JPS62133338A - ルミネツセンス測定装置 - Google Patents
ルミネツセンス測定装置Info
- Publication number
- JPS62133338A JPS62133338A JP27438885A JP27438885A JPS62133338A JP S62133338 A JPS62133338 A JP S62133338A JP 27438885 A JP27438885 A JP 27438885A JP 27438885 A JP27438885 A JP 27438885A JP S62133338 A JPS62133338 A JP S62133338A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- luminescence
- electron beam
- sample
- laser
- laser beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(1)発明の属する分野の説明
本発明は、半導体結晶に対して電子線およびレーザ光線
を照射し、その照射によって生ずる光(ルミネッセンス
)のスペクトルおよびその強度を測定し、そのスペクト
ルの成因である不純物、格子欠陥およびその複合体を固
定することによって半導体結晶の品質を解析するルミネ
ッセンス測定装置に関するものである。
を照射し、その照射によって生ずる光(ルミネッセンス
)のスペクトルおよびその強度を測定し、そのスペクト
ルの成因である不純物、格子欠陥およびその複合体を固
定することによって半導体結晶の品質を解析するルミネ
ッセンス測定装置に関するものである。
(2)従来の技術の説明
従来のルミネッセンス測定装置の主なものとして、フォ
トルミネッセンス装置とカソードルミネッセンス装置と
がある。
トルミネッセンス装置とカソードルミネッセンス装置と
がある。
フォトルミネッセンス装置は極低温状態の試料にレーザ
光線を照射してルミネッセンスを測定するものであり、
これらは、レーザ発生装置、液体He冷却タライオスク
ット9分光器などから構成される装置的には試料を真空
内に設置する必要がないことから、上記構成部品の組み
合わせによって容易に組み立てることができる。
光線を照射してルミネッセンスを測定するものであり、
これらは、レーザ発生装置、液体He冷却タライオスク
ット9分光器などから構成される装置的には試料を真空
内に設置する必要がないことから、上記構成部品の組み
合わせによって容易に組み立てることができる。
これに対して、カソードルミネッセンス装置は真空内に
試料を設置し、試料に電子線を照射してルミネッセンス
を測定するものであり、電子銃。
試料を設置し、試料に電子線を照射してルミネッセンス
を測定するものであり、電子銃。
真空容器1分光器などから構成される装置的には真空内
に試料を設置すること、真空容器内で発生したルミネッ
センスを大気中に導出しなければならないことなどから
カソードルミネッセンス装置の組み立ては比較的困難で
ある。
に試料を設置すること、真空容器内で発生したルミネッ
センスを大気中に導出しなければならないことなどから
カソードルミネッセンス装置の組み立ては比較的困難で
ある。
カソードルミネッセンス装置は、電子ビームの収束が容
易なことからミクロ領域の測定が可能であり、かつ、電
子ビームの二次元スキャンによるカソードルミネッセン
ス像の測定が容易であるという特徴を有しているが、フ
ォトルミネッセンス装置の利用に比べてカソードルミネ
ッセンス装置の利用は装置的な制約のため非常に少ない
。また。
易なことからミクロ領域の測定が可能であり、かつ、電
子ビームの二次元スキャンによるカソードルミネッセン
ス像の測定が容易であるという特徴を有しているが、フ
ォトルミネッセンス装置の利用に比べてカソードルミネ
ッセンス装置の利用は装置的な制約のため非常に少ない
。また。
カソードルミネッセンス測定での試料温度は室温あるい
は液体窒素冷却が主である。
は液体窒素冷却が主である。
このような状況から、カソードルミネッセンス測定とフ
ォトルミネッセンス測定とを同一の装置で実現するため
には、レーザ発生装置、液体He冷却クライオスタンド
、電子銃、真空容器、ルミネッセンスを大気中に導出す
る光学系、および。
ォトルミネッセンス測定とを同一の装置で実現するため
には、レーザ発生装置、液体He冷却クライオスタンド
、電子銃、真空容器、ルミネッセンスを大気中に導出す
る光学系、および。
分光器などが必要であるが、従来のルミネッセンス装置
には上記構成部品を同時に具備した装置はない。
には上記構成部品を同時に具備した装置はない。
