JPS6070186A - シヤドウマスクの製造方法 - Google Patents
シヤドウマスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS6070186A JPS6070186A JP17637983A JP17637983A JPS6070186A JP S6070186 A JPS6070186 A JP S6070186A JP 17637983 A JP17637983 A JP 17637983A JP 17637983 A JP17637983 A JP 17637983A JP S6070186 A JPS6070186 A JP S6070186A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- etching
- shadow mask
- hole
- metal plate
- etched
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17637983A JPS6070186A (ja) | 1983-09-26 | 1983-09-26 | シヤドウマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17637983A JPS6070186A (ja) | 1983-09-26 | 1983-09-26 | シヤドウマスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6070186A true JPS6070186A (ja) | 1985-04-20 |
| JPH0420993B2 JPH0420993B2 (OSRAM) | 1992-04-07 |
Family
ID=16012604
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17637983A Granted JPS6070186A (ja) | 1983-09-26 | 1983-09-26 | シヤドウマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6070186A (OSRAM) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6386877A (ja) * | 1986-09-30 | 1988-04-18 | Toshiba Corp | シヤドウマスクの製造方法 |
| JPS63190181A (ja) * | 1987-01-30 | 1988-08-05 | Dainippon Printing Co Ltd | シヤドウマスクの製造方法 |
| JPH066139U (ja) * | 1991-12-09 | 1994-01-25 | 有限会社アイビ−工業 | 洗浄装置 |
| JPH09157867A (ja) * | 1995-11-30 | 1997-06-17 | Toppan Printing Co Ltd | シャドウマスクの製造方法 |
| US5883012A (en) * | 1995-12-21 | 1999-03-16 | Motorola, Inc. | Method of etching a trench into a semiconductor substrate |
-
1983
- 1983-09-26 JP JP17637983A patent/JPS6070186A/ja active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6386877A (ja) * | 1986-09-30 | 1988-04-18 | Toshiba Corp | シヤドウマスクの製造方法 |
| JPS63190181A (ja) * | 1987-01-30 | 1988-08-05 | Dainippon Printing Co Ltd | シヤドウマスクの製造方法 |
| JPH066139U (ja) * | 1991-12-09 | 1994-01-25 | 有限会社アイビ−工業 | 洗浄装置 |
| JPH09157867A (ja) * | 1995-11-30 | 1997-06-17 | Toppan Printing Co Ltd | シャドウマスクの製造方法 |
| US5883012A (en) * | 1995-12-21 | 1999-03-16 | Motorola, Inc. | Method of etching a trench into a semiconductor substrate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0420993B2 (OSRAM) | 1992-04-07 |
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