JPS61114757U - - Google Patents

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JPS61114757U
JPS61114757U JP19935084U JP19935084U JPS61114757U JP S61114757 U JPS61114757 U JP S61114757U JP 19935084 U JP19935084 U JP 19935084U JP 19935084 U JP19935084 U JP 19935084U JP S61114757 U JPS61114757 U JP S61114757U
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backscattered
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JP19935084U
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  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の一実施例を示す断面図、第２
図は本考案に使用される冷却トラツプの平面図で
ある。 １：試料室、２：試料、３：対物レンズ、４：
電子線、５，６：反射型対物レンズ、７：ガラス
板、８：反射電子検出器、９：分光結晶、１０：
冷却トラツプ、１１：熱伝導棒、１２：液体窒素
、１３：冷却槽、１４，１５：第１、第２の穴、
１６ａ乃至１６ｃ：穴、１７：外槽、１９：ハン
ドル、２０：窪み、２２：スプリング、２３：ボ
ール。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 試料上に電子線を細く集束して照射するための
    対物レンズと、前記試料からの光を電子線通路を
    通して取出し試料の光学像を観察するための光学
    顕微鏡と、前記電子線照射により試料から発生す
    る特性Ｘ線を分析するための少なくとも１組のＸ
    線分光器と、前記電子線照射により試料から発生
    する反射電子を検出するために対物レンズと試料
    との間に電子線通路を避けて配置された反射電子
    検出器と、前記試料近傍のガス分子を吸着するた
    めに前記反射電子検出器と試料との間に置かれた
    冷却トラツプとを備え、前記冷却トラツプに大き
    な径を有する第１の穴とこの第１の穴から離れた
    位置に形成された小さい径を有する第２の穴を夫
    々設け、該第２の穴の近傍にＸ線通過用の少なく
    とも１個の穴を設け、前記冷却トラツプを移動し
    て第１の穴と第２の穴とを選択的に電子線通路上
    に配置するための手段を設け、前記第１の穴が電
    子線通路上に置かれたとき試料の光学像や反射電
    子走査像の観察が行われるようになし、また第２
    の穴が電子線通路上に置かれたときＸ線分光のみ
    が行われるようになしたことを特徴とするＸ線マ
    イクロアナライザー。
JP19935084U 1984-12-28 1984-12-28 Expired JPH02843Y2 (ja)

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JP19935084U JPH02843Y2 (ja) 1984-12-28 1984-12-28

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JP19935084U JPH02843Y2 (ja) 1984-12-28 1984-12-28

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JPS61114757U true JPS61114757U (ja) 1986-07-19
JPH02843Y2 JPH02843Y2 (ja) 1990-01-10

Family

ID=30759190

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JP (1) JPH02843Y2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11264900A (ja) * 1998-01-09 1999-09-28 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 汚染防止手段を有する荷電粒子ビ―ム装置
WO2007119873A1 (ja) * 2006-04-12 2007-10-25 Hitachi High-Technologies Corporation 走査型電子顕微鏡

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11264900A (ja) * 1998-01-09 1999-09-28 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 汚染防止手段を有する荷電粒子ビ―ム装置
WO2007119873A1 (ja) * 2006-04-12 2007-10-25 Hitachi High-Technologies Corporation 走査型電子顕微鏡
JPWO2007119873A1 (ja) * 2006-04-12 2009-08-27 株式会社日立ハイテクノロジーズ 走査型電子顕微鏡

Also Published As

Publication number Publication date
JPH02843Y2 (ja) 1990-01-10

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