カソードルミネッセンス測定とフォトルミネッセンス測
定とから得られる半導体結晶品質の情報はかならずしも
一致せず、むしろカソードルミネッセンス測定のデータ
とフォトルミネッセンス測定のデータとは半導体結晶評
価において相補的な関係にある場合もある。このために
試料の同じ位置におけるカソードルミネッセンス測定と
フォトルミネッセンス測定とが要求されることがあり。
定とから得られる半導体結晶品質の情報はかならずしも
一致せず、むしろカソードルミネッセンス測定のデータ
とフォトルミネッセンス測定のデータとは半導体結晶評
価において相補的な関係にある場合もある。このために
試料の同じ位置におけるカソードルミネッセンス測定と
フォトルミネッセンス測定とが要求されることがあり。
この場合、従来の装置では、カソードルミネッセンス測
定およびフォトルミネッセンス測定毎に試料を設置しな
おさなければならず、かつ試料の同じ位置の判別が煩雑
であるという欠点がある。また、電子線照射によって試
料が劣化する場合、従来の装置では、電子線照射下の試
料の劣化プロセスをフォトルミネッセンス測定でリアル
タイムに解析できないという欠点がある。
定およびフォトルミネッセンス測定毎に試料を設置しな
おさなければならず、かつ試料の同じ位置の判別が煩雑
であるという欠点がある。また、電子線照射によって試
料が劣化する場合、従来の装置では、電子線照射下の試
料の劣化プロセスをフォトルミネッセンス測定でリアル
タイムに解析できないという欠点がある。
(3)発明の目的
本発明はカソードルミネッセンス装置とフォトルミネッ
センス装置とを同一の装置で実現することを特徴とし、
その目的は同一試料の同一位置においてそれぞれのルミ
ネッセンスを独立に、あるいは、同時に測定することに
ある。
センス装置とを同一の装置で実現することを特徴とし、
その目的は同一試料の同一位置においてそれぞれのルミ
ネッセンスを独立に、あるいは、同時に測定することに
ある。
(4)発明の構成および作用の説明
図は1本発明の一実施例装置構成図であり、1は真空容
器52は排気系(ターボポンプ、イオンポンプなど)、
3は電子銃、4は電子線光学系。
器52は排気系(ターボポンプ、イオンポンプなど)、
3は電子銃、4は電子線光学系。
5は対物レンズ、6は移動冷却台、7は試料、8はタラ
イオパネル、9は半導体レーザ、10はレーザ素子冷却
装置、1)はレーザ光線集光系、12はミラー、13は
ルミネッセンス集光系、14は光学用窓、15は集光用
光学系、16は分光器。
イオパネル、9は半導体レーザ、10はレーザ素子冷却
装置、1)はレーザ光線集光系、12はミラー、13は
ルミネッセンス集光系、14は光学用窓、15は集光用
光学系、16は分光器。
17は検出器、18はルミネッセンス信号処理系である
。
。
これらを動作するにあたって、真空容器1内をターボポ
ンプイオンポンプなどから構成される装気系2を用いて
高真空(5X 1O−9Torr〜5 X 10−”T
orr )にする。真空容器1内をより高真空にするた
めに、真空容器および内部はベーキング可能な構造とす
る。電子銃3から発射される電子線を電子線光学系4お
よび対物レンズ5によって集束して、試料移動ステージ
と冷却器と冷却器からの熱伝導で極低温に冷却される試
料台とから構成される移動冷却台6に置かれた試料7に
照射する。
ンプイオンポンプなどから構成される装気系2を用いて
高真空(5X 1O−9Torr〜5 X 10−”T
orr )にする。真空容器1内をより高真空にするた
めに、真空容器および内部はベーキング可能な構造とす
る。電子銃3から発射される電子線を電子線光学系4お
よび対物レンズ5によって集束して、試料移動ステージ
と冷却器と冷却器からの熱伝導で極低温に冷却される試
料台とから構成される移動冷却台6に置かれた試料7に
照射する。
このとき、試料周辺の真空度の向上、さらには。
試料温度の低温化をはかるため試料7の周辺にクライオ
パネル8を設置する。
パネル8を設置する。
真空中に配置された半導体レーザ9を用いてレーザ光線
を発生させ、レーザ素子冷却装置10による半導体レー
ザの動作温度の制御と半導体レーザの注入電流の制御と
によって半導体レーザの発振波長を特定の波長に設定し
、レーザ光線集光系1)でレーザ光線を集光し、これを
ミラー12を介して対物レンズ5の下を通し、電子線が
照射された位置と同一の試料7上に照射する。
を発生させ、レーザ素子冷却装置10による半導体レー
ザの動作温度の制御と半導体レーザの注入電流の制御と
によって半導体レーザの発振波長を特定の波長に設定し
、レーザ光線集光系1)でレーザ光線を集光し、これを
ミラー12を介して対物レンズ5の下を通し、電子線が
照射された位置と同一の試料7上に照射する。
