JPS6075125A - 合成能動素子 - Google Patents

合成能動素子

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JPS6075125A
JPS6075125A JP58183811A JP18381183A JPS6075125A JP S6075125 A JPS6075125 A JP S6075125A JP 58183811 A JP58183811 A JP 58183811A JP 18381183 A JP18381183 A JP 18381183A JP S6075125 A JPS6075125 A JP S6075125A
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bipolar transistor
diode
time
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JP58183811A
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English (en)
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Kanji Nakao
中尾 ▲よし▼治
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/04Modifications for accelerating switching
    • H03K17/041Modifications for accelerating switching without feedback from the output circuit to the control circuit
    • H03K17/0412Modifications for accelerating switching without feedback from the output circuit to the control circuit by measures taken in the control circuit
    • H03K17/04126Modifications for accelerating switching without feedback from the output circuit to the control circuit by measures taken in the control circuit in bipolar transistor switches

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] この発明は合成能動素子に関し、特に、バイポーラトラ
ンジスタと抵抗とコンデンサが同一の半導体プロセスで
製造されるような合成能動素子に関づる。
[先行技術の説明〕 この発明の先行技術どなる合成能動素子はいわゆるRC
TL型論理素子の一部に応用されているものである。以
下の説明では従来のRCTL型論理素子とこの発明が適
用される論理素子との間で行なうことにする。
第1図は従来のRCTL型インバータの電気回路図であ
り、第2図は第1図に示したRCTL型インバータの入
出力電圧波形図である。
第1図において、電源線1と接地線2との間には、負荷
抵抗3とバイポーラトランジスタ4のコレクタ5および
エミッタ6がそれぞれ直列接続される。バイポーラトラ
ンジスタ4のベース7には抵抗8とコンデンサ9との並
列回路が接続され、この並列回路の他の一端が入力端子
10に接続される。バイポーラトランジスタ4のコレク
タと負荷抵抗3の接続点は出力端子11に接続される。
上述のごとく構成されたRCTL型論理素子のうち、従
来の合成能動素子に該当するものは、バイポーラトラン
ジスタ4と抵抗8とコンデンサ9とからなる点線で囲ま
れた部分50である。
次に、第2図を参照して動作原理について説明する。第
2図において(a )は第1図の入力端子10の電位■
tnを示し、(b)はバイポーラトランジスタ4のベー
ス電位v8ξを示し、(C)は出力端子11の電位yo
utを示す。なお、第2図<a>ないしくC)の縦軸は
電位を示し、横軸は時刻である。
時刻T1以前の十分長い時間の間は、第2図(a)に示
すごと<VinがOVであったとすると、第2図(b)
に示すごと<VaiはOvでバイポーラトランジスタ4
は遮断状B(以下、OFFと略称する)であり、負荷抵
抗3により出力電圧Voutは電源電圧Vooに引上げ
られて第2図(0)に示すごとくになっている。
時刻T1になって入力電圧vinが電源電圧■0、にな
ると、コンデンサ9によってバイポーラトランジスタ4
のペースエミッタ間電圧Vatは、瞬時に電源電圧VD
+1となるが、その後急速に低下し、時刻T2において
バイポーラトランジスタ4を導通(以下、ONと略称す
る)状態に保つに充分な一定電位vaに落着く。したが
って。出力電圧■Outの電位は、時刻T2と相前後す
る時刻T3でバイポーラトランジスタ4がONとなるた
め、第2図(C)に示すごとく電源電圧Vooから0■
になる。
時刻T4で入力電圧vinが電源電圧VDDからOVに
なると、コンデンサ9によってペースエミッタ間電圧V
ら[は瞬時に一定電位■aからvaVooとなり、時刻
T4より若干遅れた時刻T5で出力電圧VOutは負荷
抵抗3の充電によりOVから電源電圧Vooに等しくな
る。時刻T4でva −Vo oとなったペースエミッ
タ間電圧v8εは、バイポーラトランジスタ4の2つの
p −n接合に逆方向電圧を加えることになるので、こ
の電位の減衰時間は抵抗8とコンデンサ9とによって定
まる時定数程度となる。この値は遅延時間(時刻T4よ
り時刻T5まで)に比べて著しく長くなり、第2図(b
)に示すごとく時刻T6で時刻T1以前の状態に復帰す
る。
上述の第1図に示した従来のRCTL型論理素子は従来
の論理素子の中でも最も遅延時間の短いものとなり得る
潜在力を持っているが、以下に述べるごとく2つの利点
と1つの欠点とが共に相入れぬ関係になっているため、
これを実用化するには至らなかった。
(1) バイポーラトランジスタは俗に電流コントロー
ルデバイスと呼ばれることもあるが、それは定常状態の
ような特別な場合に成立つことであって、本質的にはベ
ースの電位によって決まる電圧コントロールデバイスで
ある。したがって。
第1図においてバイポーラトランジスタ4を少し詳細に
検討してみると、エミッタ6から注入された少数担体が
コレクタ5に抜けるベースの部分を真のベース13と呼
ぶことにすると、これと外部ベース7との間に奇生抵抗
12が存在する。この真のベース13などとエミッタ6
との間にはp−n接合による静電容量(図示せず)が存
在するため、真のベース13の電位はこれらで決まる時
定数程度の外部ベース7の電位に対して生ずる。このた
めに、第2図(b)に示すごとく、バイポーラトランジ
スタ4をOFFからONへ、ONからOFFにするのに
真のベース13に必要とするそれぞれの電位変化OVか
らva、vaからOvより大なる電位変化、それぞれO
Vから■。。、vaから■a−Vooを外部ベース7に
加えることは、真のベース13の電位変化を速くするの
に役立ち、その結果入力電圧vinに対する出力電圧V
OUtの遅れを短縮できることがわかる。
(2) n1lnバイポーラトランジスタのON状態で
ベースの電位がコレクタの電位より著しく高い場合(逆
にpnpバイポーラトランジスタの場合は低い)バイポ
ーラトランジスタがONからOFFに変わるとき、一般
に少数担体蓄積効果によると考えられている著しく大き
な遅延時間が生じる。
第2図(b)におけるペースエミッタ間電圧■8EのO
N電位■aがビルトイン(built in)電位より
十分大きいときに上述の条件にあてはまる。
しかし、このON電位■aは第1図における抵抗8を適
当に選ぶことにより、この種の遅れが生じないような電
位にすることができる。
上述の(1)、(2>が従来のRCTL型論理素子の有
する利点であるが、これらを満足させるのには、以下の
ことが欠点となっていた。
前述の動作原理のところで少し触れたように、第2図(
b)に示すごとくペースエミッタ間電圧vagが時刻T
4から時刻T6までの時間が著しく長くなるのが問題で
あった。すなわち、上述の時間内には、第1図において
