JPS6071518A - 結晶性アルミノシリケ−トの製造方法 - Google Patents
結晶性アルミノシリケ−トの製造方法Info
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- JPS6071518A JPS6071518A JP17700683A JP17700683A JPS6071518A JP S6071518 A JPS6071518 A JP S6071518A JP 17700683 A JP17700683 A JP 17700683A JP 17700683 A JP17700683 A JP 17700683A JP S6071518 A JPS6071518 A JP S6071518A
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- Japan
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- zeolite
- org
- organic
- crystalline aluminosilicate
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は結晶性アルミノシリケートの新規な製造方法に
関する。特に本発明は特定の結晶面の成長を選択的に制
御することの可能な結晶性アルミノシリケートの製造方
法に関する。
関する。特に本発明は特定の結晶面の成長を選択的に制
御することの可能な結晶性アルミノシリケートの製造方
法に関する。
結晶性アルミノシリケートはゼオライトとして天然のも
のや合成されたものが数多く知られている。これらの結
晶性アルミノシリケートは主として5tO4及びAgo
4 の三次元網目構造を有し。
のや合成されたものが数多く知られている。これらの結
晶性アルミノシリケートは主として5tO4及びAgo
4 の三次元網目構造を有し。
5104とAJO4が酸系原子を介して交さ結合した四
面体の配列構造を有している。このような結晶性アルミ
ノシリケートは多数の立体構造をなす細孔を有し、モノ
キュラーシーゾとして吸着剤等に用いられると共に、そ
の特異な結晶構造から炭化木葉の転換用触媒等として広
く用いられるようになってきている。特に、最近、 Z
SM−5で代表されるZSM系ゼオライトが開発され、
C1化合物から低級オレフィンの合成にこの種のゼオラ
イトが触媒として使用されており、特定オレフィンへの
転換の選択性のよい触媒がめられている。
面体の配列構造を有している。このような結晶性アルミ
ノシリケートは多数の立体構造をなす細孔を有し、モノ
キュラーシーゾとして吸着剤等に用いられると共に、そ
の特異な結晶構造から炭化木葉の転換用触媒等として広
く用いられるようになってきている。特に、最近、 Z
SM−5で代表されるZSM系ゼオライトが開発され、
C1化合物から低級オレフィンの合成にこの種のゼオラ
イトが触媒として使用されており、特定オレフィンへの
転換の選択性のよい触媒がめられている。
有機アミン類やアルキルアンモニウム塩がゼオライト生
成の促進剤として用いられている。
成の促進剤として用いられている。
例エバ、ZSM−5ゼオライトの製造に際しては。
ナト2プロピルアンモニウム塩の如き第四級アルキルア
ンモニウム塩がゼオライト生成促進剤として用いられて
いる(米−特許第3,702,886号、特公昭46−
10064号公報等)。この種のゼオライトは一般に、
シリカ源、アルミナ源、アルカリ金属塩等の水性混合物
を40〜250℃の水熱合成条件下に保持することによ
って製造しているが、 ZSM−5ゼオライトの場合は
これに促進剤として例えば水酸化テトラプ四ピルアンモ
ニウムを加え、線間の良いゼオライトを得ている。すな
わち、促進剤の存在により目的とするゼオライトの結晶
の成長のみが速められ、モルデナイト等が他の結晶が混
在しない良質のゼオライトを得ることができる。
ンモニウム塩がゼオライト生成促進剤として用いられて
