JPS61113786A - 亜鉛−合金改良めつき浴 - Google Patents
亜鉛−合金改良めつき浴Info
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- JPS61113786A JPS61113786A JP60219006A JP21900685A JPS61113786A JP S61113786 A JPS61113786 A JP S61113786A JP 60219006 A JP60219006 A JP 60219006A JP 21900685 A JP21900685 A JP 21900685A JP S61113786 A JPS61113786 A JP S61113786A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/565—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of zinc
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は亜鉛−合金めつき溶液に関し更に詳しくは改良
けられた耐食性を有する亜鉛−コバルト、仙鉛−ニッケ
ル又は亜鉛−コバルト−ニッケルめっき税のような亜鉛
合金を雷るする為のめつき浴と、それを使用する方法に
関する。特に、本発明は！［Ｉｉ鉛−合金めっき浴に対
する改良された光沢剤系に関する。
けられた耐食性を有する亜鉛−コバルト、仙鉛−ニッケ
ル又は亜鉛−コバルト−ニッケルめっき税のような亜鉛
合金を雷るする為のめつき浴と、それを使用する方法に
関する。特に、本発明は！［Ｉｉ鉛−合金めっき浴に対
する改良された光沢剤系に関する。
亜鉛−合金めっき浴及びこれらに使用する光沢剤はこれ
までに多を提案又は使用に供されてきた。
までに多を提案又は使用に供されてきた。
１ しかしながら、従来の光沢剤系は光沢性の亜
鉛合金は与えるけれども、さらに改良された形態学的性
質を右づる光沢性曲鉛−合金皮模を電着させる為の経済
的めっき浴であって、特に、改良された耐食性を有づ゛
る電着膜を提供できるような亜鉛−合金めっき浴を開発
づる必要が残っている。したがっで、耐食性を改良する
もてきで、添加剤やプロセスパラメータその他に関して
絶えざる研究がなされている。
鉛合金は与えるけれども、さらに改良された形態学的性
質を右づる光沢性曲鉛−合金皮模を電着させる為の経済
的めっき浴であって、特に、改良された耐食性を有づ゛
る電着膜を提供できるような亜鉛−合金めっき浴を開発
づる必要が残っている。したがっで、耐食性を改良する
もてきで、添加剤やプロセスパラメータその他に関して
絶えざる研究がなされている。
亜鉛〜合金めっき浴液に対する光沢剤系が、ここに開示
するようなダクチライザ（以下、延性付与剤又は延性剤
と呼ぶ）を含有するときには、実際の使用に当たって改
良された耐食性を有する亜鉛−合金めつきが得られると
いうことが判明した。
するようなダクチライザ（以下、延性付与剤又は延性剤
と呼ぶ）を含有するときには、実際の使用に当たって改
良された耐食性を有する亜鉛−合金めつきが得られると
いうことが判明した。
この延性剤は電着膜の砕けを減少させ、かつ歪みの少な
い電着膜を与えるものと考えられる。本発明のめつき溶
液は、平滑で、粒子の柵かい構造のの、改良された耐食
性を有する明るい光沢性亜鉛−合金めつきを与える。
い電着膜を与えるものと考えられる。本発明のめつき溶
液は、平滑で、粒子の柵かい構造のの、改良された耐食
性を有する明るい光沢性亜鉛−合金めつきを与える。
本発明のその他の特徴は、以下の記載及び特許請求の範
囲の判読により、より明瞭になるはずである。
・□）〔問題
点を解決するための手段〕 本発明に従えば、亜鉛−合金めつき浴に対する光０ぐノ
′１す系中に延ｉ！ｌ／ｌｌＩとしてアルデヒド又ｔよ
ケトンのスル！トネートを使用する１、かくして本発明
の溶’ｄ’ｊ ＬＬ 、第１光沢剤、第２光？Ｒ剤、補
助〉ヒ沢剤及びノ′ルｊ〜゛じドのスルホネ−１〜及び
ケ１ヘンのスルホネ−１へから成る群から選択された延
性剤から構成されでて゛る。本発明の方法によれば、素
地上に仙鉛−合急めっきを電着させる方法は、本発明の
水性・酸１１亜鉛−合金めっき浴から亜鉛−合金を雷首
ざＵるにＰｉ！からなる。
囲の判読により、より明瞭になるはずである。
・□）〔問題
点を解決するための手段〕 本発明に従えば、亜鉛−合金めつき浴に対する光０ぐノ
′１す系中に延ｉ！ｌ／ｌｌＩとしてアルデヒド又ｔよ
ケトンのスル！トネートを使用する１、かくして本発明
の溶’ｄ’ｊ ＬＬ 、第１光沢剤、第２光？Ｒ剤、補
助〉ヒ沢剤及びノ′ルｊ〜゛じドのスルホネ−１〜及び
ケ１ヘンのスルホネ−１へから成る群から選択された延
性剤から構成されでて゛る。本発明の方法によれば、素
地上に仙鉛−合急めっきを電着させる方法は、本発明の
水性・酸１１亜鉛−合金めっき浴から亜鉛−合金を雷首
ざＵるにＰｉ！からなる。
本弁明のの改良め−）ぎ浴は、亜１；）、コバル１−及
び７・′又【よニッケルーｒオン、有効量の第１光沢剤
、第２光沢剤（光沢剤担体とも呼ぶ）、補助光沢剤及び
延性材から成る。浴中の金属イオンＧ；ｌ 亜鉛と共に
７ツケルイオン、コバルトイオン、及びこれらの混合物
から成る群から選択された少なくとも１伸のｊ６加的金
属イオンを含んでいる。
び７・′又【よニッケルーｒオン、有効量の第１光沢剤
、第２光沢剤（光沢剤担体とも呼ぶ）、補助光沢剤及び
延性材から成る。浴中の金属イオンＧ；ｌ 亜鉛と共に
７ツケルイオン、コバルトイオン、及びこれらの混合物
から成る群から選択された少なくとも１伸のｊ６加的金
属イオンを含んでいる。
亜鉛及び合金化金属は、典型的には可溶性性塩、好まし
