JPS6092233A - アルデヒドの新規な合成法 - Google Patents
アルデヒドの新規な合成法Info
- Publication number
- JPS6092233A JPS6092233A JP20068183A JP20068183A JPS6092233A JP S6092233 A JPS6092233 A JP S6092233A JP 20068183 A JP20068183 A JP 20068183A JP 20068183 A JP20068183 A JP 20068183A JP S6092233 A JPS6092233 A JP S6092233A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aldehyde
- compound
- formula
- organic
- metallic salt
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- Granted
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- Pyrane Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はアルデヒドの新規な合成法に関する。更に詳細
には、下記式（Ｉ）で表わされる化合物を有機過酸の存
在下で反応させることを特徴とする下記式（Ｉ）で表わ
されるアルデヒドの新規な合成法に関する。
には、下記式（Ｉ）で表わされる化合物を有機過酸の存
在下で反応させることを特徴とする下記式（Ｉ）で表わ
されるアルデヒドの新規な合成法に関する。
但し、上記式（Ｉ＞および（ＩＩ）において、Ｒはそれ
ぞれ置換基を有していてもよい、アルキル基、アルケニ
ル基、アリール基およびアラルキル基より選ばれる基を
表わし、ｐｈはフェニル基を表わす。
ぞれ置換基を有していてもよい、アルキル基、アルケニ
ル基、アリール基およびアラルキル基より選ばれる基を
表わし、ｐｈはフェニル基を表わす。
本発明は、中性条件下低温で目的とするアルデヒドを得
ることができる点で極めてユ二−クなアルデヒド合成法
であり、従来の合成法における不安定な出発物質を用い
る合成反応あるいは不安定なアルデヒドの合成法に対し
て極めて有用な新規合成法を提供するものである。
ることができる点で極めてユ二−クなアルデヒド合成法
であり、従来の合成法における不安定な出発物質を用い
る合成反応あるいは不安定なアルデヒドの合成法に対し
て極めて有用な新規合成法を提供するものである。
本発明によれば、下記式（ｌ［）で表わされるように、
上記式（Ｉ）の化合物を有機過酸、の存在下、溶媒還流
の条件下で反応させることによって好収率でアルデヒド
を生成する。
上記式（Ｉ）の化合物を有機過酸、の存在下、溶媒還流
の条件下で反応させることによって好収率でアルデヒド
を生成する。
（Ｉｎ）
本発明において用いられる式（Ｉ）化合物は、公知方法
によって容易に合成することができる。
によって容易に合成することができる。
即ち、下記式で表わされるように、例えば公知のメｉ・
キシフェニルチオメタンにブチル化すヂウムを作用させ
てアルカリ金Ｒ塩をっくり、これをアルキルハライドの
如き有機ハライド又はカルボニル化合物と縮合させるこ
とによって容易に得ることができる。下記式においてＲ
１は上記式（Ｉ）のＲと同様に定義される基である。
キシフェニルチオメタンにブチル化すヂウムを作用させ
てアルカリ金Ｒ塩をっくり、これをアルキルハライドの
如き有機ハライド又はカルボニル化合物と縮合させるこ
とによって容易に得ることができる。下記式においてＲ
１は上記式（Ｉ）のＲと同様に定義される基である。
３−
上記のように本発明は、有機ハライドまたはカルボニル
化合物を出発物質としてＣ−Ｃ結合の生成による炭素数
が１個増加したアルデヒドの合成法を提供するものであ
る。
化合物を出発物質としてＣ−Ｃ結合の生成による炭素数
が１個増加したアルデヒドの合成法を提供するものであ
る。
本発明は反応式（］Ｉ［）に示されるように、原石物質
である式（Ｉ）の化合物に対し、１当量以上の有機過酸
を用いて反応温度θ〜６０℃、特に好ましくは０〜４０
℃に保つことによって達成される。
である式（Ｉ）の化合物に対し、１当量以上の有機過酸
を用いて反応温度θ〜６０℃、特に好ましくは０〜４０
℃に保つことによって達成される。
本発明の反応のメカニズムは明らかではないが、酸化に
よって生成するスルホキサイド（下記式（■））を経由
してアルデヒドが形成されると考えられる。しかしなが
ら、過剰４− の有機過酸が存在し、且つ上記温度をこえる反応条件で
はスルホニル化合物（下記式（Ｖ）が形成され、目的と
するアルデヒドは得られない。
よって生成するスルホキサイド（下記式（■））を経由
してアルデヒドが形成されると考えられる。しかしなが
ら、過剰４− の有機過酸が存在し、且つ上記温度をこえる反応条件で
はスルホニル化合物（下記式（Ｖ）が形成され、目的と
するアルデヒドは得られない。
Ｏｐｈ
／
Ｒ−０（（ＩＶ）
＼
０Ｇ（３
本発明において用いられる有機過酸としては、例えば過
酢酸、過安息香酸、ｍ−クロロ過安息香酸などが代表的
なものとして挙げられる。また―媒としては、反応物の
溶解度などを考慮して反応に適したものを任意に選択す
ればよい。
酢酸、過安息香酸、ｍ−クロロ過安息香酸などが代表的
なものとして挙げられる。また―媒としては、反応物の