いる(米−特許第3,702,886号、特公昭46−
10064号公報等)。この種のゼオライトは一般に、
シリカ源、アルミナ源、アルカリ金属塩等の水性混合物
を40〜250℃の水熱合成条件下に保持することによ
って製造しているが、 ZSM−5ゼオライトの場合は
これに促進剤として例えば水酸化テトラプ四ピルアンモ
ニウムを加え、線間の良いゼオライトを得ている。すな
わち、促進剤の存在により目的とするゼオライトの結晶
の成長のみが速められ、モルデナイト等が他の結晶が混
在しない良質のゼオライトを得ることができる。
また、エタノールやエチレングリコール等が結晶生成の
抑制剤の作用をすることが知られている(特開昭57−
27921号公報)。すなわち。
抑制剤の作用をすることが知られている(特開昭57−
27921号公報)。すなわち。
ZSM−5ゼオライトの製造の改善方法として、シリカ
源、アルミナ源、アルカリ金属塩等の水性混合物を反応
させる際に、エタノールやグリコール等のアルコールを
存在させることによって、ケニャ岩の生成を抑制し高純
度のZSM−5が得られることを示している。
源、アルミナ源、アルカリ金属塩等の水性混合物を反応
させる際に、エタノールやグリコール等のアルコールを
存在させることによって、ケニャ岩の生成を抑制し高純
度のZSM−5が得られることを示している。
また1例えばホージャサイト型ゼオライト等の成長に対
して糖類が抑制作用を示すことも知られている(欧州特
開第41338号公報)。
して糖類が抑制作用を示すことも知られている(欧州特
開第41338号公報)。
本発明者等は01化合物から特定オレフィンへの選択性
の良い触媒として作用するように特定結晶面が選択的に
成長したZSM−sゼオライト等の結晶性アルミノシリ
ケートを得るために種々検討した結果、アルコール類や
糖類もZSM−sゼオライトの生成に対して抑制作用を
示し、且つ前記の有機促進剤とこのような有機抑制剤を
共存させることにより結晶性アルミノシリケートの結晶
を選択的に成長させることができることを見出した。
の良い触媒として作用するように特定結晶面が選択的に
成長したZSM−sゼオライト等の結晶性アルミノシリ
ケートを得るために種々検討した結果、アルコール類や
糖類もZSM−sゼオライトの生成に対して抑制作用を
示し、且つ前記の有機促進剤とこのような有機抑制剤を
共存させることにより結晶性アルミノシリケートの結晶
を選択的に成長させることができることを見出した。
すなわち1例えば、シリカ、アルミナ、アルカリ金属塩
等の水性混合物からZSM−5ゼオライトを生成させる
場合に促進剤として臭化テトラプロピルアンモニウムプ
ロマイrと抑制剤としてレプロースの如き糖を共存させ
ると、ZSM−5の特定の結晶面が成長し且つ他の特定
の結晶面が抑制され、系を長時間水熱合成条件下に保持
するとFZ−1ゼオライト(特開昭56−88820号
公報)に近い結晶構造を有する新規なZSM−5ゼオラ
イトが得ら多することを見出し、同様な結果が他の糖や
アルコールを抑制剤としで用いた場合にも得られ。
等の水性混合物からZSM−5ゼオライトを生成させる
場合に促進剤として臭化テトラプロピルアンモニウムプ
ロマイrと抑制剤としてレプロースの如き糖を共存させ
ると、ZSM−5の特定の結晶面が成長し且つ他の特定
の結晶面が抑制され、系を長時間水熱合成条件下に保持
するとFZ−1ゼオライト(特開昭56−88820号
公報)に近い結晶構造を有する新規なZSM−5ゼオラ
イトが得ら多することを見出し、同様な結果が他の糖や
アルコールを抑制剤としで用いた場合にも得られ。
また前記有機促進剤についても同様に得られることを見
出した。
出した。
さらに又1本発明者等は、有機促進剤と有機抑制剤の組
み合わせ、原料混合物の組成の種類によっては結晶面の
選択的制御だけではなく、結晶比変、すなわちゼオライ
トの粒ツを制御することもできることを見出した。
み合わせ、原料混合物の組成の種類によっては結晶面の
選択的制御だけではなく、結晶比変、すなわちゼオライ