くはこれらの１品化物とし−Ｃ浴中に加える。
くはこれらの１品化物とし−Ｃ浴中に加える。
：ｌＩｉ鉛はす１！型的には塩化亜鉛として、コバルト
は典型的には塩化コバルト・６水和物として、ニッケル
は塩化ニッケル・６水和物として添加する。亜鉛イオン
濃度は少な（とも約１ Ｃ１／１ないし浴中えの溶解限
度以下の量で浴中に加える。合金化金属は少なくとも約
０．５〜約６（１／１、好ましくは約５〜約２５ｇ／ｌ
の６で用いる。
は典型的には塩化コバルト・６水和物として、ニッケル
は塩化ニッケル・６水和物として添加する。亜鉛イオン
濃度は少な（とも約１ Ｃ１／１ないし浴中えの溶解限
度以下の量で浴中に加える。合金化金属は少なくとも約
０．５〜約６（１／１、好ましくは約５〜約２５ｇ／ｌ
の６で用いる。
本発明に従って得られた合金膜は、合金膜全量の約０．
０１〜約１５％のコバルト、ニッケル及びこれらの混合
物を含むことができる。膜中の合金化金属の好ましい情
はコバルｌ−約０．１〜約５％、ニッケル約０．２５％
〜約９％である。コバルトとニッケルの混合物の場合に
は、コバルトとニッケルの比率は問わない。
０１〜約１５％のコバルト、ニッケル及びこれらの混合
物を含むことができる。膜中の合金化金属の好ましい情
はコバルｌ−約０．１〜約５％、ニッケル約０．２５％
〜約９％である。コバルトとニッケルの混合物の場合に
は、コバルトとニッケルの比率は問わない。
めっき工程の間に、浴中の金属イオンは消耗するので、
可溶性アノード及び／又は浴可溶性・相溶性の塩類を添
加してこれを補給してやる。亜鉛イオンと合金化金属イ
オンとの比率は所望する合金組成が得られるように制御
する。
可溶性アノード及び／又は浴可溶性・相溶性の塩類を添
加してこれを補給してやる。亜鉛イオンと合金化金属イ
オンとの比率は所望する合金組成が得られるように制御
する。
本発明のめっき浴液ｔよ金属イオン以外にまた、第１光
沢剤、第２光沢剤（光沢剤担体）、補助光沢剤、及び延
性剤を含んでいる。第１光沢剤は明るく光沢性の亜鉛−
合金皮膜を与える機能を右づる添加剤である。好ましい
第１光沢剤には、米国特許第３，９０９，３７３号公報
に開示のように、う′リールケトン、アル↓ルアルデヒ
ド、アルキル７ノトシ及びこれらの混合物；前節環状ケ
トン、四扱アルヤルニコチネート及びジアルキル１ナル
フエートもしくはアルキルアリールハロゲン化物を有す
る四級異部環状化合物、アルキルアルカンスルホネ−１
へ、又はアルＶルアレンスボネ−１〜及びこれらの混合
物から成る群から選択された化合物が包含される。好ま
しいアルキルニコチネートナルノ［−ト又はスルホン化
四級塩類は米国特許第４゜２０７．１５０号公報に開示
がある。この第１光沢剤は所望の光沢皮膜が得られるの
に有効な量で浴中に１１１１えるが、一般的には、約０
．００１〜約’ １０ ！？ 、／ １ 、り
ｒましく−は約０．１０〜約５ｇ／ｌＱある。
沢剤、第２光沢剤（光沢剤担体）、補助光沢剤、及び延
性剤を含んでいる。第１光沢剤は明るく光沢性の亜鉛−
合金皮膜を与える機能を右づる添加剤である。好ましい
第１光沢剤には、米国特許第３，９０９，３７３号公報
に開示のように、う′リールケトン、アル↓ルアルデヒ
ド、アルキル７ノトシ及びこれらの混合物；前節環状ケ
トン、四扱アルヤルニコチネート及びジアルキル１ナル
フエートもしくはアルキルアリールハロゲン化物を有す
る四級異部環状化合物、アルキルアルカンスルホネ−１
へ、又はアルＶルアレンスボネ−１〜及びこれらの混合
物から成る群から選択された化合物が包含される。好ま
しいアルキルニコチネートナルノ［−ト又はスルホン化
四級塩類は米国特許第４゜２０７．１５０号公報に開示
がある。この第１光沢剤は所望の光沢皮膜が得られるの
に有効な量で浴中に１１１１えるが、一般的には、約０
．００１〜約’ １０ ！？ 、／ １ 、り
ｒましく−は約０．１０〜約５ｇ／ｌＱある。
第２光沢剤は粒子を細かくして平置］なめつき膜を捉洪
する礪能をｆＪす゛る添加剤である。好ましい第２光沢
剤には、アルコキシレートポリマー、ブロックポリマー
、ポリグリシトール、アヒチレン化合物アルコーＶシレ
ー１−、フェノールアルコキシレー１−、ナフトールア
ルコキシレートから成る群から選択される。第２光沢剤
の使用ｔｌは皮＋１Ｑのｊ１ｑ子を細かくするのに有効
な最であって、一般的には、約０．５〜約１（１＃、好
ましくは約２〜 。
する礪能をｆＪす゛る添加剤である。好ましい第２光沢
剤には、アルコキシレートポリマー、ブロックポリマー
、ポリグリシトール、アヒチレン化合物アルコーＶシレ
ー１−、フェノールアルコキシレー１−、ナフトールア
ルコキシレートから成る群から選択される。第２光沢剤
の使用ｔｌは皮＋１Ｑのｊ１ｑ子を細かくするのに有効
な最であって、一般的には、約０．５〜約１（１＃、好
ましくは約２〜 。
６ｇ／ｌの濃度で使用する。
補助光沢剤は、安息芳醇、サルデル酸、ニコチンｌ並び
にこれらの周期律第■及び■族金属及びアンモニアの塩
である。この補助光沢剤の使用ｍは膜に所望の補助光沢
を付与し得る都で、約０゜６〜約 １０グ／ｌｔ、好ま
しくは約１．２〜５び／ｌの範囲で用いる。
にこれらの周期律第■及び■族金属及びアンモニアの塩
である。この補助光沢剤の使用ｍは膜に所望の補助光沢
を付与し得る都で、約０゜６〜約 １０グ／ｌｔ、好ま
しくは約１．２〜５び／ｌの範囲で用いる。
上記の成分以外に、本発明のめっき浴は実質的にマイク
ロクラックと歪みがない改良された耐食性を有する電着
膜を生成させる機能を在する延性剤を含んでいる。本発
明に使用するのに好ましい ・；延性剤は米国特
許第４，２５２．６１９号公報に開示がある。これによ
れば、アルデヒド又はケトンのある種のスルホネートが