電子線およびレーザ光線が照射された試料7から発生す
るルミネッセンスを対物レンズ5と試料7との空間に配
置されたルミネッセンス集光系13および光学用窓14
を介して大気中に導出する。
るルミネッセンスを対物レンズ5と試料7との空間に配
置されたルミネッセンス集光系13および光学用窓14
を介して大気中に導出する。
ここで、ルミネッセンス集光系13は1回転楕円面ミラ
ーあるいは球面ミラーと平面ミラーとの組合わせから構
成され、電子線およびレーザ光線が通過しうる微細な孔
を有している。
ーあるいは球面ミラーと平面ミラーとの組合わせから構
成され、電子線およびレーザ光線が通過しうる微細な孔
を有している。
ルミネッセンスを集光用光学系15を介して分光器16
に入射し、特定波長のルミネッセンスを検出器17で検
出し、ルミネッセンス信号処理系18を用いて、ルミネ
ッセンス強度の測定、およびデータ出力を行う。
に入射し、特定波長のルミネッセンスを検出器17で検
出し、ルミネッセンス信号処理系18を用いて、ルミネ
ッセンス強度の測定、およびデータ出力を行う。
このような構造になっているから、電子線照射で生ずる
カソードルミネッセンスとレーザ光線照射で生ずるフォ
トルミネッセンスとをそれぞれ独立に同一試料の同一位
置において測定することができる。また、カソードルミ
ネッセンスの測定に際してレーザ光を同時に照射し、レ
ーザ光の光量を変えてカソードルミネッセンスを測定す
ることができる。さらに、フォトルミネッセンスの測定
に際して電子線を同時に照射し、電子の加速エネルギー
を変えてフォトルミネッセンスを測定することができる
。
カソードルミネッセンスとレーザ光線照射で生ずるフォ
トルミネッセンスとをそれぞれ独立に同一試料の同一位
置において測定することができる。また、カソードルミ
ネッセンスの測定に際してレーザ光を同時に照射し、レ
ーザ光の光量を変えてカソードルミネッセンスを測定す
ることができる。さらに、フォトルミネッセンスの測定
に際して電子線を同時に照射し、電子の加速エネルギー
を変えてフォトルミネッセンスを測定することができる
。
(5)効果の説明
以上説明したように1本発明によれば、カソードルミネ
ッセンス装置とフォトルミネッセンス装置とを同一の装
置で実現するものであるから、電子線照射で生ずるカソ
ードルミネッセンスとレーザ光線照射で生ずるフォトル
ミネッセンスとをそれぞれ独立に同一試料の同一位置に
おいて測定することができる。またカソードルミネッセ
ンスの測定に際してレーザ光を同時に照射することによ
って、試料である半導体結晶中に過剰の電子・正孔を発
生させ、特に、半絶縁性結晶試料のカソードルミネッセ
ンス強度を増すことができるという利点があり、レーザ
光線の光量およびレーザ光線の発振波長を変えてカソー
ドルミネッセンスを測定することができるという利点が
ある。さらに。
ッセンス装置とフォトルミネッセンス装置とを同一の装
置で実現するものであるから、電子線照射で生ずるカソ
ードルミネッセンスとレーザ光線照射で生ずるフォトル
ミネッセンスとをそれぞれ独立に同一試料の同一位置に
おいて測定することができる。またカソードルミネッセ
ンスの測定に際してレーザ光を同時に照射することによ
って、試料である半導体結晶中に過剰の電子・正孔を発
生させ、特に、半絶縁性結晶試料のカソードルミネッセ
ンス強度を増すことができるという利点があり、レーザ
光線の光量およびレーザ光線の発振波長を変えてカソー
ドルミネッセンスを測定することができるという利点が
ある。さらに。
レーザ光線の発振波長を変えてフォトルミネッセンス測
定ができるとともに、フォトルミネッセンスの測定に際
して電子線を同時に照射し、電子の加速エネルギーを変
えてフォトルミネッセンスを測定することによって、電
子線照射下の試料の劣化プロレスをリアルタイムが解析
できる利点がある。
定ができるとともに、フォトルミネッセンスの測定に際
して電子線を同時に照射し、電子の加速エネルギーを変
えてフォトルミネッセンスを測定することによって、電
子線照射下の試料の劣化プロレスをリアルタイムが解析
できる利点がある。
図は本発明の一実施例装置構成図を示す。
1・・・真空容器、2・・・排気系、3・・・電子銃、
4・・・電子線光学系、5・・・対物レンズ、6・・・
移動冷却台。 7・・・試料、8・・・クライオパネル、9・・・半導
体レーザ、10・・・レーザ素子冷却装置、1)・・・
レーザ光線集光系、12・・・ミラー、13・・・ルミ
ネッセンス集光系、14・・・光学用窓、15・・・集
光用光学系。 16・・・分光器、17−・・検出器、18・・・ルミ
ネッセンス信号処理系。
4・・・電子線光学系、5・・・対物レンズ、6・・・
移動冷却台。 7・・・試料、8・・・クライオパネル、9・・・半導