トの粒ツを制御することもできることを見出した。
すなわち、本発明の目的は結晶面の成長を選択的に制御
することができる結晶性アルミノシリケートの製造方法
を提供することにある。
することができる結晶性アルミノシリケートの製造方法
を提供することにある。
本発明の他の目的は結晶の結晶比変な制御することので
きる結晶性アルミノシリケートの製造方法を提供するこ
とにある。
きる結晶性アルミノシリケートの製造方法を提供するこ
とにある。
本発明の更に仙の目的はC1化合物から低級オレフィン
への選択的転換に有効な種々のゼオライト触媒の製造方
法を提供することにある。
への選択的転換に有効な種々のゼオライト触媒の製造方
法を提供することにある。
すなわち1本発明は、少なくとも一種のシリカ源、少な
くとも一種のアルミナ源、少なくとも一種の遊離水酸基
源である無機塩基類と、ゼオライト生成有機促進剤及び
有機抑制剤を同時に含む水性混合物を水熱合成条件下に
保持することを特徴とする結晶性アルミノシリケートの
製造方法である。
くとも一種のアルミナ源、少なくとも一種の遊離水酸基
源である無機塩基類と、ゼオライト生成有機促進剤及び
有機抑制剤を同時に含む水性混合物を水熱合成条件下に
保持することを特徴とする結晶性アルミノシリケートの
製造方法である。
以下1本発明の詳細な説明する。
本発明で用いられるシリカ源としては、粉末状シリカ、
コロイド状シリカ、けい酸、溶解シリカ等一般に合成ゼ
オライトの製造に用いられるものはすべて用いることが
できる。
コロイド状シリカ、けい酸、溶解シリカ等一般に合成ゼ
オライトの製造に用いられるものはすべて用いることが
できる。
アルミナ源としてはアルミニウムの塩酸塩、硝酸塩、硫
酸垣、明ばん、アルミン酸ソーダ等が用いられる。
酸垣、明ばん、アルミン酸ソーダ等が用いられる。
上記シリカ源及びアルミナ源は一般に水溶性であること
が好ましく、本発明はこれらをそれぞれ二種以上用いて
もよい。
が好ましく、本発明はこれらをそれぞれ二種以上用いて
もよい。
遊離水酸基源としての無機塩基類としては1例えばアル
カリ金属やアルカリ土類金属の水酸化物があり、具体的
には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ルビ
ジウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸
化バリウム等がある。
カリ金属やアルカリ土類金属の水酸化物があり、具体的
には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ルビ
ジウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸
化バリウム等がある。
これらのうちで、アルカリ金属の水酸化物が特に好まし
い。さらに、アルカリ金属のけい酸塩、アルミン酸塩等
もこのような無機塩基類として用いることができる、 これらの無機塩基類も二種以上用いてもよい。
い。さらに、アルカリ金属のけい酸塩、アルミン酸塩等
もこのような無機塩基類として用いることができる、 これらの無機塩基類も二種以上用いてもよい。
本発明で用いられるゼオライト生成有機促進剤としては
有機アミン及びアルキルアンモニウム塩があり、有機ア
ミンとt7てはn−プロピルアミン。
有機アミン及びアルキルアンモニウム塩があり、有機ア
ミンとt7てはn−プロピルアミン。
n−ブチルアミン、n−ヘキシルアミン、ネオペンチル
アミン、tert−ブチルアミン、 5ec−ブチルア
ミン等のモノアルキルアきン、あるいはジプチルアミン
等のジアルキルアミン、あるいはトリブチルアミン、ト
リプロピルアミン等のトリアルキルアミン、あるいはピ
はリジン、アルキルビd vDン、キヌクリジン、ヘキ
サメチレンテトラミン等の環状アミン、あるいはアミノ
アルコール類、ブチルアミドに代表されるアミド類があ
る。
アミン、tert−ブチルアミン、 5ec−ブチルア
ミン等のモノアルキルアきン、あるいはジプチルアミン