亜鉛めっき溶液の光沢剤及び延性剤として有用であると
している。本発明に用いて好ましい化合物は次の一般式
で示される。
ロクラックと歪みがない改良された耐食性を有する電着
膜を生成させる機能を在する延性剤を含んでいる。本発
明に使用するのに好ましい ・；延性剤は米国特
許第４，２５２．６１９号公報に開示がある。これによ
れば、アルデヒド又はケトンのある種のスルホネートが
亜鉛めっき溶液の光沢剤及び延性剤として有用であると
している。本発明に用いて好ましい化合物は次の一般式
で示される。
一般式
％式％
この延性剤は亜鉛−合金めっき膜に延性を付与するのに
有効な量で、約０．００１〜約１０！？＃！、好ましく
は約０．０１〜約５’Ｊ／１の賞で用いる。
有効な量で、約０．００１〜約１０！？＃！、好ましく
は約０．０１〜約５’Ｊ／１の賞で用いる。
延性剤として好ましく使用できる典型的化合物を列挙す
れば次のようである。
れば次のようである。
３−スルホプロパナール、Ｎａ塩
４−）１ニル−４−スルホブタン−２−オン、Ｎａ塩
４−フェニル−４−スルホブテン−２−オン、Ｎａ塩
４−フェニル−４，４−ジスルホブタン−２−オン、ジ
ナトリウム塩 ４−スルホ−，１，−（３，４−ツメ１−１シフ１ニル
）ブタン−２−Ａン、Ｎａ塩 ／１−（３，４−メブレンジＡよシフｌニル）ブタン−
２−；４ン、Ｎａ塩 、；−スルホ−３〜７１ニルプロパツール、Ｎａ塩 ３−スル小−３−フェニルプロパノン酸、モノブト・リ
ウム１ｎ １．３−シフＴニルー３−スルホプロパン−１−オン、
ＮＡＩｊＸ ３−スルホブタナール、Ｎａ塩 ３−（２−フリル〉−３−スルホプロパナール、Ｎａ塩 ３、−（３−インドリル）−スルホプロパノン酸、モノ
ナトリウム塩 ３−（５−ビシクロ［２，２，１］ヘプテン）−〇−ス
ルボブロバノン酸、モノナトリウム塩４−スルホブタン
−２−オン、Ｎａ塩 ３．３−ジフェニル−３−スルホプロパナール、 ａｌ
ｉ ３−フェニル−３−スルホプロパナール、Ｎａ塩 ３−フェニル−３，３−ジスルホプロパナール、ジナト
リウム塩 １−（４−ピペリディル）−３−スルホ−５−（３，４
−メチレンジオ−Ｖジフェニル）−４−ペンテン−１−
オン、Ｎａ塩 １−（４−ピペリディル）−５−スルホ−５＝（３，４
−メヂレンジＡＶジフェニル）−２−ペンテン−１−′
Ａン、Ｎａ塩 １−（４−ごベリディル）−３，５−ジスルホ−５−（
３，４−メチレンジオキシフェニル）−１−ペンタノン
、ジナトリウム塩 ３−（３−ピリディル）−３−スルホプロパノン酸、モ
ノナトリウム塩 ３−（４−イミダジル）−３−スルホプロパノン酸、モ
ノナトリウム塩 ４−７、ユ）１．、−２−ＩＡｙ＊−４−オキップタ、
：・ン酸、モノナトリウム塩 ４−フェニル−３−スルホ−４−オキソブタノン酸、−
〔ノナトリウム塩 １．７〜ジー（３−メトキシ−４−ヒドロキシフＩニル
）−７−スルホ−１〜へブテン−３，５−ジオン、Ｎ
ａ Ｊ！＝ １．７−ジ〜（３−メトキシ−４−ヒドロキシフエニル
）−１，７−ジスルホへブタ−３，５−ジオン、ジノト
リウム塩 ４−（２−フリル）−４−スルホブタン−２〜Ａン、Ｎ
、１塩 ４−フェニル−４−スルホブテン−２−Ｊン、Ｎａ塩 ４ ノエニルー ４．４−ジスルホブタン−２、−Ａン
、ジナトリウム塩 ３−−ノ１ニルー３−スルホプロペナール、ｉ’Ｊ ａ
ｊ：１ｊ ３−ノー［ニル−３，３−ジスルホプロパナール、シフ
１〜リウム塩 ４−スルホブテン−２−オン、Ｎ１１塩４．４−ジスル
ホブタン−２〜Ａ゛ン、ジブトリウム塩 これらのなかで、４−フェニル−４−スルホブタン−２
−オン、Ｎａ塩及び３−スルホ−３−フェニルプロパナ
ール、Ｎａ塩が特に好ましいことが判明した。
ナトリウム塩 ４−スルホ−，１，−（３，４−ツメ１−１シフ１ニル
）ブタン−２−Ａン、Ｎａ塩 ／１−（３，４−メブレンジＡよシフｌニル）ブタン−
２−；４ン、Ｎａ塩 、；−スルホ−３〜７１ニルプロパツール、Ｎａ塩 ３−スル小−３−フェニルプロパノン酸、モノブト・リ
ウム１ｎ １．３−シフＴニルー３−スルホプロパン−１−オン、
ＮＡＩｊＸ ３−スルホブタナール、Ｎａ塩 ３−（２−フリル〉−３−スルホプロパナール、Ｎａ塩 ３、−（３−インドリル）−スルホプロパノン酸、モノ
ナトリウム塩 ３−（５−ビシクロ［２，２，１］ヘプテン）−〇−ス
ルボブロバノン酸、モノナトリウム塩４−スルホブタン
−２−オン、Ｎａ塩 ３．３−ジフェニル−３−スルホプロパナール、 ａｌ
ｉ ３−フェニル−３−スルホプロパナール、Ｎａ塩 ３−フェニル−３，３−ジスルホプロパナール、ジナト
リウム塩 １−（４−ピペリディル）−３−スルホ−５−（３，４
−メチレンジオ−Ｖジフェニル）−４−ペンテン−１−
オン、Ｎａ塩 １−（４−ピペリディル）−５−スルホ−５＝（３，４
−メヂレンジＡＶジフェニル）−２−ペンテン−１−′
Ａン、Ｎａ塩 １−（４−ごベリディル）−３，５−ジスルホ−５−（
３，４−メチレンジオキシフェニル）−１−ペンタノン
、ジナトリウム塩 ３−（３−ピリディル）−３−スルホプロパノン酸、モ
ノナトリウム塩 ３−（４−イミダジル）−３−スルホプロパノン酸、モ
ノナトリウム塩 ４−７、ユ）１．、−２−ＩＡｙ＊−４−オキップタ、
：・ン酸、モノナトリウム塩 ４−フェニル−３−スルホ−４−オキソブタノン酸、−
〔ノナトリウム塩 １．７〜ジー（３−メトキシ−４−ヒドロキシフＩニル
）−７−スルホ−１〜へブテン−３，５−ジオン、Ｎ
ａ Ｊ！＝ １．７−ジ〜（３−メトキシ−４−ヒドロキシフエニル
）−１，７−ジスルホへブタ−３，５−ジオン、ジノト
リウム塩 ４−（２−フリル）−４−スルホブタン−２〜Ａン、Ｎ
、１塩 ４−フェニル−４−スルホブテン−２−Ｊン、Ｎａ塩 ４ ノエニルー ４．４−ジスルホブタン−２、−Ａン
、ジナトリウム塩 ３−−ノ１ニルー３−スルホプロペナール、ｉ’Ｊ ａ