体レーザ、10・・・レーザ素子冷却装置、1)・・・
レーザ光線集光系、12・・・ミラー、13・・・ルミ
ネッセンス集光系、14・・・光学用窓、15・・・集
光用光学系。 16・・・分光器、17−・・検出器、18・・・ルミ
ネッセンス信号処理系。
Claims (3)
- (1)試料をXYZの3軸方向に駆動する試料移動ステ
ージと、冷却器と、該冷却器からの熱伝導で極低温に冷
却される試料台と、該試料台上の試料表面に集束電子線
を照射するZ軸方向に置かれた電子銃と、該電子銃から
発射された電子線を集束する電子線光学系および対物レ
ンズと、電子線が照射されるのと同じ位置に集光レーザ
光線を照射するレーザ発生装置と、レンズとミラーとの
組み合わせからなる集光用光学系と、前記レーザ光を試
料表面に導くミラーと、前記集束電子線と前記集光レー
ザ光線とが照射される個所から発生するルミネッセンス
を集光するルミネッセンス集光系とが高真空容器内部に
配置されると共に、当該集光ルミネッセンスを真空容器
外に導く窓と、該窓に接して前記高真空容器の外側に設
けられた所の前記ルミネッセンスをスペクトルに分解す
る分光器と、該スペクトルの強度を測定する検出器と、
ルミネッセンス信号処理装置とをそなえたことを特徴と
するルミネッセンス測定装置。 - (2)上記のレーザ光を試料表面に導くミラーは、電子
線を透過しうる微細な孔を有し、かつ該ミラーを電子線
の通過軸上に置くことによって電子線の軸とレーザ光線
の軸が一致するように配置したことを特徴とする特許請
求の範囲第(1)項記載のルミネッセンス測定装置。 - (3)上記レーザ発生装置が半導体レーザであることを
特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載のルミネッセ
ンス測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27438885A JPH0641915B2 (ja) | 1985-12-06 | 1985-12-06 | ルミネツセンス測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27438885A JPH0641915B2 (ja) | 1985-12-06 | 1985-12-06 | ルミネツセンス測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62133338A true JPS62133338A (ja) | 1987-06-16 |
JPH0641915B2 JPH0641915B2 (ja) | 1994-06-01 |
Family
ID=17540973
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27438885A Expired - Fee Related JPH0641915B2 (ja) | 1985-12-06 | 1985-12-06 | ルミネツセンス測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0641915B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03115957A (ja) * | 1989-09-29 | 1991-05-16 | Hitachi Ltd | ルミネッセンス測定装置 |
CN112595703A (zh) * | 2020-12-09 | 2021-04-02 | 黄善杰 | 电子束激发半导体发光性能测试平台和激发参数优化方法 |
-
1985
- 1985-12-06 JP JP27438885A patent/JPH0641915B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03115957A (ja) * | 1989-09-29 | 1991-05-16 | Hitachi Ltd | ルミネッセンス測定装置 |
CN112595703A (zh) * | 2020-12-09 | 2021-04-02 | 黄善杰 | 电子束激发半导体发光性能测试平台和激发参数优化方法 |
CN112595703B (zh) * | 2020-12-09 | 2023-04-18 | 中国科学院云南天文台 | 电子束激发半导体发光性能测试平台和激发参数优化方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0641915B2 (ja) | 1994-06-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |