように試料ホルダー７
の支持体８を主ビームの進行方向に垂直な平面内
で上下させながらその面内で一方向に移動させて
試料をビームで均一に走査させる。又は、第３図
に示すように、主ビームの進行方向に垂直な平面
内で試料ホルダー７の支持体８を回転させながら
回転中心をその平面内で一方向にずらして試料を
ビームで均一に走査させる。
しかしこれらの従来装置では照射時間を選定し
て照射量を調整することも、主ビームの強度を制
御して照射量を調整することもできなかつた。
て照射量を調整することも、主ビームの強度を制
御して照射量を調整することもできなかつた。
本考案はこの様な従来技術の改良を試みたもの
で、強度の大きい点状の主ビームを照射に用いる
のではなく、強度の小さい面状に広がる散乱ビー
ムを照射に使用し、試料照射時間の短縮と照射の
均一性を向上させる事を目的とする。
で、強度の大きい点状の主ビームを照射に用いる
のではなく、強度の小さい面状に広がる散乱ビー
ムを照射に使用し、試料照射時間の短縮と照射の
均一性を向上させる事を目的とする。
この目的は本考案に従つてイオンビームを散乱
するための金属箔この金属箔を通過し散乱したイ
オンビームを受ける位置に、同心円上に配置され
た複数の回転試料ホルダー及びこれらのホルダー
に駆動機構を介して接続されたホルダーを回転す
るモータを備えているイオンビーム照射装置によ
り達成される。
するための金属箔この金属箔を通過し散乱したイ
オンビームを受ける位置に、同心円上に配置され
た複数の回転試料ホルダー及びこれらのホルダー
に駆動機構を介して接続されたホルダーを回転す
るモータを備えているイオンビーム照射装置によ
り達成される。
第５図ａは本考案によるイオンビーム照射装置
の縦断面図であり、第５図ｂはイオンビーム照射
装置の端面図である。
の縦断面図であり、第５図ｂはイオンビーム照射
装置の端面図である。
第５図ａに示すように、加速器で加速され、集
束系を通過したイオンビーム２はスリツト１，
１′によつて絞られ、全属箔３に衝突して真空チ
エンバー１０内で散乱する。この真空チエンバー
の端に静止支持板８を固定し、この支持板上で散
乱イオンビームを受ける位置に同心円上に複数の
回転試料ホルダー７を配置する。これらのホルダ
ーは周縁に歯車状の溝を有し、ホルダー相互と係
合している。ホルダーの一つは遊動歯車１２とモ
ーターの駆動歯車１１とを介してモーター６に接
続されている。試料ホルダー７の中心には試料カ
プセルを収納する孔が設けられている。支持板８
には散乱ビームを測定するためのフアラデイカツ
プ１３も設けられている。
束系を通過したイオンビーム２はスリツト１，
１′によつて絞られ、全属箔３に衝突して真空チ
エンバー１０内で散乱する。この真空チエンバー
の端に静止支持板８を固定し、この支持板上で散
乱イオンビームを受ける位置に同心円上に複数の
回転試料ホルダー７を配置する。これらのホルダ
ーは周縁に歯車状の溝を有し、ホルダー相互と係
合している。ホルダーの一つは遊動歯車１２とモ
ーターの駆動歯車１１とを介してモーター６に接
続されている。試料ホルダー７の中心には試料カ
プセルを収納する孔が設けられている。支持板８
には散乱ビームを測定するためのフアラデイカツ
プ１３も設けられている。
真空室１０の真空を保持するため窓１４はアル
ミ箔で閉じられている。真空室１０の端面と支持
板８との間の空間にシヤツタ板１５が挿入される
ようになつている。
ミ箔で閉じられている。真空室１０の端面と支持
板８との間の空間にシヤツタ板１５が挿入される
ようになつている。
本考案のイオンビーム照射装置の作動に当つて
は、先ず試料を入れた試料カプセルを回転試料ホ
ルダー７に装填する。シヤツター１５を開き、モ
ーター６によつて回転駆動されている回転ホルダ
ー７に窓１４を通過してきた散乱ビームを照射す
る。シヤツター１５を閉じることによつて照射を
終る。
は、先ず試料を入れた試料カプセルを回転試料ホ
ルダー７に装填する。シヤツター１５を開き、モ
ーター６によつて回転駆動されている回転ホルダ
ー７に窓１４を通過してきた散乱ビームを照射す
る。シヤツター１５を閉じることによつて照射を
終る。
第４図は回転試料ホルダー上のビーム強度を示
している。このグラフは散乱したイオンビーム強
度を、ビーム中心からの距離について測定し、ビ
ームの中心におけるビームの強度で規格化したも
のである。このグラフから明らかなように、ビー
ムの中心から離れるに従つて相対ビーム強度は低
くなつている。
している。このグラフは散乱したイオンビーム強