ｊ：１ｊ ３−ノー［ニル−３，３−ジスルホプロパナール、シフ
１〜リウム塩 ４−スルホブテン−２−オン、Ｎ１１塩４．４−ジスル
ホブタン−２〜Ａ゛ン、ジブトリウム塩 これらのなかで、４−フェニル−４−スルホブタン−２
−オン、Ｎａ塩及び３−スルホ−３−フェニルプロパナ
ール、Ｎａ塩が特に好ましいことが判明した。
本発明のめつき溶液は、金属塩類が充分に溶解し、光沢
剤系が効力を発揮できるようなｐＨにおいて運転される
。したがって、ｐＨの下限は、最早光沢剤系が所望の光
沢効果を発揮できなくなるようなｐＨであり、上限は不
充分な金属イオンが溶液中に存在するために所望する亜
鉛皮膜が得られなくなるようなｐＨである。一般的に、
このｐＨ範囲は約３〜６，３、好ましくは約４〜６であ
る。
剤系が効力を発揮できるようなｐＨにおいて運転される
。したがって、ｐＨの下限は、最早光沢剤系が所望の光
沢効果を発揮できなくなるようなｐＨであり、上限は不
充分な金属イオンが溶液中に存在するために所望する亜
鉛皮膜が得られなくなるようなｐＨである。一般的に、
このｐＨ範囲は約３〜６，３、好ましくは約４〜６であ
る。
本発明のめっき浴はまた、緩衝剤、分散剤及び／又は導
電剤のような追加的成分を公知の：ｉ５′で含むことが
できる。適当な緩衝剤にはホウ酸が挙げられ、約０２５
〜４５ｇ／ｌＪの濃度で使用される。
電剤のような追加的成分を公知の：ｉ５′で含むことが
できる。適当な緩衝剤にはホウ酸が挙げられ、約０２５
〜４５ｇ／ｌＪの濃度で使用される。
適当な分散剤には、例えばアルキルベンゼンスルホネー
ト、アルキルナフタレンスルホネート、リグニンスルホ
ネート及びこれらの混合物が挙げられ、約１２Ｌ」以下
、好ましくは約１０ｍｇ／４１〜約３９／１の範囲で用
いる。導′電剤は浴溶解性・相溶性塩類であって浴の導
電性を高めるもので、典型的にはアルカリ金属及びアン
モニウムの塩化物が用いられ、他の浴成分の濃度１種類
に応じて変動した呵で使用して浴の望ましい尋゛電性が
得られるようにする。
ト、アルキルナフタレンスルホネート、リグニンスルホ
ネート及びこれらの混合物が挙げられ、約１２Ｌ」以下
、好ましくは約１０ｍｇ／４１〜約３９／１の範囲で用
いる。導′電剤は浴溶解性・相溶性塩類であって浴の導
電性を高めるもので、典型的にはアルカリ金属及びアン
モニウムの塩化物が用いられ、他の浴成分の濃度１種類
に応じて変動した呵で使用して浴の望ましい尋゛電性が
得られるようにする。
本発明の方法に従えば、上記の水性・酸性めっき浴から
亜鉛合金を電着する−［程により、素地上に光沢性で密
着性の亜鉛合金めっきを生成させることができる。この
めっき工程は、バレルめつき、引っかけめっき、連続め
っきその他の各種のめつき技術のいかなるものを使用し
ても実施ができる。
亜鉛合金を電着する−［程により、素地上に光沢性で密
着性の亜鉛合金めっきを生成させることができる。この
めっき工程は、バレルめつき、引っかけめっき、連続め
っきその他の各種のめつき技術のいかなるものを使用し
ても実施ができる。
浴温は約１６〜４９℃、好ましくは２４〜３５℃である
。平均カソード電流密度は約０．５〜約８０ Δ’Ｆ（
０，０５〜８．３Ａ／ＤＴｄ）の範囲にわたって広く変
動できる。本発明の方法は鉄やスチールめような鉄系の
素地をめっきするのに特に適するが、黄銅、銅もしくは
導電性プラスチックのようなの素地もまた考慮すること
ができる。
。平均カソード電流密度は約０．５〜約８０ Δ’Ｆ（
０，０５〜８．３Ａ／ＤＴｄ）の範囲にわたって広く変
動できる。本発明の方法は鉄やスチールめような鉄系の
素地をめっきするのに特に適するが、黄銅、銅もしくは
導電性プラスチックのようなの素地もまた考慮すること
ができる。
亜鉛−合金電着膜は亜鉛−コバルト合金、亜鉛−ニッケ
ル合金、もしくは亜鉛−コバルト合金−ニッケル合金で
ありうる。コバルトとニッケルの比率は問わないが、合
金化金属のめっき膜中の仝量は亜鉛−合金皮膜の約０．
０１〜約１５％の川である。コストを最低にし、かつ複
雑な形状の部品上にも勝れた外観と性能を与えるために
は、亜鉛−コバルト合金ではコバルト約０．１〜約５％
、亜鉛−二、ツケル合金ではニッケル約０．２５〜約９
％の範囲以内である。
ル合金、もしくは亜鉛−コバルト合金−ニッケル合金で
ありうる。コバルトとニッケルの比率は問わないが、合
金化金属のめっき膜中の仝量は亜鉛−合金皮膜の約０．
０１〜約１５％の川である。コストを最低にし、かつ複
雑な形状の部品上にも勝れた外観と性能を与えるために
は、亜鉛−コバルト合金ではコバルト約０．１〜約５％
、亜鉛−二、ツケル合金ではニッケル約０．２５〜約９
％の範囲以内である。
［実施例］
本発明の亜鉛−合金めっき浴及びその使用方法をさらに
詳しく説明する為に、次に実施例を記載する。これらの
実施例は単に説明の為のものであり、本発明はこれら特
定の実施態様のみに限定されるものではない。
詳しく説明する為に、次に実施例を記載する。これらの
実施例は単に説明の為のものであり、本発明はこれら特
定の実施態様のみに限定されるものではない。
実施例 １
次の組成を有する水性・酸性めっき浴を調製した。
１１
Ｚｎ （：Ｊ ２７３ｇ／ｌ Ｑｏ Ｑｌ ２−６Ｈ２０３２’ｊ／ｆｌＮ ａ Ｃ
、Ｑ １２５！
７ ／’、０＋＋３１３０３ ３
０び／９ｐＨ
５．４２．４，７．９ −デ１−ラメチルー
５＝デシン−４，１−ジＡ−ルエチレンＡ キザイド ３０シル付加物：ｌ： ４．５５１ ／
、１１４−）Ｉニル−３−ブテン −２−オン ６０ｍｇ ／ Ｊｌ
ｌブチルニコチネートジメチ ルルフ電−−ト（四級）３０り／、Ｑ ４−フ゛エニルー４−スルホブタン −２−オン、ナトリウム塩 ５０ｍｆ！ ／ ！
Ｊノトリウムベンゾエート ２９／Ω＊ ｒｓ