ベース7に存在する負の電荷はバイポーラトランジスタ
4の2つのp−n接合がOFFになるため、唯一の放電
経路である抵抗8を通じて放電される。上述の2つの遅
延時間を短くするための最適条件では、抵抗8とコンデ
ンサ9とを極めて大きく選ぶ必要がある。
したがって、上述の過度時間が極めて長くなる。
この時間は連続する2つの入力信号が相互に干渉しない
ようにするため間隔をとるいわゆるサイクルタイムに関
係し、その長さは論理回路として使用する際の許容限界
をはるかに越えていた。この論理素子の前述の利点を多
少犠牲にして、上述の欠点を緩和して全体として改善を
図る方法が考えられるが、結論はこれ以前のものに変え
るに足る効果が期待できてないという事情があった。
[発明の概要〕 それゆえに、この発明の主たる目的は、上述の従来のも
のの欠点を除去するために、バイポーラトランジスタの
ベースに蓄積した電荷を速やかに放電するためのダイオ
ードを付加して、サイクルタイム、遅延時間ともに短縮
し得る合成能動素子を提供することである。
この発明の上述の目的およびその他の目的と特徴は以下
に図面を参照して行なう詳細な説明から一層明らかとな
ろう。
[発明の実施例] 第3図はこの発明の一実施例の電気回路図であり、第4
図は第3図の各部の入出力電圧波形図である。
この第3図に示す実施例は、以下の点を除いて第1図と
同じである。すなわち、バイポーラトランジスタ4の真
のベース13に寄生抵抗14を介してp−n接合ダイオ
ード15のカソードを接続し、アノードを接地線2に接
続する。すなわち、この発明の一実施例における合成能
動素子60は、バイポーラトランジスタ4に抵抗8.コ
ンデンサ9および寄生抵抗14とp−n接合ダイオード
15を付加して構成される。このように合成能動素子6
0を構成することによって、従来のものが第2図(b)
に示すごとくペースエミッタ間電圧■11Eが時刻T6
で定常状態のOVになるのに長時間を要したのに対して
、第4図(b)に示すごとく、上述のp−n接合ダイオ
ード15の働きにより、定常状態のO■になる時刻T6
までの時間が短縮される。但し、今)ホべた以外の場合
では、p−n接合ダイオード15の存在が他に影響しな
いことは明白であるから、上述のT4ないしT6間の時
間が短くなることを除いて、この発明の一実施例による
合成能動素子60は第4図(a)。
(b)および(C)に示すごとく、従来のものと同じに
なる。
なお、上述の第3図に示したp−n接合ダイオード15
に代えて、ショットキダイオードあるいはトンネル現象
が生ずる直前の高′a度のp−n接合ダイオードを、p
、nを通常のものと逆向きに用いてもよい。この場合、
ダイオード15とバイポーラトランジスタ4の互いに接
続される部分の伝導形式が一致するため、ダイオード1
5の電極取り出しを省略できる新たな効果が生じる。
第5図および第6図はこの発明の変形例を示す図である
すなわち、前述の第3図に示した実施例では、用いたが
、第5図に示すごとく抵抗16とコンデンサ17の並列
回路を複数直列に接続した分布定数回路を用いてもよい
。この場合の具体的な構造は、第6図に示す平行平板コ
ンデンサ状のものを用いるのが好ましい。すなわち、半
絶縁半導電性材料の層18を電極板19と20とによっ
てサンドインチ状に挾んだものであり、第3図に示した
集中定数形に比べて、抵抗とコンデンサとを一体化でき
るだけ、IC化の際における占有面積を小さくできる。
なお、上述の層18としては、酸化シリコン、窒化シリ
コンおよび多結晶シリコンなどが用いられる。
また、第6図に示した電極板20が第3図に示したバイ
ポーラトランジスタ4のベース7を兼ね、もう一方の電
極板19が入力端子10を兼ねるようにすれば、さらに
IC化における集積度の向上を図ることができるという
利点がある。
さらに、ベース7に電界効果によるチャネル電流が生ず
るように、ベースの不純物濃度を設定することにより、
定常状態でベース電流を零とすることもでき、電力をほ
とんど消費しない回路を構成することもできる。
なお、上述の説明では、npnバイポーラトランジスタ
について説明したが、Drll)バイポーラトランジス
タについても同様にこの発明のを適用できることは言う
までもない。
以上の説明ではこの発明の合成能動素子を論理素子のイ