度を、ビーム中心からの距離について測定し、ビ
ームの中心におけるビームの強度で規格化したも
のである。このグラフから明らかなように、ビー
ムの中心から離れるに従つて相対ビーム強度は低
くなつている。
本考案の装置において試料は同心円上に配置さ
れており、このため中心に近い試料程ビーム強度
の大きいビームにさらされ、中心から離れて配置
されている試料程ビーム強度の小さいビームにさ
らされることになる。従つて線量は中心からの距
離と照射時間の関数として所望の値に選定するこ
とができる。又、各試料は同心円上の一点で回転
しているのでビームの均一照射をうけることがで
きる。
れており、このため中心に近い試料程ビーム強度
の大きいビームにさらされ、中心から離れて配置
されている試料程ビーム強度の小さいビームにさ
らされることになる。従つて線量は中心からの距
離と照射時間の関数として所望の値に選定するこ
とができる。又、各試料は同心円上の一点で回転
しているのでビームの均一照射をうけることがで
きる。
第１図は従来のイオンビーム照射装置の主ビー
ム引き出し系の説明図、第２，３図は従来方法に
よるビームの均一照射を説明する図、第４図は散
乱ビームの強度実測図、第５図ａ，ｂは本考案に
よるイオンビーム照射装置の縦断面図と端面図と
である。 １，１′，１″・・スリツト、２，２′，２″・・
イオンビーム、３・・金属箔、６・・駆動モータ
ー、７・・回転試料ホルダー、８・・支持体又は
支持板、１０・・真空チエンバー、１１・・駆動
歯車、１２・・遊動歯車、１３・・フアラデイカ
ツプ。
ム引き出し系の説明図、第２，３図は従来方法に
よるビームの均一照射を説明する図、第４図は散
乱ビームの強度実測図、第５図ａ，ｂは本考案に
よるイオンビーム照射装置の縦断面図と端面図と
である。 １，１′，１″・・スリツト、２，２′，２″・・
イオンビーム、３・・金属箔、６・・駆動モータ
ー、７・・回転試料ホルダー、８・・支持体又は
支持板、１０・・真空チエンバー、１１・・駆動
歯車、１２・・遊動歯車、１３・・フアラデイカ
ツプ。
Claims (1)
- イオンビームを散乱するための金属箔、この金
属箔を通過し散乱したイオンビームをうける位置
に同心円上に配置された複数の回転試料ホルダー
及びこれらのホルダーに駆動機構を介して接続さ
れてホルダーを回転するモーターを備えているこ
とを特徴とするイオンビーム照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10540978U JPS6113006Y2 (ja) | 1978-07-31 | 1978-07-31 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10540978U JPS6113006Y2 (ja) | 1978-07-31 | 1978-07-31 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5521779U JPS5521779U (ja) | 1980-02-12 |
| JPS6113006Y2 true JPS6113006Y2 (ja) | 1986-04-22 |
Family
ID=29047646
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10540978U Expired JPS6113006Y2 (ja) | 1978-07-31 | 1978-07-31 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6113006Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58100350A (ja) * | 1981-12-08 | 1983-06-15 | Mitsubishi Electric Corp | イオン注入装置 |
| JP5047083B2 (ja) * | 2008-07-11 | 2012-10-10 | 株式会社日立製作所 | 粒子線治療システム |
-
1978
- 1978-07-31 JP JP10540978U patent/JPS6113006Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5521779U (ja) | 1980-02-12 |
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