溶解度などを考慮して反応に適したものを任意に選択す
ればよい。
以下実施例によって本発明を説明する。
実施例１
下記式で示される原料化合物（ａ ） １００ｍｇ（０
，２８６１１１１１１０１＞の塩化メチレン溶液を０℃
に冷却後、ｍ−クロロ過安息香酸（ｍ−ＣＰＢ Ａ ）
５４．４ｍ（１（０，３１５Ｉｎ ｍｏｌ）の塩化メ
チレン溶液を滴下し、０℃で１時間及び室温（２０℃）
で１２時間撹拌した。反応後亜硫酸水素ナトリウム水溶
液、重曹水溶液で洗浄して乾燥した後、カラムクロマト
（シリカゲル、ヘキサンーエーテル＝２０：１（容量）
）で精製した。下記式においてｐｈはフェニル基を表わ
す（以下の例において同じ） （ａ ） ＣＩ４ ｔ−１２９０（０ （Ａ） 実施例２ 下記式で示される原料化合物（ｂ）〜（ｆ）を用いて、
実施例１と同様にして対応するアルデヒドを製造した。
，２８６１１１１１１０１＞の塩化メチレン溶液を０℃
に冷却後、ｍ−クロロ過安息香酸（ｍ−ＣＰＢ Ａ ）
５４．４ｍ（１（０，３１５Ｉｎ ｍｏｌ）の塩化メ
チレン溶液を滴下し、０℃で１時間及び室温（２０℃）
で１２時間撹拌した。反応後亜硫酸水素ナトリウム水溶
液、重曹水溶液で洗浄して乾燥した後、カラムクロマト
（シリカゲル、ヘキサンーエーテル＝２０：１（容量）
）で精製した。下記式においてｐｈはフェニル基を表わ
す（以下の例において同じ） （ａ ） ＣＩ４ ｔ−１２９０（０ （Ａ） 実施例２ 下記式で示される原料化合物（ｂ）〜（ｆ）を用いて、
実施例１と同様にして対応するアルデヒドを製造した。
下記式においてＡＣはアセチル基を表わす。
（ｂ） （Ｂ）
（収率５５％）
（ｃ） （Ｃ）
（収率４０％）
７−
（ｄ ）
ＣｓＨ＋ｔ（）（−Ｇ（Ｏ
〇Ａｃ
（Ｄ）
（収１２４５％）
（収率８８％）
８−
（Ｆ）
（収率８２％）
上記（Ｃ）および（ｄ ）のように、β−アセトキシ体
の場合においては、β−アセトキシジメチルアセタール
がそれぞれ副生する。
の場合においては、β−アセトキシジメチルアセタール
がそれぞれ副生する。
上記実施例１および実施例２の原料化合物および生成物
の核磁気共鳴スペクトルを第１図〜第１０図に示した。
の核磁気共鳴スペクトルを第１図〜第１０図に示した。
なお、測定は（ａ）。
（ｂ）、（ｄ）及び（ｆ）は四塩化炭素を溶媒とし、（
ｃ ）、（ｅ ）、（Ｃ）、（Ｄ）。
ｃ ）、（ｅ ）、（Ｃ）、（Ｄ）。
（Ｅ）及び（Ｆ）は無溶媒にてＴＭＳ規準で行なった。
また、実施例１および実施例２の原料化合物および生成
物の薄層クロマトによるＲｆ値を第１表に示した。
物の薄層クロマトによるＲｆ値を第１表に示した。
第 １ 表
第１図〜第６図は実施例１および実施例２に用いた原料
化合物（ａ ）〜（ｆ ）のそれぞれの核磁気共鳴スペ
クトルを示し、第７図〜第１０図は上記実施例によって
得られた生成物Ｃ〜Ｆのそれぞれの核磁気共鳴スペクト
ルを示す。 出願人 大阪曹達株式会社 代理人 弁理士 四条 透
化合物（ａ ）〜（ｆ ）のそれぞれの核磁気共鳴スペ
クトルを示し、第７図〜第１０図は上記実施例によって
得られた生成物Ｃ〜Ｆのそれぞれの核磁気共鳴スペクト
ルを示す。 出願人 大阪曹達株式会社 代理人 弁理士 四条 透
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記式（Ｉ＞で表わされる化合物を有機過酸の存在下で
反応させることを特徴とする下記式（ＩＩ）で表わされ
るアルデヒドの新規な合成法。 但し、上記式（Ｉ）および（Ｉ）において、Ｒはそれぞ
れ置換基を有していてもよい、アルキル基、アルケニル
基、アリール基およびアラルキル基より選ばれる基を表
わし、ｐｈはフェニル基を表わす。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20068183A JPS6092233A (ja) | 1983-10-25 | 1983-10-25 | アルデヒドの新規な合成法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20068183A JPS6092233A (ja) | 1983-10-25 | 1983-10-25 | アルデヒドの新規な合成法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6092233A true JPS6092233A (ja) | 1985-05-23 |
| JPS6350336B2 JPS6350336B2 (ja) | 1988-10-07 |
Family
ID=16428473
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20068183A Granted JPS6092233A (ja) | 1983-10-25 | 1983-10-25 | アルデヒドの新規な合成法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6092233A (ja) |
-
1983
- 1983-10-25 JP JP20068183A patent/JPS6092233A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6350336B2 (ja) | 1988-10-07 |
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