ンバータに応用した場合について説明したが、その他の
素子への多くの応用も考えられる。
以下、そのような実施例について説明する。
第7図は従来のMOSトランジスタで構成したインバー
タを示す図であり、第8図はこの発明の合成能動素子と
等価的な働きをするMOSトランジスタを示す図であり
、第9図はこの発明の他の実施例を示す図であり、M2
O図および第11図はこの発明の他の実施例の変形例を
示す図である。
第7図において、前述の第3図に示した合成能動素子6
0をMOS トランジスタ70に置換えると、よく知ら
れたMO8型インバータになることがわかる。また、第
8図に示すごとく、MOSトランジスタ70のゲート2
2.ソース23.ドレイン24.バックゲート25とし
て、この発明の合成能動素子に適用すると、第9図、第
10図。
第11図に示すごとくとなる。その上、実施例の動作原
理を考え合わせると、論理動作上、この発明の合成能動
素子60はMOSトランジスタと等価と考えられ、np
nバイポーラトランジスタの場合、nMOSトランジス
タに対応し、pnpバイポーラトランジスタの場合、p
MO8t−ランジスタに対応するので、第7図に示した
インバータ以外の他のMOS型の論理素子などのいわゆ
るシングルチャネル、相補型を問わず、NANDゲート
NORゲート、トランスファゲート、フリップフロップ
などについても実現できる。
さらに、付記的に説明すると、第9図、第10図および
第11図において、端子25の電位は第3図に示したご
とくバイポーラトランジスタ4のエミッタ6の電位と等
しいO■にする必要はない。
すなわち、バイポーラトランジスタ4がON、0FFす
るように切換えるベース7の電位はエミッタ6の電位よ
り若干高い値であるから、端子25の電位をこの臨界電
位よりわずかに低い値に選べば、充放電電荷量を少なく
でき、高速動作が期待できる。逆に、端子25の電位を
エミッタ6の電位より低く選べば雑音に強くすることも
できる。
なお、上述のMOS、CMOSで表現されるMOSトラ
ンジスタのゲートの絶縁膜は、5102に限ることなく
、S! s Ns 、AJLz Osなどの絶縁膜はも
らろん、これらの複合膜や高抵抗の多結晶シリコン膜な
ども含む意味で用いた。
また、バイポーラ型ICにバイポーラトランジスタのエ
ミッタ、ベース、コレクタのいずれかが複−数個含まれ
て、あたかも1つのデバイスのごとき構造があるが、こ
の発明では電極に共有するものがある複数個のバイポー
ラトランジスタで構成される特別な場合と児なして個々
のバイポーラトランジスタにも適用されるものとする。
さらに、この発明の合成能動素子は、少なくともある一
定以上の立ち上がり、立ち下がり速度の入力信号が与え
られたときには、hカ述のごとく高速動作をすることが
保証され、特に回路的工夫がない限り、それ以下の立ち
上がり、立ち下がり速度の場合、著しい応答速度の低下
は避りられない。
[発明の効果〕 以上のように、この発明によれば、従来のRCTL型の
論理素子に用いられている抵抗とコンデンサとの結合に
よるバイポーラトランジスタで構成された合成能動素子
において、バイi+<−ラトランジスタの2つのp−n
接合の逆方向バイアスがかかるときの電荷を放電するよ
うに、バイポーラトランジスタのベースにダイオードを
付加したので、サイクルタイムを長くすることなく高速
の論理回路などを構成できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のRCTL型インバータを示す回路図であ
る。第2図は第1図における入出力電圧波形図である。 第3図はこの発明の一実施例のRCTL型インバータを
示ツ図Cある。第4図は第3図の入出力電圧波形図であ
る。第5図および第6図はこの発明の変形例を示す部分
図である。第7図はMOS l−ランジスタで構成した
インバータを示す図である。第8図はこの発明の合成能
動素子と等価的な働きをするMOSトランジスタを示す
図である。第9図はこの発明の他の実施例を示す図であ
る。第10図および第11図はこの発明の他の実施例の
変形例を示す図である。 図において、4はバイポーラトランジスタ、5はコレク
タ、6はエミッタ、7はベース、8.16は抵抗、9.