等のジアルキルアミン、あるいはトリブチルアミン、ト
リプロピルアミン等のトリアルキルアミン、あるいはピ
はリジン、アルキルビd vDン、キヌクリジン、ヘキ
サメチレンテトラミン等の環状アミン、あるいはアミノ
アルコール類、ブチルアミドに代表されるアミド類があ
る。
また、有機抑制剤としてはエタノール、シタノールの如
キー価アルコール;ハンタエリトリトール、クリコール
(例えばエチレングリコール)、グリセリン、ポリビニ
ルアルコール等の多価アルコール;及ヒマルトース、ラ
クトース、サッカ。
キー価アルコール;ハンタエリトリトール、クリコール
(例えばエチレングリコール)、グリセリン、ポリビニ
ルアルコール等の多価アルコール;及ヒマルトース、ラ
クトース、サッカ。
−ス、レプロース等の糖類あるいはカルボン酸類(例え
ば酪酸)がある。
ば酪酸)がある。
これらの有機抑制剤の一部は前記したようKある種の結
晶に対する生成抑制剤として知られているが1本発明者
らはこれらの抑制剤も含めて上記の如き有機抑制剤が上
記作用の他にZSM−5ゼオライトの如き結晶性アルミ
ノシリケート自体の特定結晶面に対する生成抑制作用が
あることを見出し、前記有機抑制剤と組み合わせること
により。
晶に対する生成抑制剤として知られているが1本発明者
らはこれらの抑制剤も含めて上記の如き有機抑制剤が上
記作用の他にZSM−5ゼオライトの如き結晶性アルミ
ノシリケート自体の特定結晶面に対する生成抑制作用が
あることを見出し、前記有機抑制剤と組み合わせること
により。
ZSM−5の如き結晶性アルミノシリケートの特定結晶
面の成長を有効に制御し1選択的成長を行わせ得ること
を見出した。
面の成長を有効に制御し1選択的成長を行わせ得ること
を見出した。
有機促進剤の添加量は1例えばZSM−5ゼオライト製
造時におけるテトラアルキルアンモニウム塩の添加量と
同様であり、有機促進剤と有機抑制剤の割合は等モルか
これに近い値(捧〜2倍)であることが好ましい。
造時におけるテトラアルキルアンモニウム塩の添加量と
同様であり、有機促進剤と有機抑制剤の割合は等モルか
これに近い値(捧〜2倍)であることが好ましい。
本発明においては、前記の如きシリカ源、アルミナ源、
無機塩基、有機促−剤、及び有機抑制剤を含む水性混合
物を水熱合成条件下、すなわち。
無機塩基、有機促−剤、及び有機抑制剤を含む水性混合
物を水熱合成条件下、すなわち。
80℃〜250℃で30分〜500時間の範囲内でゼオ
ライトの結晶が生成するまで保持することによって所望
の結晶性アルミノシリケートを製造することができる。
ライトの結晶が生成するまで保持することによって所望
の結晶性アルミノシリケートを製造することができる。
この場合、有機促進剤と有機抑制剤の組合わせを適宜選
択することによって特定結晶面の成長が負、−It御さ
れた結晶性アルミノシリケートや特定結晶比変(粒間)
を持った結晶性アルミノシリケートを得ることができる
。
択することによって特定結晶面の成長が負、−It御さ
れた結晶性アルミノシリケートや特定結晶比変(粒間)
を持った結晶性アルミノシリケートを得ることができる
。
例えば、前記したように有機促進剤としてテトラプルピ
ルアンモニウム塙、有機抑制剤としてサッカロースを用
いることによりFZ−1ゼオライトに近い結晶構造を有
するZSM−5ゼオライトを得ることができる(実施例
1)。また有機促進剤とし、てテトラエチルアンモニウ
ム塩、有機抑制剤としてマルトースを用いてもFZ−1
タイプのゼオライトが生成する(実施例2)。有機促進
剤としてテトラプロピルアンモニウム堪を用い、有機抑
制剤としてレプロースを用いると微細結晶性ZSM−5
を得ることができる(実施例3)。有機促鞭剤としてテ
トラメチルアンモニウム塩、有機抑制剤としてはンタエ
リトリットを用いるとZSM −39タイプのゼオライ
トが生成する(実施例4)。有機促進剤として同じくテ
トラメチルアンモニウム塩。
ルアンモニウム塙、有機抑制剤としてサッカロースを用
いることによりFZ−1ゼオライトに近い結晶構造を有
