JPS61110408A - ザクロ石型磁性材料、これを含有する高フアラデー回転磁気フイルムおよびその製造方法 - Google Patents

ザクロ石型磁性材料、これを含有する高フアラデー回転磁気フイルムおよびその製造方法

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JPS61110408A
JPS61110408A JP60240683A JP24068385A JPS61110408A JP S61110408 A JPS61110408 A JP S61110408A JP 60240683 A JP60240683 A JP 60240683A JP 24068385 A JP24068385 A JP 24068385A JP S61110408 A JPS61110408 A JP S61110408A
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JP
Japan
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oxide
magnetic
magnetic material
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film
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JP60240683A
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マリー・フランソワーズ・アルマン
ヤク・ダバール
ベルナール・フエラン
ウベール・モリシヨー
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    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
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    • H01F10/08Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers
    • H01F10/10Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition
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    • H01F10/20Ferrites
    • H01F10/24Garnets
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 本発明はザクロ石型磁性材料、かかる材料を含有する高
いファラデー回転を有する磁気フィルム、およびその製
造方法に関する。
よシ特定的には本°発明は磁気光学装置、例えば7アラ
デー効果を用いる7アク7ミリおよびディスプレー装置
において使用され得る単結晶磁気フィルムの製造に関す
る。
かかる装置の原理は、磁性材料をトラバースする際に単
色光上に誘導される7アラデー効果を用いる輝度コント
ラストを得ることにある。かかる装置においては単結晶
の透明な基板が用いらnる。
基板上には磁化が平面に対して直交しているフェリ磁性
ザクロ石型単結晶フィルムが被榎嘔れており、該フィル
ムは磁気単一セル中にエツチングすることによってさら
に分割され、その磁化は一方向またに他方向に向けるこ
とができる。こnらのセルは従って7アラデー効果の結
果として偏光中に表示され得る。こうして、ある方向に
向けらnたセルは明るく見え、他方向に向けられたセル
に暗く見える。表示目的のためにかかる装置を使用する
ために、結局は単一セルの各々における磁化方向を適当
な手段によって変え得るようにすることが必要である。
今まで、この結果を達成するために2つの方法が提案さ
れた。
第1の方法によれば、磁化方向は当該セル上に限定され
た加熱パルスを用いる熱磁気効果によって変えられ、こ
のことは以下の文献に記載さnている。
(1)  B、 Ni1l 、  K、 P、 8ch
midt゛高速転換磁気光学的記憶ディスプレー容量″
(Fast 5w1tchable magneto−
optic uxemorydisplay cont
ents )Philips J、Res、 3321
1 (+978)(2J  P、 Hansen 、 
 B、 Hlll 、  W、 Tolksdort“
鉄ザクロ石で置換されたビスマスを有する光学スイッチ
ング1 (0ptical  switching with 
 bismuth  5ubstitu−ted 1r
on garnets  )Philipa Tech
、 Rev、Δ1,33. 1984(3)  ヨーロ
ッパ特許00230/+5.1980年7月9日出願、
  Ph1lips 第2の方法によnば、その結果はそれぞれ独立して直交
しており、かつ単一の磁気セルを取り囲んでいる2つの
格子の形で磁気フィルムまたは層上に被覆された薄い導
体の分極磁界の存在下における選択的な活性化による磁
気効果によって達成される。この方法の使用については
特に次の文献に記載されている。
(1)  G、R,Pulliam、 W、]LRos
s、  B、MacNeal、 凡IF、Balθy “大きな安定した磁区”  (Large 5tabl
e mag−netic domains )、  J
、んP、 53. 2754(1982)(2) h 
Waller “磁気学を駆使して行うコン・くクトディスプレー =
 (Comact displays −coo it
 with magne−tics )、  Elec
tronics、  March 24. 1983.