17はコンデンサ、13は真のベース、15はダイオー
ド、18は半絶縁半導電性材料からなる層、19.20
は導体膜、60は合成能動素子を示す。 代理人 大 岩 増 雄 搭1図 心2図 65図 66図 心7図 手続補正書(自発) 1.事件の表示 特願昭ジ8−183811号2、発明
の名称 合成能動素子 3、補正をする者 代表者片山仁へ部 5、補正の対象 明細書の特許請求の範囲の欄2発明の詳細な説明の欄お
よび図面の簡単な説明の欄 6、補正の内容 (1) 明細書の特許請求の範囲を別紙のとおり。 (2) 明細書第3頁第12行の「合成能動素子は」を
「合成能動素子に相当するものは」に訂正する。 (3〉 明細書第6頁第1行の「負荷抵抗3の充電」を
「負荷抵抗3からの充電」に訂正する。 (4) 明細書第7頁第10行の「程度の外部ベース7
」を「程度の遅れを外部ベース7Jに訂正する。 (5) 明細書第11頁第7行の「合成能動素子60は
第4図Jを「合成能動素子60を用いた論理素子の動作
は第4図」に訂正する。 (6) 明細書第11頁第12行の「トンネル現象が生
ずる直前」を[トンネルダイオードになる直前」に訂正
する。 (7) 明細書第11頁第16行の「伝導形式が」を「
伝導型が」に訂正する。 (8) 明細書第11頁第18行の[変形例を示す図ゴ
を「変形例を説明するための図Jに訂正する。 くっ) 明細書第13頁第6行の[同様にこの発明のを
適用JをF同様の説明が」に訂正する。 (10) 明細書第13頁第8行ないし第14頁第15
行の「以上の説明では・・・ついても実現できる。」を
下記の文章に訂正する。 記 以上の説明は、この発明の合成能動素子をインバータに
応用した特別な場合についてであったが、MOS)・ラ
ンジスタで構成したインバータと、その構成が一致しか
つその中でのこの発明の素子とMOSトランジスタの働
きもよく一致するので、以下に一般化してMOSトラン
ジスタで構成されるインバータ以りドの論理素子中のM
OS l−ランジスタをこの発明にf〜えることでほと
んどの論理素子を構成できることを述べる。 第3図における合成能動素子60をMOSトランジスタ
70に置換えると、第7図に示すごとく、よ(知られた
MO8型インバータになることがわかる。次に、MOS
トランジスタ70と合成能動素子60の各部を以下の図
で比較する。 第8図はMOSトランジスタを示し、第9図は最初の実
施例中で現われる合成能動素子60を示し、第10図お
よび第11図はその他の実施例における合成能動素子6
0を示す。 第8図において、MOSトランジスタ70の各部の符号
をゲート22.ソース23.ドレイン24、バックゲー
ト25とすると、第9図、第10図および第11図のよ
うに各部同一符号で示すごとく1対1に対応する。以上
のことと、実施例の動作原理を考え合わせると、論理動
作上、この発明の合成能動素子60はMOS l〜ラン
ジスタと等価と考えられる。その際、nMOSトランジ
スタ。 1)MO3I−ランジスタに対応する合成能動素子60
が考えられるから、pチャネル、nチャネル。 相?m 形ヲ問わず、NANO+ゲート、NORゲート
。 トランスファゲート・、フリップフロップなどMOS型
の論理素子が実現てきる。 (11) 8AmNmi15頁第7行(7)re MO
S」をr CIVI OS Jに訂正する。 (12) 明8IiI書第15頁第17行ないし第18
行の「、バイポーラ1〜ランシスタにも適用されるもの
とする。」を「バイポーラ1〜ランシスタにこの発明の
ものは適用されるものとする。」に訂正する。 (13) 明細書第17頁第4行の「等価的な働き」を
「等価の動き」に訂正する。 (14) 明lll1忠第17頁第5行ないし第7行の
「ザ図である。・・・示す図である。」を下記の文章に
訂正する。 記 す図である。第9図はこの発明の最初の実施例に現われ
る合成能動素子を示す図である。第10図および第11
図はこの発明の他の実施例における合成能動素子を示す
図である。 以上 2、特許請求の範囲 (1) バイポーラトランジスタと、 その一端が前記バイポーラトランジスタのベースに接続
される少なくとも1組の抵抗とコンデンサとからなる並
列回路と、 前記バイポーラトランジスタのベースを起点に −見て
、その導通方向が一前記バイボーラトランジスタのp−
n接合と逆方向となるように前記ベースに接続されるダ