するZSM−5ゼオライトを得ることができる(実施例
1)。また有機促進剤とし、てテトラエチルアンモニウ
ム塩、有機抑制剤としてマルトースを用いてもFZ−1
タイプのゼオライトが生成する(実施例2)。有機促進
剤としてテトラプロピルアンモニウム堪を用い、有機抑
制剤としてレプロースを用いると微細結晶性ZSM−5
を得ることができる(実施例3)。有機促鞭剤としてテ
トラメチルアンモニウム塩、有機抑制剤としてはンタエ
リトリットを用いるとZSM −39タイプのゼオライ
トが生成する(実施例4)。有機促進剤として同じくテ
トラメチルアンモニウム塩。
有機抑制剤としてネオシンチル型アルコールヲ用いると
微細結晶性モルデナイト類似ゼオライトが生成する(実
施例5)。
微細結晶性モルデナイト類似ゼオライトが生成する(実
施例5)。
以下1本発明を実施例によって盈明するが1本発明はこ
れらに限定されるものではなく、有機促進剤と有機抑制
剤の他の種々組合せが可能である。
れらに限定されるものではなく、有機促進剤と有機抑制
剤の他の種々組合せが可能である。
実施例1.2.4はある特定の結晶面の成長を有効に制
御した実施例であり、実施例3と5は結晶の粒度制御を
行った実施例である。
御した実施例であり、実施例3と5は結晶の粒度制御を
行った実施例である。
実施例1
93.09の蒸留水に96%H2SO4(和光紬薬。
特級) 4.53 El 、 Al2(804)3・1
8H20(和光紬薬、特級)t8gの割合で含む水浴液
に、20.429のNace(和光紬薬、特級)および
臭化テトラプロピルアンモニウム6.8’lg、+7ツ
〃Q−人4.679を加える。この混合溶液に13%シ
リカゲル懸濁液(日本化学工業、J珪酸ソーダ3号54
.4gを水68.1gで希釈したもの)122.59を
一気に加え、生成したゲルを数分間強く攪拌した。この
内容物をパイレックス製オートクレーブに入れ、室温か
ら所定の温度180℃まで0.5時間で昇温し、3日間
保った。(圧力ニ自然発生)オートクレーブから取り出
したゼオライトを毎回1eの蒸留水で3回洗浄した。そ
の後120℃で乾燥させてから空気流通下550℃で3
時間焼成した。
8H20(和光紬薬、特級)t8gの割合で含む水浴液
に、20.429のNace(和光紬薬、特級)および
臭化テトラプロピルアンモニウム6.8’lg、+7ツ
〃Q−人4.679を加える。この混合溶液に13%シ
リカゲル懸濁液(日本化学工業、J珪酸ソーダ3号54
.4gを水68.1gで希釈したもの)122.59を
一気に加え、生成したゲルを数分間強く攪拌した。この
内容物をパイレックス製オートクレーブに入れ、室温か
ら所定の温度180℃まで0.5時間で昇温し、3日間
保った。(圧力ニ自然発生)オートクレーブから取り出
したゼオライトを毎回1eの蒸留水で3回洗浄した。そ
の後120℃で乾燥させてから空気流通下550℃で3
時間焼成した。
X線回折分析の結果、得られた物質は第1表に示す如き
FZ−1型ゼオライトに類似し、シャープなノぞターン
を有していた。この物質は例えばメタノールからエチレ
ンを合成する触媒等として用いることができる。
FZ−1型ゼオライトに類似し、シャープなノぞターン
を有していた。この物質は例えばメタノールからエチレ
ンを合成する触媒等として用いることができる。
11.191 13.0
10.026 100.0
5.028 17.0
4.983 20.0
4.270 17.0
3.850 35.0
:3818 24.0
3.351 16.0
3.314 16.0
2.515 9.0
2.010 10.0
1.989 11.0
実施例2
93.0gの蒸留水に96%H2SO4(和光紬薬、特
N) 4.53g、 Al12cF30a)s・18H
20(和光紬薬、特i )1.8gの割合で含む水溶液
に、20.429のNaCg(和光紬薬1判級)°およ
び10%水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液32.