51(3)  M、 F、 8hone 、  V、 
FL L Murphy 、  R,F、 Be1t磁
気光学装置のためのビスマスフィルムの成長および磁気
特性= (Growth and magneticp
roperties  of  bismuth  f
ilms  for  magneto  −opti
c devices )、IJK (Trans on
 Mag )BIIAG 18 no、 6 、 PP
 1sQy −1s09 (t982)これらの各方法
において、フィルムを製造するために用いられる磁性材
料は非席に厳密な特性を有していなければならないが、
後者の方法は熱磁気効果が用いられるか、それとも磁気
効果が用いられるかの機能として異なるものである。
こうして、熱磁気効果の場合[1−1、磁化方向の反転
はあるセルに集中した加熱パルスと関連し九分極磁界の
適用によって得られる。したがってその材料は、適用さ
れた外部磁界の作用が加熱されていないセルに関してゼ
ロであることの几めに周囲温度に近い補償温度を有して
いなければならず、このことは周囲温度の付近での場合
に起こシ、一方ザクロ石構造のサブ格子の磁化の合力は
相殺され、かつ外部磁界のゼロ作用をもたらす。しかし
ながら、高温に上げられた磁気セルは連続的に適用した
磁界の方向に整列せしめられた磁化を有し、そしてこの
ことは磁化方向の反転をもたらす。
これらの特性に従いやすい磁性ザクロ石は(GaB1 
、h (FeGaAt)5012の組成を有する。
磁気フィルムまたは層セルの磁化方向の反転を得るため
に第2の方法を用いる場合、そのスイッチングは分極磁
界の存在下に交差した導体中で循環する電流の助けによ
って起こる。この場合、用いられる磁性材料は熱磁気効
果を使用する材料の特性とは著しく異なっていなければ
ならない。したがってこの材料は周囲温度に近い補償温
度を有していてはならない。しかし該材料は弱い磁化と
あまり高くない異方性を有していなけれはならない。こ
れらの/#性を壱する材料に式(BiTmJ3(FeG
a)sottに従うことができる。
第2の方法を使用することが特に有利でわる。
なぜなら、この方法に磁気セルの磁化方向の反転をよシ
一層急速に得ること(このことは特にディスプレ一手段
において1賛な利点を生ぜしめる)を可能にするからで
めろ。
発明の概要 本発明はよシ特定的には高いファラデー回転を有する、
すなわち高割合のビスマスを含有する、かつ磁気セルの
スイッチングのために前記の第2の方法を用いろ装置に
使用さn得る磁性材料に関する。
本発明による磁性材料は式 %式% (式中、Mはルテチウム、ツリウム、イッテルビウム、
イツトリウムの甲から選択嘔れる1橿または数椙の希土
類元素を表わし、”l+工t+7t およびYzはそれ
ぞれ次の値 0 (xl< 1.5 0 (xx < (L 5 04 y+ G 1 o’< yz G 1 であり、ただしylとylは両方共に0でわることはな
く、かつ7t+7tに多くても1でわる。)に従うこと
を特徴としている。
このように、本発明による磁性材料はGcL、B11I
PeS012タイプ(式中、ガドリニウムの部分に一方
ではルテチウム、ツリウム。インテルビウムまたはイツ
トリウムから成る群に属する希土類の少なくとも1つの
元素によυ、他方ではプラセオジムにより置換されてお
り、また鉄の部分に非磁性元素、例えばガリウムおよび
<”ifcは)アルミニウムによシ置換されている。〕
のザクロ石である。
この磁性材料において、高割曾のビスマスの存在は、従
来技術の磁性材料、特に渠1の方法によるスイッチング
のために使用し得る(GdBiJ3(FeGaAL)5
0H材料の混合と同様にファラデー回転の著しい増加を
得ることを可能にすり。プラセオジムおよび第2の希土
類元素の存在は、前記材料が第2の方法によるスイッチ
ングに使用され得るように該材料を変任させることを可
能にする。
このように、ルテチウム、ツリウム、イッテルビウム、
イツトリウムから成る群に属する少なくとも1種の希土
類元素の存在框補演温度を周囲温度以下に低下させるこ
とを可能にする。磁化はガリウムおよび(またに)アル
ミニウムの存在によって調整することができる。プラセ
オジムの存在は、該材料の一軸性の磁気異方e、al界
を0〜2×I Q& )、、 m−1の間の任意の値に
調歴することを可能にし、他方特にビスマス、ガリウム
および(またH)アルミニウム、およびLu、Tm、Y
b、YO中から選択さnる1種または2棟以上の希土類