イオードとからなり、 前記直列回路の他端を第1の端子とし、前記バイポーラ
トランジスタのコレクタ産−第2の端子とし、 前記バイポーラ1ヘランジスタのエミッタを第3の端子
とし、 前記ダイオードの他端り第4の端子とするようにした、
合成能動素子。 ぞれA、B、Cとするとさ、部分Aから部分Cに□ ゛
 −8°“ とする、特許請求の範囲第1項記載の合成能動素子。 (3) 前記並列回路は、復数設けられてそれぞれが直
列接続される、特許請求の範囲第1項記載の合成能動素
子。 (4) 前記並列回路は、前記複数直列接続されたもの
に相当する一様な厚さの半絶縁、半導電性材料の層とそ
の両面に設(プられた2つの電極によって構成される、
特許請求の範囲第3項記載の合成能動素子。 (5) 前記2つの電極のうちの一方は前記第1の端子
を兼用し、他方は前記ベースを兼用するようにした、特
許請求の範囲第4項記載の合成能動素子。 (6〉 前記ベースは、電界効果によるチャネル電流が
生じるように不純物原子の濃度を定めた、特許請求の範
囲第5項記載の合成能動素子。 (7) 前記ダイオードは、トンネルダイオ−LL組乞
寸前の不純物原子の濃度が犬なるp −n接合ダイオー
ドである、特許請求の範囲第、4−項記載の合成能動素
子。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) バイポーラトランジスタと、 その一端が前記バイポーラトランジスタのベースに接続
    される少なくとも1組の抵抗とコンデンサとからなる並
    列回路と、 前記バイポーラトランジスタのベース方向から見て、そ
    の導通方向は前記バイポーラトランジスタのp−n接合
    と逆方向となるようにベースに接続されるダイオードと
    、 前記直列回路の他端が接続される第1の端子と、前記バ
    イポーラトランジスタのコレクタに接続される第2の端
    子と、 前記バイポーラトランジスタのエミッタに接続される第
    3の端子と、 前記ダイオードの他端が接続される第4の端子とを備え
    た、合成能動素子。
  2. (2) 前記ベースは、前記並列回路との接続部分から
    前記ダイオードの接続部分に至る電気的経路が、前記エ
    ミッタからの少数担体の注入が生ずる部分を経由するご
    とく、各接続部分ならびに注入の生ずる部分を配置した
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の合成能動
    素子。
  3. (3) 前記並列回路は、複数設けられてそれぞれが直
    列接続される、特許請求の範囲第1項記載の合成能動素
    子。
  4. (4) 前記並列回路は、前記複数直列接続されたもの
    に相当する一様な厚さの半絶縁、半導電性材料の層とそ
    の両面に設けられた2つの電極によって構成される、特
    許請求の範囲第3項記載の合成能動素子。
  5. (5) 前記2つの電極のうちの一方は前記第1の端子
    を兼用し、他方は前記ベースを兼用するようにした、特
    許請求の範囲第4項記載の合成能動素子。
  6. (6) 前記ベースは、電界効果によるチャネル電流が
    生じるように不純物原子の濃度を定めた、特許請求の範
    囲第5項記載の合成能動素子。
  7. (7) 前記ダイオードは、トンネル現象が生ずる寸前
    の不純物原子の濃度が大なるp−n接合ダイオードであ
    る、特許請求の範囲第2項記載の合成能動素子。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0374968A2 (en) * 1988-12-22 1990-06-27 Omron Tateisi Electronics Co. Switching circuit

Cited By (1)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0374968A2 (en) * 1988-12-22 1990-06-27 Omron Tateisi Electronics Co. Switching circuit

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