JPS6095799A - プログラマブル・リ−ド・オンリ−・メモリ - Google Patents

プログラマブル・リ−ド・オンリ−・メモリ

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JPS6095799A
JPS6095799A JP58203975A JP20397583A JPS6095799A JP S6095799 A JPS6095799 A JP S6095799A JP 58203975 A JP58203975 A JP 58203975A JP 20397583 A JP20397583 A JP 20397583A JP S6095799 A JPS6095799 A JP S6095799A
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cell array
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Yoshinobu Natsui
夏井 善信
Hiroshi Mayumi
真弓 宏
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NEC Corp
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NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
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    • G11CSTATIC STORES
    • G11C17/00Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
    • G11C17/08Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards using semiconductor devices, e.g. bipolar elements
    • GPHYSICS
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    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
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    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
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    • G11C29/12Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
    • G11C29/18Address generation devices; Devices for accessing memories, e.g. details of addressing circuits
    • G11C29/24Accessing extra cells, e.g. dummy cells or redundant cells
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10BELECTRONIC MEMORY DEVICES
    • H10B69/00Erasable-and-programmable ROM [EPROM] devices not provided for in groups H10B41/00 - H10B63/00, e.g. ultraviolet erasable-and-programmable ROM [UVEPROM] devices

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  • Read Only Memory (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、藏気的に内科を誓き込む事が出来ゐ読み出し
専用メモ1ハすなわちプログラマブル・リード・オンリ
・メモリ(以下P−ROMと略記する)に関し、特にP
−ROMに書き込む前の6白紙”状態での回路のテスト
方式に関するものである。
最近P−ROMはユーザが1個毎に自由に記憶させる内
容を書き込める融通性の故に極めて広汎な各種情報処理
・制御用途に多用されている。かかるP−ROMの記憶
セルとしては第1図(a)に示される様にベースオープ
ンのトランジスタのコレクタをメモリの行線Xに、エミ
ッタを列線YIC接続したいわゆる接合破壊型のものが
ある。この方式では未書き込みでは記憶セルは非導通状
態を呈し、エミッタ・ベース接合を焼きつけて短絡させ
る事によシ導通させて第2図(a)の如く書き込みを行
うものである。又第1図(b)に示される様にダイオー
ド1とヒユーズ2を直列に接続して行列間(X−Y間)
に接続したいわゆるヒユーズ方式のものにあっては、未
書き込み状態で導通し、書き込みは第2図(b)の如く
ヒユーズ2を溶断させて行列間合非導通として行ってい
るものである。しかしながらこの様な記憶セルへの論理
情報の書き込みの問題として書き込み歩留シの問題があ
る。
すなわち、P−ROMは未書き込み状態すなわち6白紙
”状態でユーザーに提供しなければならないので、ユー
ザーで書き込んで始めて不良となってあられれる。しか
るに書き込み不良のモードとしては周辺回路の誤動作に
よって生ずるものや、記憶セル自身のオープン及びショ
ート不良によるもの等雑多種のものがあるが、接合破壊
型に限って言うならば固定記憶セル自身の寄生PNP)
ランジスタによる書き込み電流のまわ)込みによって生
ずる書き込み不良モードがある。
第3図を参照して上記不良モードのメカニズムを説明す
る。固定記憶セル″Qll〜Q14.Q21〜Qz4の
うち既に記憶−tzルQi 2.Ql 4.Q21、Q
211が書き込みによってベース・エミッタのPN接合
が焼きつけられている場合、記憶セルQtiを選択して
書き込みを行う時、列線Ylから行線Xlに書き込み電
流を流しても記憶セルQ21とQ2+1で構成される寄
生PNPNのサイリスタ作用によって導通状態になる事
があル、それによって矢印方向(Yl−Q21−Q22
−Ql2−XI)に電流が流れるので選択された記憶セ
ルQllへの書き込みが出来ない事になる。これは寄生
トランジスタ作用によるものであ、す、例えば第4図に