ｕｒｆｙｎｏｌ ４８５ｊ （商品名：八ｉｒ ＰｒｏｄｌＪＣｔＳ社製）平均力／
−ド電流密度４０ＡＳＦ（４，３Ａ／Ｄｍ２） 。
１１
Ｚｎ （：Ｊ ２７３ｇ／ｌ Ｑｏ Ｑｌ ２−６Ｈ２０３２’ｊ／ｆｌＮ ａ Ｃ
、Ｑ １２５！
７ ／’、０＋＋３１３０３ ３
０び／９ｐＨ
５．４２．４，７．９ −デ１−ラメチルー
５＝デシン−４，１−ジＡ−ルエチレンＡ キザイド ３０シル付加物：ｌ： ４．５５１ ／
、１１４−）Ｉニル−３−ブテン −２−オン ６０ｍｇ ／ Ｊｌ
ｌブチルニコチネートジメチ ルルフ電−−ト（四級）３０り／、Ｑ ４−フ゛エニルー４−スルホブタン −２−オン、ナトリウム塩 ５０ｍｆ！ ／ ！
Ｊノトリウムベンゾエート ２９／Ω＊ ｒｓ
ｕｒｆｙｎｏｌ ４８５ｊ （商品名：八ｉｒ ＰｒｏｄｌＪＣｔＳ社製）平均力／
−ド電流密度４０ＡＳＦ（４，３Ａ／Ｄｍ２） 。
浴温２６℃において空気攪はん下で“Ｊ−ベント′。
カソード上にめっき試験を行なった。１５分後、生じた
皮膜はカソード全面にわたって完金光ｉＲ性で延性があ
った。この皮膜を分析したところ、約３０ＡＳＦ（３，
２Ａ／口ｍ２）ノミ流密度ノ領域Ｔ： ０．５％（１）
コバル１−が含まれていることが分った。
皮膜はカソード全面にわたって完金光ｉＲ性で延性があ
った。この皮膜を分析したところ、約３０ＡＳＦ（３，
２Ａ／口ｍ２）ノミ流密度ノ領域Ｔ： ０．５％（１）
コバル１−が含まれていることが分った。
実施例 ２
無攪はん下で平均カソード電流密度５ＡＳＦ（０，５Ａ
／ＤＩ２）で平坦なカソード試験片を用いた以外は実Ｉ
Ｍ例１の試験を繰返した。この試験片上に生成した皮膜
は光沢があり延性があり、耐食性に勝れていた。この電
着を分析したところ０．９％のコバルトが含まれている
ことが分った。
／ＤＩ２）で平坦なカソード試験片を用いた以外は実Ｉ
Ｍ例１の試験を繰返した。この試験片上に生成した皮膜
は光沢があり延性があり、耐食性に勝れていた。この電
着を分析したところ０．９％のコバルトが含まれている
ことが分った。
実施例 ３
平均カソード電流密１ｉ１０ＡｓＦ（１，１Ａ／Ｄｍ２
）、素地として一群のスチール製スクリューを使用して
該溶液をバレル中でめっきした以外は実施例１を繰返し
た。生成した電着膜は光沢性の合金膜であり、耐食性に
勝れていた。この電着膜は１．３％のコバルトを含んで
いた。
）、素地として一群のスチール製スクリューを使用して
該溶液をバレル中でめっきした以外は実施例１を繰返し
た。生成した電着膜は光沢性の合金膜であり、耐食性に
勝れていた。この電着膜は１．３％のコバルトを含んで
いた。
実施例 ４
次の組成を有づ′る水性・酸性めっき浴をＵＡ’ｌした
。
。
Ｚｎ Ｃｊ ２ ７０ｇ／（ＪＮ
ｉ Ｃｊ ２ ６１−１２０ ４８９／ｌＮａ
Ｃ，ｌ！ １２０ｙ／ｌホ
ウ酸 ３０３／Ωナトリウム
ベンゾニーｌへ ２．６！７／、１１１’５ｕ
ｒｆｙｎｏｌ ４８５１ （商品名） ４．８
ｇ／、Ｑブブルニ］チネートジエチル リ゛ルノｘ−ｔ”（四級） １０．０■／（
４−）Ｔニル−４−スルホネート −２−シタノン ３６Ｉｎｇ７．０ヘ
ンジリフ：ンアレトン ４８ｍ”Ｊ／９イソ
プロビリデンナ′ノタレン スルホネート ０．１ｓ、ｚＮこの
浴は浴温２２℃、ｐＨ５．０であった１、亜鉛ノアノー
ドど空気１豐はんを使用した。平均カソード電流密度２
〇八５）（２，１Ａ／口１ｖｌ）スチール装部品を該浴
１ 中でめっきした。１ｑられた電４膜中の二・
ソケル含４−１帛は０３％で（１うった。この部品１−
に生成した電着膜は完全光沢ｒ：良好な耐食性を示した
。。
ｉ Ｃｊ ２ ６１−１２０ ４８９／ｌＮａ
Ｃ，ｌ！ １２０ｙ／ｌホ
ウ酸 ３０３／Ωナトリウム
ベンゾニーｌへ ２．６！７／、１１１’５ｕ
ｒｆｙｎｏｌ ４８５１ （商品名） ４．８
ｇ／、Ｑブブルニ］チネートジエチル リ゛ルノｘ−ｔ”（四級） １０．０■／（
４−）Ｔニル−４−スルホネート −２−シタノン ３６Ｉｎｇ７．０ヘ
ンジリフ：ンアレトン ４８ｍ”Ｊ／９イソ
プロビリデンナ′ノタレン スルホネート ０．１ｓ、ｚＮこの
浴は浴温２２℃、ｐＨ５．０であった１、亜鉛ノアノー
ドど空気１豐はんを使用した。平均カソード電流密度２
〇八５）（２，１Ａ／口１ｖｌ）スチール装部品を該浴
１ 中でめっきした。１ｑられた電４膜中の二・
ソケル含４−１帛は０３％で（１うった。この部品１−
に生成した電着膜は完全光沢ｒ：良好な耐食性を示した
。。
実施例−支
次の組成物を有づる水性・酸４（１めつき浴を調製した
。
。
Ｚｎ ＧｆＪ ２００ｇ、Ｉ
Ｎ ｉ ＣＮ ６ Ｈ２０１２０ｙ ／ ’ＪＮ ｌ
ｌ ４ＣｆＪ２００９ ／ 、Ｑナトリウムベンゾエー
ト ４ ｉ？ 、、／ 、Ｑｒ ５ｕｒｆｙｎ
ｏｌ ４８５ Ｊ （商品名） ４．０！？／
ρポリＡキシエヂレン（ＭＷｌｏｏｏ） ０．５ｙ
、１ブチ、ルニコチネ−１−Ｄ − メチルトシレート ８０ｍｇ／ρ４−フ
ェニルー４−すトリウム スルホネート−２−ブタナール ３０ｍｇ／！Ｊベン
ジリデンアセトン ５０ｍｇ／、Ｑアルキル
ナフタリン スルホネート混合吻８０Ｉｎｇ／ 、Ｑこの浴のｐＨは
５３であり、浴温は２６℃であった。
ｌ ４ＣｆＪ２００９ ／ 、Ｑナトリウムベンゾエー
ト ４ ｉ？ 、、／ 、Ｑｒ ５ｕｒｆｙｎ
ｏｌ ４８５ Ｊ （商品名） ４．０！？／
ρポリＡキシエヂレン（ＭＷｌｏｏｏ） ０．５ｙ
、１ブチ、ルニコチネ−１−Ｄ − メチルトシレート ８０ｍｇ／ρ４−フ
ェニルー４−すトリウム スルホネート−２−ブタナール ３０ｍｇ／！Ｊベン
ジリデンアセトン ５０ｍｇ／、Ｑアルキル
ナフタリン スルホネート混合吻８０Ｉｎｇ／ 、Ｑこの浴のｐＨは
５３であり、浴温は２６℃であった。
亜鉛アノードと空気攪はんを用いた。平均カソード電流