99とマルトース4.9’lを加えた。この混合溶液に
13%シリカゲル懸濁液(日本化学工業、J珪酸ソーダ
3号)122.5gを一気に加え、生成したゲルを数分
間強く攪拌した。この内容物をパイレックス製オートク
レーブに入れ、室温から所定の温度180℃で0.5時
間で昇温し、3日間保った。(圧力ニ自然発生)オート
クレーブから皐り出し・たゼオライトを毎回1eの蒸留
水で3回洗浄した。その後120℃で乾燥させてから空
気流通下550℃で3時間焼成した。
N) 4.53g、 Al12cF30a)s・18H
20(和光紬薬、特i )1.8gの割合で含む水溶液
に、20.429のNaCg(和光紬薬1判級)°およ
び10%水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液32.
99とマルトース4.9’lを加えた。この混合溶液に
13%シリカゲル懸濁液(日本化学工業、J珪酸ソーダ
3号)122.5gを一気に加え、生成したゲルを数分
間強く攪拌した。この内容物をパイレックス製オートク
レーブに入れ、室温から所定の温度180℃で0.5時
間で昇温し、3日間保った。(圧力ニ自然発生)オート
クレーブから皐り出し・たゼオライトを毎回1eの蒸留
水で3回洗浄した。その後120℃で乾燥させてから空
気流通下550℃で3時間焼成した。
X線回折分析の結果、得られた物質は第2表に示す如き
FZ−1型に類似し、シャープなノぞターンを有してい
た。この物質もメタノールからエチレンを合成する触媒
として用いることができる。
FZ−1型に類似し、シャープなノぞターンを有してい
た。この物質もメタノールからエチレンを合成する触媒
として用いることができる。
第2表 。
格子間隔(A) 相対強度
11.851 27.0
9.880 11.0.0
4.955 32.0
3.850 49.0
3.802 47.0
3.302 24.0
1.985 15.0
実施例3
93.0gの蒸留水に96%H2So、4(和光紬薬。
特級) 4.539 、 A42(SO2)3・18H
20(和光紬薬、特級)1.8gの割合で含む水溶液に
、 20.429のNaCl!(和光紬薬、特級)およ
び臭化テトラプロピルアンモニウム6.81iレプロー
ス4.50gを加えた。この混合溶液に13%シリカゲ
ル懸濁液(日本化学工業、J珪酸ソーダ3号)122.
5gを一気に加え、生成したゲルを数分間強く攪拌した
。この内容物をパイレックス製オートクレーブに入れ、
室温から所定の温度1610℃まで0.5時間で昇温し
、3日間保った。(圧力ニ自然発生)オートクレーブか
ら取り出したゼオライトを毎回1eの蒸留水で3回洗浄
した。その後120℃で乾燥させてから空気流通下55
0℃で3時間焼成した。
20(和光紬薬、特級)1.8gの割合で含む水溶液に
、 20.429のNaCl!(和光紬薬、特級)およ
び臭化テトラプロピルアンモニウム6.81iレプロー
ス4.50gを加えた。この混合溶液に13%シリカゲ
ル懸濁液(日本化学工業、J珪酸ソーダ3号)122.