の存在のために該材料の最適化しfC磁気光学特性を保
持することを可能にする。
一般に補償温度を低下させる九めに、単一の希土類元素
、例えばツリウムが使用される。Lu。
Tm、  Yb、  Y  の中から選んだ数種の希土
類元素を用いる場合には、該材料中のそれらのそれぞれ
の原子含量は、こnらの含量の合計がxlに一致するよ
うな量である。
同様に、一般に磁化をvI4iする几めに単一の元素が
用いられ、そして後者は特にガリウムでるることができ
、12は前記した式において0に等しい。
この型の磁性材料は基板上のエピタキシーによって得る
ことができる。このことは前記した式と一致する磁性材
料の単結晶フィルムよシ成p1かつまたその非磁性単結
晶基板より成る高いファラデー回転を有する磁気フィル
ムを得ることtl−可能にする。
エピタキシーにより前記磁性材料の単結晶層を得るため
に、エピタキシーのために用いらnる基板は被覆(析出
°ンされるべき磁性材料と実質的に同一の結晶格子定数
を有することが必要でおる。
この目的のために、組成: G d 5−xOAXG a 5−x−27MgyZ 
rx+y012(式中、Xとyはそnぞれ次の値: 0くx(α7 0くy(α7 x+74α8 でおる。ン と一致する大きな結晶メツシュを有する基板を用いるこ
とができる。
XとyO値を適当に選択すめこと′によって、1、24
7〜1.250 nmの範囲で変動し得る結晶格子定数
を有する基板を有することができる。
前記の層またはフィルムの液相エピタキシー析出のため
に、析出石れるべきフィルムまたに層の異なる成分の酸
化物からのエピタキシー浴を製造することから成る慣用
の方法が用いられる。すなわち、酸化ガドリニウム、酸
化プラセオジム、金属Mの少なくとも1種の酸化物、酸
化ビスマス、酸化鉄、酸化ガリウムおよび(または)酸
化アルミニウムおよび溶媒がこれらの撞々の酸化物を溶
解するために用いられる。この溶媒は特に酸化鉛と酸化
ホウ素との混合物でδる。
浴罠おいては、異なる酸化物の量は、それらが析出する
ことが望まれる層の組成に一致する量である。ついで基
板を浴中にそれを回転することによって導入し、所望組
成の単結晶層の成長をも友らすために、Td 析出温度
を浴のTB飽和温度の゛関数として調節する。析出温度
は一般に飽和温度より10〜30℃低い温度でらる。
本発明によれば、式 %式% と一致する材料のエピタキシ一層の析出〇九めに、エピ
タキシー浴の組成は綿密に調節されなけnばならず、か
つFe1O1/BizO1、PbO/B101およびP
 t+ O/B、O,のモル比は次の条件:に従わなけ
ればならない。
このことは所望の磁気光学的特性を得ることを可能にす
る。
図面および好ましい態様の説明 本発明の他の特徴および利点は非限定的な態様の次の記
載を読むことによって、またエピタキシー浴のプラセオ
ジム含量の関数としての層の異方性の進展を表わすグラ
フである添付回向を参照することによって一層よく矧る
ことができる。
エピタキシー浴は白金るつぼ中で次の酸化物量を混合す
ることによって調製場n/)。
PI)0             1674   F
Bib、           1590  fB、0
.            82  FFe203  
         218  FGalOl     
        29  fTm103       
      52toatos           
  I &3 FPrlOll           
               A5S’ついでこの混
合物を融解するために該るつぼを炉の中に1000℃で
数時間導入する。次にこnに白金スターラーを用いて攪
拌を受は堰せ、混合物の温度を950℃にする。機械的
な攪拌を4時間続け、スターラーを除去した鋏、浴の温
度ケできるだけ速く800℃に下げろ。
111配向および直径5.08α、厚さ500μmを有
する組a (GdCa )3 (GaMgZr )50
12 のみがき基板を浴中に水平に反潰し、80r、p
、m、の速度で回転運動を受は芒せる。20分佼、基板
−磁気層組立品を非回転浴から除去子ゐ。ついで溶媒の
残りを遠心分離によって除去するためにそれに900r
、 p、 m、に加速した回転運動を受けさせ、最後に
それを炉から除去する。
これらの条件下で、6μmの厚さを有する均質な単結晶
エピタキシ一層が各基板間上に得られる。
該エピタキシ一層は組a Bi I Gd 1.4T!