密度１〇八５Ｆ（１，１Ａ／Ｄｍ２）でスチール製部：
） 品を該浴中でめっきした。得られた電着膜のニッケル含
有量は１．４％であった。この部品上に得られためつき
膜は完全光沢性で良好な耐良性を示した。
密度１〇八５Ｆ（１，１Ａ／Ｄｍ２）でスチール製部：
） 品を該浴中でめっきした。得られた電着膜のニッケル含
有量は１．４％であった。この部品上に得られためつき
膜は完全光沢性で良好な耐良性を示した。
実施例 ６
次の組成を有するめっき溶液を調製した。
Ｚｒ＋ＣＭ２ ９０グ／！ＪＮｉ
Ｃ，Ｑ −６Ｈ２０１２０ｇ／、ＱＣｏＣ，Ｑ
−６ト（２０４０グ ／、９Ｎ １１４Ｃ（Ｊ
２００ＳＪ ／、Ｑナトリウ
ムベンゾニー１− ２！７，１ｒｓｕｒｆｙｎ
ｏｌ ４８５１ （商品名） ５．０ｚ／ｌ１
ノルジンジメチルリルフエート （四 ♀及 ）
５ ｍり ／ ０
４−スルホ−４−フェニルブタン −２−Ａン、ナトリウムＩｐＨ４０ｍｇ／（Ｊノルフラ
ールアビトン ３８ｍｙ／ｌアルキルヘンピ
ンスルホネーｌ−０，１１！／／、Ｑこの浴のｐＨは５
．０、浴温は２４°Ｃであった。、 １１１ｊ鉛７ノー
ドと空気攪はんを用いた。平均カソード電流密＋ｑ １
ｏＡｓｔ（１，１△／Ｄｍ２）においてスチール製験片
を該浴中でめっきした。得られ１Ｃ電着中のニッケルは
１．８％であり、コバルトは１．５％であった。この試
験片上に生じた電着膜は完全に光沢性で、かつ良好な耐
食性を示した。
Ｃ，Ｑ −６Ｈ２０１２０ｇ／、ＱＣｏＣ，Ｑ
−６ト（２０４０グ ／、９Ｎ １１４Ｃ（Ｊ
２００ＳＪ ／、Ｑナトリウ
ムベンゾニー１− ２！７，１ｒｓｕｒｆｙｎ
ｏｌ ４８５１ （商品名） ５．０ｚ／ｌ１
ノルジンジメチルリルフエート （四 ♀及 ）
５ ｍり ／ ０
４−スルホ−４−フェニルブタン −２−Ａン、ナトリウムＩｐＨ４０ｍｇ／（Ｊノルフラ
ールアビトン ３８ｍｙ／ｌアルキルヘンピ
ンスルホネーｌ−０，１１！／／、Ｑこの浴のｐＨは５
．０、浴温は２４°Ｃであった。、 １１１ｊ鉛７ノー
ドと空気攪はんを用いた。平均カソード電流密＋ｑ １
ｏＡｓｔ（１，１△／Ｄｍ２）においてスチール製験片
を該浴中でめっきした。得られ１Ｃ電着中のニッケルは
１．８％であり、コバルトは１．５％であった。この試
験片上に生じた電着膜は完全に光沢性で、かつ良好な耐
食性を示した。
実施例 ７
次の組成を右する水性・酸性めっき浴を調製した。
Ｚｎ Ｃ，ｌｌ ２３５ＳＩ／ｕ
Ｃｏ ＣＭ ２ ６ Ｈ２Ｏ４０ｇ／ ｆＪＮ ｉ
ＣＮ ６１−１２０ ２０ｙ ／ 、Ｑ
ホウ酸 ３０Ｊ／ρナトリウ
ムベンゾエート ４７／ρ塩化す１〜リウム
１２０ｇ−／ｌｒ ５ｌｌｒｆｌ／ｎ
Ｏｌ ４８５ Ｊ （商品名＞ ３ｇ、１ポリ
オ：１ジエチレン（Ｍ Ｗ Ｌ’＋００） １ ！！
／ρイソプロビルニ］チネート ジメチル号ルフェート（四ＳＲ） ８ｍｇ／ｌＪ３
−ブｌ−リウムスルホネ−１〜 プロパツール ３ｈ＋び／ｌベンジリ
ノ゛ンアセトン ５２ｍ’Ｊ／Ａ１アルフタ
レンスルホネー）−０，６！？／ρこの浴のｐｌｌは４
９、浴温は２４°Ｃ（あった。曲１））ｊ７ノードを用
いた。平均電流密度１０八５Ｆ（１，１△／Ｄｍ２）に
おいて部品を該溶液を用いてバレルめっきした。冑られ
た電着膜中のコバルトは０７％であり、ニッケルは０．
６％であった。完全光沢性で勝れた耐良性の電着膜が得
られた。
ＣＮ ６１−１２０ ２０ｙ ／ 、Ｑ
ホウ酸 ３０Ｊ／ρナトリウ
ムベンゾエート ４７／ρ塩化す１〜リウム
１２０ｇ−／ｌｒ ５ｌｌｒｆｌ／ｎ
Ｏｌ ４８５ Ｊ （商品名＞ ３ｇ、１ポリ
オ：１ジエチレン（Ｍ Ｗ Ｌ’＋００） １ ！！
／ρイソプロビルニ］チネート ジメチル号ルフェート（四ＳＲ） ８ｍｇ／ｌＪ３
−ブｌ−リウムスルホネ−１〜 プロパツール ３ｈ＋び／ｌベンジリ
ノ゛ンアセトン ５２ｍ’Ｊ／Ａ１アルフタ
レンスルホネー）−０，６！？／ρこの浴のｐｌｌは４
９、浴温は２４°Ｃ（あった。曲１））ｊ７ノードを用
いた。平均電流密度１０八５Ｆ（１，１△／Ｄｍ２）に
おいて部品を該溶液を用いてバレルめっきした。冑られ
た電着膜中のコバルトは０７％であり、ニッケルは０．
６％であった。完全光沢性で勝れた耐良性の電着膜が得
られた。
実施例 ε３
次の組成を有するめっき溶液を調製した。
Ｚｎ Ｃ，ＩＩ ２４０ｇ／ｌ
Ｃｏ （１１２−６Ｈ，２０４０９／ｌ！ＮａＣ，０１
２０ｇ／Ｍ ホウ酸 ３０ｇ／、１１づｌ
−リウムベンゾエート ２．２’Ｊ／１［５ｕ
ｒｒｙｎｏｌ ４８５Ｊ （商品名＞ ５９／
Ｍ、 プロボキシエトキシブロックボリマ
ー ０．２９／ｌＪ４−〕〕１ニ
ルー４−スルホネー１ 〜−２ブテノン ５ＩＲｇ／ｌリグニ
ンスルホネート ０．０５ＳＪ／ｌベンジリデ
ンアＵトン ＧＯｍ’Ｊ／１この浴のｐｌｌ
は４．７、浴イ晶は２３°Ｃであった。亜鉛アノードと
空気世ｔよ／υを用いた。平均電流密度１２＾５Ｆ（１
，３Ａ１０ｍ２）にＪ３イテ該温浴用イテスチール製試
験片をめっきした。電着膜中コバルトは０６％であり、
この試験片上に生じた電着膜は光沢性であった。
２０ｇ／Ｍ ホウ酸 ３０ｇ／、１１づｌ
−リウムベンゾエート ２．２’Ｊ／１［５ｕ
ｒｒｙｎｏｌ ４８５Ｊ （商品名＞ ５９／
Ｍ、 プロボキシエトキシブロックボリマ
ー ０．２９／ｌＪ４−〕〕１ニ
ルー４−スルホネー１ 〜−２ブテノン ５ＩＲｇ／ｌリグニ
ンスルホネート ０．０５ＳＪ／ｌベンジリデ
ンアＵトン ＧＯｍ’Ｊ／１この浴のｐｌｌ
は４．７、浴イ晶は２３°Ｃであった。亜鉛アノードと
空気世ｔよ／υを用いた。平均電流密度１２＾５Ｆ（１
，３Ａ１０ｍ２）にＪ３イテ該温浴用イテスチール製試
験片をめっきした。電着膜中コバルトは０６％であり、
この試験片上に生じた電着膜は光沢性であった。
この発明の精神と範囲に反することなしに、広範に異な