5gを一気に加え、生成したゲルを数分間強く攪拌した
。この内容物をパイレックス製オートクレーブに入れ、
室温から所定の温度1610℃まで0.5時間で昇温し
、3日間保った。(圧力ニ自然発生)オートクレーブか
ら取り出したゼオライトを毎回1eの蒸留水で3回洗浄
した。その後120℃で乾燥させてから空気流通下55
0℃で3時間焼成した。
X線回折分析の結果、この物質は第3表に示す如き微細
なZSM−5型ゼオライトの結晶に類似し。
なZSM−5型ゼオライトの結晶に類似し。
ブローPなパターンを示した。このゼオライトは例えば
n−−ξラフインのリホーミング触媒等として用いるこ
とかできる。
n−−ξラフインのリホーミング触媒等として用いるこ
とかできる。
第3表
格子間隔(A) 相対節■
11.632 87.0
11.149 .100.0
10.402 66.0
10.282 68.0
10048 88.0
実施例4
アルミン酸ナトリウム(和光紬薬製)0.91gと水酸
化ナトリウム(和光紬薬製試薬特級)3.41gを純水
111gに溶解し、これをA液とした。
化ナトリウム(和光紬薬製試薬特級)3.41gを純水
111gに溶解し、これをA液とした。
シリカゾル(8産化学製スノーテックス30)5B、5
9を純水111gに添加し、攪拌にて均質化した。次に
この浴液に臭化テトラメチルアンモニウム11.25g
を加え、十分に攪拌して溶解させた。この溶液をB液と
した。A液とB液を添加して十分に撹拌し、ついでこの
混合ゲルにペンタエリトリツ)9.94gを加え、再び
十分に攪拌して均質化し、後約30〜60分間静置した
。このように調製した反応母液ゲルを再び攪拌し、ゲル
の大部分を200m1のパイレックスII’、t−)り
L/−プにセットした。isn’cの温度に設定した油
浴中で6日間加熱する(自圧下)得られた生成物に濾過
及び水洗浄処理を3回繰り返し、そして120℃で3時
間乾燥し、ついで空気流通下550℃で3時間焼成した
。X線回折分析の結果、この物質は後記の第4表に示さ
れる如きZSM−39に類似し、シャープなパタージを
有していた。
9を純水111gに添加し、攪拌にて均質化した。次に
この浴液に臭化テトラメチルアンモニウム11.25g
を加え、十分に攪拌して溶解させた。この溶液をB液と
した。A液とB液を添加して十分に撹拌し、ついでこの
混合ゲルにペンタエリトリツ)9.94gを加え、再び
十分に攪拌して均質化し、後約30〜60分間静置した
。このように調製した反応母液ゲルを再び攪拌し、ゲル
の大部分を200m1のパイレックスII’、t−)り
L/−プにセットした。isn’cの温度に設定した油
浴中で6日間加熱する(自圧下)得られた生成物に濾過
及び水洗浄処理を3回繰り返し、そして120℃で3時
間乾燥し、ついで空気流通下550℃で3時間焼成した
。X線回折分析の結果、この物質は後記の第4表に示さ
れる如きZSM−39に類似し、シャープなパタージを
有していた。
実施例5
アルミン酸ナトリウム(和光紬薬製)1.21gと水酸
化ナトリウム(和光紬薬製試薬特級)4.551を純水
148gに溶解し、これをA液とした。
化ナトリウム(和光紬薬製試薬特級)4.551を純水
148gに溶解し、これをA液とした。
シリカゾル(8産化学製スノーテックス30)789を
純水148gに添加し、攪拌にて均質化した。次に、こ
の溶液にインタダリセリン11.719を加え、十分に
攪拌して溶解させた。この溶液をB液とした。A液にB
液を添加して十分攪拌し。
純水148gに添加し、攪拌にて均質化した。次に、こ
の溶液にインタダリセリン11.719を加え、十分に
攪拌して溶解させた。この溶液をB液とした。A液にB
液を添加して十分攪拌し。
次にこの混合ゲルに臭化テトラメチルアンモニウム15
.0gを加えて再び十分に撹拌して均質化し。
.0gを加えて再び十分に撹拌して均質化し。
後約30〜60分間静置した。このように調製した反応
母液ゲルを再び攪拌し、この約半量を200wt1の7
1!イレツクス製オートクレーブにセットした。
母液ゲルを再び攪拌し、この約半量を200wt1の7
1!イレツクス製オートクレーブにセットした。
180℃の温度に設定した油浴中で6日間加熱した(自
圧下)、得られた生成物に濾過及び水洗浄処理を3回繰
り返し、そしそ120℃で3時間乾燥し、ついで空気流
通下550℃で3時間焼成した。Xi回折分析の結果、
得られた物質は第5表に示す如きモルデナイト型ゼオラ
イトに類似し。
圧下)、得られた生成物に濾過及び水洗浄処理を3回繰
り返し、そしそ120℃で3時間乾燥し、ついで空気流
通下550℃で3時間焼成した。Xi回折分析の結果、
得られた物質は第5表に示す如きモルデナイト型ゼオラ
イトに類似し。
ブロードなパターンを有していた。この物質は炭化水素
類の脱ろう等に用いることができる。
類の脱ろう等に用いることができる。
11.334 24.0 9.025 33.09.1
18 30゜0 8,465 28.08.934 3
3.0 7.314 17.08.425 36.0
6.916 27.06.8B9 54.0 6.65
7 28.06.682 24.0 6.259 23
.06.607 24.0 5.887 18i16.