示す寄生PNP)ランジスタTIは記憶セルQ21のベ
ースがPm、、行線X2がN型。
記憶セルQ22のベースがP型で構成される。そしてN
PNトランジスタT2は記憶セルQzz自身であシ、T
町とTgの電流利得の積が1を越える時TlとT2のP
NPNがサイリスタとして導通する。従って接合破壊型
のp=RoMはこのサイリスタ作用によって、所望の情
報を書込む事が出来ない場合が生じる欠点がある。
本発明の目的は前述の如き不良モードを未書き込み状態
すなわち6白紙″状態で未然に特性試験の段階で不良と
してMl)除く事にある。
その目的を達成する為に本発明のP−ROMはユーザー
が使用する正規の固定記憶セルアレイの他に複数行のテ
スト用の記憶セルを設け、そのテスト用記憶セルにテス
ト用として製造段階にて拡散されるパターンを寄生PN
PN効来が起こりやすい様な構造とする事によって寄生
PNPNの導通の有無を検出し、導通していれば書込不
良が生ずる事を予測してこのチップを不良として取シ除
くものである。
以下本発明の実施例について詳細に説明する。
第5図は本発明の実施例を示す図であシ、ユーザー使用
の正規の記憶セルアレイとは別に2行の行線Xx’、X
z’lテスト用として設けたものであり、第3図で示し
た様な寄生PNPN効来が起こりやすいパターンを製造
段階で造ル込んだものである。すなわち正規の記憶セル
アレイの行線XI−Xnの他に更に2列の行線XI’、
X2’を増設し、列線はYl−Ymt−正規の記憶セル
アレイの列線と共用して2行Xm列のマトリクスを構成
し、行線X1′、Xz’と列線Yt−Ymとの交点にベ
ースオープンのトランジスタ(以下単にトランジスタと
略記する)及びベース・コレクタ接合ダイオード(以下
BCダイオードと略記)を配列する構成である。
第3図で示す様に寄生PNPN効来が起こる構造は隣接
した列線Yl、Y2上に書き込み済みの記憶セルと未書
き込みの記憶セル(ペース・オープントランジスタ)が
同一行線上に少なくとも1箇所以上あり1列aYx、Y
z上に接続されている記憶セルが1箇所以上書き込まれ
た状態全治するパターン構成である。
従って第5図に示す本発明の実施例は第3図の様な寄生
PNPN効来が起こシ得る構成を別に増設した記憶セル
で模疑出きるパターン構成を採って居り、行線Xl′を
基線として、列線Ylとの交点は完全オープン状態(素
子が無い状態)、列線Y2との交点にはBCダイオード
Dlz、列線Y3との交点は再び完全オープン状態、列
線Y4との交点には再びBCダイオードD14′lr:
配置し、更に行線X2’f基線として列線Ylとの交点
にはBCダイオードD211列線Y2との交点にはトラ
ンジスタQ22’、列線Y3との交点にはBCダイオー
ドD23、列線Y4との交点にはトランジスタQz4’
i各々配置している。第3図に示す様な正規の記憶セル
アレイの書き込みパターンと出きる限9同一構成とする
ならば本来なら、Xl’ −YXとXi’ −Ysの各
交点にはそれぞれ第3図の正規の記憶セルQllとQl
aと同じトランジスタを配置すべきであるが、試験時の
検出効果音上げる為、すなわち行dXz’上の021と
Q22′ で構成される冨生PNPNi通してDlzを
介して流れる矢印の電流路の検出をよくする為に完全な
オープン状態にする必要がある。
更に詳しく説明するならば、奇行線XI’が選択(接地
)され、行線X 2 Lが非選択状態にある時、列線Y
1から定電流を流し込むと正常ならば、すなわちBCダ
イオード1)21とトランジスタQ22′で構成される
寄生)’NPNのPNP トランジスタとNPNトラン
ジスタの電流利得の積が1以下にあって非導通ならば列
線Ylと行線X11間には電流路が無い(Xl’ −Y
tの交点は完全オープンの為)ので列線Yzの電位は定
電流器で決まるクランプレベルまで上昇する筈であるが
、上記D21とQ22′で構成されるPNPトランジス
タとNPN)ランジスタの電流利得の積が1以上になる
チップの場合は寄生PNPNが導通して、BCダイオー
ドD12を通して矢印の電流が流れるので列線Ylの電
位はD21−Q22’ −D12の電流路のインピーダ
ンスで決まる電位にダウンする。すなわち異常な電流路
によって列線Ylから流し込んだ電流のまわル込みが生
じる事から、ユーザーが実際に書き込む為の正規の記憶
セルアレイについても同様の電流まわり込みにより、選
択された所望の記憶セルに書き込のがなされないと言う
書き込み不良が起こる事が予想される。
第5図の本発明の詳細な説明した様にユーザーが使用す
る正規の記憶セルアレイの他に2行のテスト用記憶セル
を増設し、正規の記憶上ルアレイを実際に書き込む時の
記憶セルの寄生P N P Nによる異常な電流の壕わ
シ込みによって19込不良が起こりやすい様な1、込パ
ターンを製造段階でテスト用記憶セルとして用意する事
で、実際に起こり得る書き込み不良を未書き込み状態す
なわち、6白紙”状態で未然に取シ除く事が可能になシ
、書き込み歩留りの良い高品質のP −ROM f、提
供出来る、 又、第6図にはテスト用記憶セルの素子構造要部を示し
て居り、寄生PNPNを構成する素子BCダイオードD
21とトランジスタQ22′の素子断面図である。寄生
PNPNが導通した場合の異常な電流路は矢印で示しで
ある。第5図の素子構造要部に於いてBCダイオード1
)21のP領域とトランジスタQ22′のP領域と共通
コレクタ領域の行aX2’とでラテラルの寄生PNP)
ランジスタが構成されている。とのD21とQ22′の
P領域の距離りを正規の記憶セルアレイの記憶セル間の
P領域とP領域の距離よりも短かくする事によりラテラ
ルPNP トランジスタの電流利得が犬きくなシ、従っ
て正規の記憶セルアレイよりもテスト用の記憶セルの寄
生PNPN素子が導通しやすくなるので電流捷わり込み
による書き込み不良の検出率すなわち予測寛が艮くなる
以上説明した様に本発明は正規の記憶セルアレイを実際
に書き込む時に起こる寄生PNPNによる電流まわシ込
みの書き込み不良を未書き込み状態すなわち1白紙”状
態に於いて未然に取り除く事が出き、本発明の効果は甚
大である。
【図面の簡単な説明】
第1図ta)、 (b)はそれぞれ固定記憶セルの構成
を示す回路図であり、第2図(aL(b)はそれぞれ第
1図(aL (b)の記憶セルに書き込みを行った時の
等何回路を示す図であシ、第3図は寄生P N P N
作用による電流のまわ9込みを説明する為の回路図、第
4図は第3図の寄生PNPN作用を説明する為の補助等
価回路図、第5図は本発明の実施例を示す回路図、第6
図は本発明の別の実施例を示す素子構造要部を示す図で
ある。 1・・・・・・ダイオード、2・・・・・・ヒユーズ半
3回 猶4−図 寥ぶ劇 卒/瓢