11(14Pr t12’e 4.5oaQ、50.2
と一致しており、その磁気特性は下記の表に示されてい
る。これはまた65λ8 nmの波長で測定したとき1
.750. OO067mのファラデー回転θf、およ
び前記と同一の波長において10 Q、000 / m
の吸収αを有する。
表は、比較するためにエピタキシ一層が弐Bi(LAT
m2.4F”A8G”1.2012に従い、かつ基板が
式Gd3GIJ01gに従う従来技術フィルムの光学お
よび磁気特性を示すものである。
表に示された結果に基づけば、本発明によるフィルムが
従来技術フィルムと比較してよりすぐnた磁気光学特性
、特に一層高いファラデー回転およびより高いメリット
値(figure of merit )M、 = 2
θf・/αを有することが明らかでおる。さらに、その
飽和磁気誘導および一軸性の異方性磁界特性は、磁化方
向の反転を得るために第2の方法を用いる装置中でそれ
を使用できるようにする。
他の磁気フィルムは、得られるフィルムの特性に及ぼす
プラセオジム含量の影響を調べるために、浴の酸化プラ
セオジム、酸化ツリウムおよび酸化ガドリニウムの含量
を単に変えることによって同じ方法で製造さnる。
得られるフィルムの特性も同様にこれらの条件下で測定
され心。得られる結果は添付図面に示されている。図は
エピタキシー浴のモル比:[Pr5Ou]/ [[Tl
tOs]+CGdtOs〕]の関数として、フィルムの
異方性定数Kuの変化を示すグラフである。この比はグ
ラフではこのグラフをつくる友めに、異方性定数Kuは
個々のフィルム間で変動し得る飽和磁気誘導値を考慮し
て、次式 (式中、Hkは一軸性の異方性磁界を表わし、M6は飽
和磁気誘導を表わす。) (基づいて測定された。
グラフから、フィルムの異方性定数は浴のプラセオジム
含量、したがってフィルムのプラセオジム含量の増加に
伴って著しく減少することが明らかである。
それらの異なるプラセオジム、ツリウムおよびガドリニ
ウム含量にもかかわらず、得られるフイ/l/ ムB 
スヘテ、6szaX(6szanm> で測定したとき
約17.500’/αのファラデー回転を有することが
分かる。
【図面の簡単な説明】
図ハエビタキシー浴のモル比[Prコ/ [Tm] +
[Gdj  K対するフィルムの異方性定数Kuの変化
を示すグラフである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)式: Gd_2_−_x__1_−_x__2M_x__1P
    r_x__2Bi_1Fe_5_−_y__1_−_y
    __2Ga_y__1Al_y__2O_1_2(式中
    、Mはルテチウム、ツリウム、イツテルビウム、イツト
    リウムの中から選択される1種または2種以上の希土類
    元素を表わし、x_1、x_2、y_1、y_2はそれ
    ぞれ次の値: 0<x_1≦1.5 0<x_2≦0.5 0≦y_1≦1 0≦y_2≦1 であり、ただしy_1とy_2は両方共に0であること
    はなく、かつy_1+y_2は多くても1である。)と
    一致する磁性材料。 2)Mがツリウムを表わすことを特徴とする前項1記載
    の磁性材料。 3)y_2が0であることを特徴とする前項1記載の磁
    性材料。 4)式: Bi_1Gd_1_._4Tm_0_._4Pr_0_
    ._2Fe_4_._5Ga_0_._5O_1_2と
    一致することを特徴とする前項1記載の磁性材料。 5)磁性材料のエピタキシー層で被覆された基板より成
    り、該磁性材料が前項1〜4のいずれか1項記載の材料
    である、高いファラデー回転を有する磁気フィルム。 6)基板が組成: Gd_3_−_xCa_xGa_5_−_x_−_2_
    yMg_yZr_x_+_yO_1_2(式中、xとy
    はそれぞれ次の値: 0<x≦0.7 0<y≦0.7 x+y≦0.8 である。) を有することを特徴とする前項5記載のフィルム。 7)式: Gd_2_−_x__1_−_x__2M_x__1P
    r_x__2Bi_1Fe_5_−_y__1_−_y
    __2Ga_y__1Al_y__2O_1_2(式中
    、Mはルテチウム、ツリウム、イツテルビウム、イツト
    リウムの中から選択される1種または2種以上の希土類
    元素を表わす。) のザクロ石フィルムの液相エピタキシーによつて基板上
    に析出させることから成り、その際 1)酸化ガドリニウム 2)酸化プラセオジム 3)少なくとも1種の金属Mの酸化物 4)酸化ビスマス 5)酸化鉄 6)酸化ガリウムおよび(または)酸化アルミニウム 7)酸化鉛および酸化ホウ素を含有する溶媒を含有する
    エピタキシー浴を使用し、かつ前記浴の組成が、Fe_
    2O_3/Bi_2O_3、PbO/Bi_2O_3お
    よびPbO/B_2O_3のモル比が次の条件:〔Fe
    _2O_3〕/〔Bi_2O_3〕<0.5;1.5<
    〔PbO〕/〔Bi_2O_3〕<2.5および5<〔
    PbO〕/〔B_2O_3〕<10と一致することを特
    徴とする前項5記載の磁気フィルムの製造方法。
JP60240683A 1984-11-02 1985-10-29 ザクロ石型磁性材料、これを含有する高フアラデー回転磁気フイルムおよびその製造方法 Pending JPS61110408A (ja)

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FR8416763 1984-11-02

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