281 28.0 5.644 15.05.867
100.0 4.518 25.05.627 67.
0 4.473 26.04B74 47.0 4.3
22 40.04.462 50.0 4281 43
.04.385 26.0 4.114 90.04.
105 47.0 3.739 24.03.969
58.0 3.663 23.03.739 100.
0 3.401 51.03.433 67.0 3.
357 100.03.278 89.0 249B
24.03.232 22.0 2.287 12.0
3.069 22.0 1.821 16.02.95
9 18.0 2.529 18.0 2.368 15.0 2.287 20.0
18 30゜0 8,465 28.08.934 3
3.0 7.314 17.08.425 36.0
6.916 27.06.8B9 54.0 6.65
7 28.06.682 24.0 6.259 23
.06.607 24.0 5.887 18i16.
281 28.0 5.644 15.05.867
100.0 4.518 25.05.627 67.
0 4.473 26.04B74 47.0 4.3
22 40.04.462 50.0 4281 43
.04.385 26.0 4.114 90.04.
105 47.0 3.739 24.03.969
58.0 3.663 23.03.739 100.
0 3.401 51.03.433 67.0 3.
357 100.03.278 89.0 249B
24.03.232 22.0 2.287 12.0
3.069 22.0 1.821 16.02.95
9 18.0 2.529 18.0 2.368 15.0 2.287 20.0
Claims (1)
- (1) 少なくとも一種のシリカ源、少くとも一種のア
ルミナ源、少なくとも一種の遊離水酸基源である無機塩
基類と、ゼオライト生成有機促進剤及び有機抑制剤を同
時に含む水性原料混合物を水熱合成条件下に保持するこ
とを特徴とする結晶性アルミノシリケートの製造方法。 (21有機促進剤が有機アミンまたはアルキルアンモニ
ウム塩であり、有機抑制剤が1価アルコール。 多価アルコールまたは糖類である特許請求の範囲第(1
)項に記載の結晶性アルミノシリケートの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17700683A JPS6071518A (ja) | 1983-09-27 | 1983-09-27 | 結晶性アルミノシリケ−トの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17700683A JPS6071518A (ja) | 1983-09-27 | 1983-09-27 | 結晶性アルミノシリケ−トの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6071518A true JPS6071518A (ja) | 1985-04-23 |
Family
ID=16023516
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17700683A Pending JPS6071518A (ja) | 1983-09-27 | 1983-09-27 | 結晶性アルミノシリケ−トの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6071518A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5183650A (en) * | 1989-10-18 | 1993-02-02 | Tokushu Kika Kogyo Co., Ltd. | Micro-particulate aluminosilicate and process for producing the same |
-
1983
- 1983-09-27 JP JP17700683A patent/JPS6071518A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5183650A (en) * | 1989-10-18 | 1993-02-02 | Tokushu Kika Kogyo Co., Ltd. | Micro-particulate aluminosilicate and process for producing the same |
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