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)固定記憶セルのn行・m列(n、mは正の整数)
    のマトリクス状に配置されたセルアレイと、前記n行及
    びm列の各々を選択する手段と、前記n行に対して設け
    られた2行・m列の固定記憶セルアレイを含み、前記n
    行・m列の固定記憶セルアレイを選択する手段とは異な
    る第2の選択する手段によって選択される前記2行・m
    列の固定記憶セルアレイに於いて、少なくとも同一の行
    及び列のそれぞれ隣接する列及び行に於ける固定記憶セ
    ルの論理情報が異なる椋に配置され、第1の論理情報に
    は列にアノードが接続され、行にカソードが接続されて
    いるベース・コレクタ接合ダイオードが配置され、第2
    の@理情報には、たすきがけの一方が開放状態で。 たすきかけのもう一方の第2の論理情報には列にエミッ
    タが接続され、行にコレクタが接続されているベース開
    放のトランジスタが配置されていることを特徴とするプ
    ログラマブル・リード・オンリー・メモリ。
  2. (2)2行の固定記憶セルアレイの一万の同一行線に於
    いて隣接配置されている前記ベース・コレクタ接合ダイ
    オードとベース開放トランジスタの相互のP型領域の物
    理的距離が前記n行×m列の固定記憶セルの相互の2M
    領域の物理的距離よシも短かくしたことを特徴とする特
    許請求の範凹第(1)項のプログラマブル・リード・オ
    ンリー・メモリ。
JP58203975A 1983-10-31 1983-10-31 プログラマブル・リ−ド・オンリ−・メモリ Granted JPS6095799A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58203975A JPS6095799A (ja) 1983-10-31 1983-10-31 プログラマブル・リ−ド・オンリ−・メモリ
EP84113053A EP0140368B1 (en) 1983-10-31 1984-10-30 Programmable read-only memory device provided with test cells
US06/666,515 US4719599A (en) 1983-10-31 1984-10-30 Programmable read-only memory device provided with test cells
DE8484113053T DE3485385D1 (de) 1983-10-31 1984-10-30 Mit pruefzellen ausgestattetes programmierbares rom-geraet.

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JPS6095799A true JPS6095799A (ja) 1985-05-29
JPH0156479B2 JPH0156479B2 (ja) 1989-11-30

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