る実施態様を構成することができることは明白なので、
本発明は前記特許請求の範囲において限定した以外はそ
の特定の実施態様に制約されるものではない７ 外１名
る実施態様を構成することができることは明白なので、
本発明は前記特許請求の範囲において限定した以外はそ
の特定の実施態様に制約されるものではない７ 外１名
Claims (20)
- （１）素地上に亜鉛−合金を電着せしめる為の水性・酸
性めっき浴であって、該浴が （ａ）亜鉛を電着せしめるのに充分な量で含まれる亜鉛
イオンと、 （ｂ）亜鉛−ニッケル、亜鉛−コバルト、亜鉛−ニッケ
ル−コバルトの合金を電着せしめる のに充分な量のニッケル、コバルト及びこ れらの混合物から成る群から選択された少 なくとも１種の追加的金属イオンと、 （ｃ）有効量の第１光沢剤と、 （ｄ）亜鉛−合金電着膜の粒子を微細化するのに有効な
量の第２光沢剤と、 （ｅ）亜鉛−合金電着膜に補足的光沢を付与するのに有
効な量の補助光沢剤と、 （ｆ）亜鉛−合金電着膜に延性を付与するのに有効な量
で含まれる延性剤であって、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼及び ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、 ＲはＨ、Ｃ＿６〜Ｃ＿１＿０アリール、又はＣ＿６〜Ｃ
＿２＿０アルキルアリールであり、このアルキル基はＣ
＿１〜Ｃ＿４、Ｃ＿１〜Ｃ＿２＿２アルキル、又は窒素
を含有する少なくとも一つの三級 もしくは四級リングを有するＣ＿２〜Ｃ＿１＿０異節環
状窒素化合物、並びに−ＯＨ、 −ＳＯ＿３Ｈ又は−ＣＯＯＨを含むこれらのモノ、ジ、
トリ置換誘導体、これらの周期 律表第 I 及びII族金属及びＮＨ＿４塩、並びにこれら
のアルデヒド、ケトン及びエーテ ル誘導体であり、ＸはＲ、−ＯＲ又は −ＮＲ＿２であってＲはＨ又はＣ＿１〜Ｃ＿４脂肪族ラ
ジカルであり、さらにＹはＨ又は ＳＯ＿３Ｈ；並び にこれらの相溶性・水溶性塩を示す］ に相当する化合物並びにこれらの浴相溶性 ・可溶性塩類から成る延性剤 から成る水性・酸性めっき浴。 - （２）該延性剤が０．００１〜１０ｇ／ｌの量で含まれ
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の水性・
酸性めっき浴。 - （３）該延性剤が０．０１〜５ｇ／ｌの量で含まれるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の水性・酸性
めっき浴。 - （４）水素イオンが浴のｐＨを３〜６．９にするような
量でさらに含まれることを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載の水性・酸性めっき浴。 - （５）水素イオンが浴のｐＨを４〜６にするような量で
さらに含まれることを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の水性・酸性めっき浴。 - （６）該亜鉛イオンが少なくとも１０ｇ／ｌないし浴溶
解限度で、かつ少なくとも１種の該追加的金属イオンが
０．５〜６０ｇ／ｌの量で含まれることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の水性・酸性めっき浴。 - （７）少なくとも１種の該追加的金属イオンが５〜２５
ｇ／ｌの量で含まれることを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の水性・酸性めっき浴。 - （８）該第１光沢剤が０．００１〜１０ｇ／ｌで、該第
２光沢剤が０．５〜１０ｇ／ｌで、かつ該補助光沢剤が
０．６〜１０ｇ／ｌの量で含まれることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の水性・酸性めっき浴。 - （９）該第１光沢剤が０．１〜５ｇ／ｌで、該第２光沢
剤が２〜６ｇ／ｌで、かつ該補助光沢剤が０．２〜５ｇ
／ｌの量で含まれることを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載の水性・酸性めっき浴。 - （１０）該水性・酸性めっき浴のｐＨを安定させるのに
充分な量で緩衝剤をさらに含有することを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の水性・酸性めっき浴。 - （１１）分散剤をさらに含有することを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の水性・酸性めっき浴。 - （１２）該水性・酸性めっき浴の導電性を高めるのに充
分な量で含まれる浴相溶性・可溶性導電性塩をさらに含
有することを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の水
性・酸性めっき浴。 - （１３）少なくとも１種の該追加的金属イオンが、０．
０１〜１５重量％のニッケル及び／又はコバルトを電着
膜中に含んだ亜鉛−合金電着膜が生ずるような量で含ま
れることを特徴とする特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の水性・酸性めっき浴。 - （１４）少なくとも１種の該追加的金属イオンが、０．
１〜５重量％のコバルトを含んだ亜鉛−コバルト合金電
着膜が生ずるような量で含まれることを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の水性・酸性めっき浴。 - （１５）少なくとも一種の該追加的金属イオンが、０．
２５〜９重量％のニッケルを含んだ亜鉛−ニッケル合金
電着膜が生ずるような量で含まれることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の水性・酸性めっき浴。 - （１６）該第１光沢剤がアルキルニコチネート四級化合
物から成り、かつ該第２光沢剤がアセチレン化合物アル
コキシレートから成ることを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の水性・酸性めっき浴。 - （１７）導電性素地上に亜鉛−合金を電着せしめる為の
方法であって、素地を特許請求の範囲第１項記載の水性
・酸性めっき浴と接触させる工程と、かつ素地上に所望
の膜厚になるように亜鉛−合金を電着させる工程とから
成る方法。 - （１８）浴温を１６〜４９℃の範囲以内に制御する工程
をさらに包含することを特徴とする特許請求の範囲第１
７項記載の方法。 - （１９）浴のｐＨを３〜６．９の範囲以内に制御する工
程をさらに包含することを特徴とする特許請求の範囲第
１７項記載の方法。 - （２０）素地上に亜鉛−合金を電着させる工程の平均カ
ソード電流密度を０．５〜８０ＡＳＦ（０．０５〜８．
６Ａ／Ｄｍ）に制御する工程をさらに包含することを特
徴とする特許請求の範囲第１７項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US655838 | 1984-10-01 | ||
| US06/655,838 US4543166A (en) | 1984-10-01 | 1984-10-01 | Zinc-alloy electrolyte and process |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61113786A true JPS61113786A (ja) | 1986-05-31 |
| JPH0791668B2 JPH0791668B2 (ja) | 1995-10-04 |
Family
ID=24630585
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60219006A Expired - Fee Related JPH0791668B2 (ja) | 1984-10-01 | 1985-10-01 | 亜鉛−合金改良めっき浴 |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4543166A (ja) |
| JP (1) | JPH0791668B2 (ja) |
| AU (1) | AU554440B2 (ja) |
| BR (1) | BR8504846A (ja) |
| CA (1) | CA1255619A (ja) |
| DE (1) | DE3534876A1 (ja) |
| ES (1) | ES8609514A1 (ja) |
| FR (1) | FR2571065B1 (ja) |
| GB (1) | GB2164953A (ja) |
| IT (1) | IT1184651B (ja) |
| NZ (1) | NZ213646A (ja) |
| SE (1) | SE8504517L (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62253793A (ja) * | 1986-04-15 | 1987-11-05 | 荏原ユ−ジライト株式会社 | 亜鉛・ニツケル合金電気めつき液 |
| JPH02304155A (ja) * | 1989-05-18 | 1990-12-17 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 勾配梁の取付方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2578556B1 (fr) * | 1985-03-05 | 1989-12-22 | Popescu Francine | Bain galvanique pour l'electrodeposition d'alliage zinc-cobalt brillant |
| DE3534147A1 (de) * | 1985-09-25 | 1987-04-02 | Elektro Brite Gmbh | Chloridhaltiges bad zur galvanischen abscheidung einer zink-nickel-legierung auf eisen |
| US4772362A (en) * | 1985-12-09 | 1988-09-20 | Omi International Corporation | Zinc alloy electrolyte and process |
| DE3619386A1 (de) * | 1986-06-09 | 1987-12-10 | Elektro Brite Gmbh | Sulfathaltiges bad zur galvanischen abscheidung einer zink-nickel-legierung auf eisen |
| DE3839823A1 (de) * | 1987-11-28 | 1989-06-08 | Lpw Chemie Gmbh | Verfahren zur galvanischen abscheidung von korrosionshemmenden zink/nickel-schichten, zink/kobalt-schichten oder zink/nickel/kobalt-schichten |
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