JPS6069834A - 磁気記録媒体の製造方法およびその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （ａ）　産業上の利用分野 本発明は蒸着ζこよる磁気記録媒体の製造方法およびそ
の装置に関するものであり、特に、磁気テープ、７０ツ
ビーデイスク等のように支持体上に適正な膜厚および適
正な磁気特性、′電磁変換特注および物理的特性を有す
る層を連続して形成させたものを磁性層として有する磁
気記録媒体の製造方法およびその装義に関する。

［ｂｌ　従来技術 磁ｉ生層形成法から、磁気記録媒体の製ｉ４方法を大別
すると、塗布法によるものと、蒸着法％　４こよるもの
に分類できる。

塗布法によるもの（以下、この方法により製造された磁
気記録媒体を、「塗布型磁気記録媒体」という。）はγ
−Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅなどの磁性粉を過当なバインダーと
混合、分散して得らイする磁性塗料を、支持体上面に塗
布し、磁場配向、乾燥、スーパーカレンダーなどの加工
を行って磁気記録媒体さしての特性を得ている。

この塗布型磁気記録媒体は高保磁力化、記録密度の向上
、磁性層の薄膜化等を指向しＣいろ。しかし、磁性粉を
バインダーと混合してイリらイＬる（磁性塗料を支持体
上面ｌこ塗布する方法では、本（＾的に磁性粉の実質光
てん率ζこ限界があり、１％　”ｉｒｉ遣比、薄膜化を
目指すには困難な要因を有している。

このような理由から、高Ｗ！を化、薄膜化する１こめζ
こ、通常は、電気メッキ、真空中でのスパッター、イオ
ンブレーティング、真空蒸着法等の方法で、支持体上面
に磁性材料の連続した薄膜を形成する方法が採用されて
いる（以下この方法で作製さｒした磁気記録媒体を［薄
膜型磁気記録媒体」というｏ）ｏこイ′Ｌらの方法によ
り、磁性材料を一支持体上面にＶｉ、接、連続した薄膜
として磁性層を形成した磁気記録媒体は、前記塗布型磁
気記録媒体にない特徴のある磁気記録媒体として作製で
きる。

しかし、これらの方法により作製する薄膜型磁気記録媒
体は、一枚の磁気シートとして作製する場合は、製造東
件が比較的簡単なだけでなく、磁気特性、電磁変俟特性
、物理的特注の優れたものを得ることができるが、磁気
テープのように支持体上面に、連続的に磁性層を形成さ
せ、均質で、しかも優れた特性を有するものを製造する
方法は未だ知られていなかった。

一方、磁気記録媒体の性能は、 ■　残留磁束託肛、角型比、保磁力等の磁気特注、 ＠　出力レベル、出力変動、スチル耐火性などの電磁変
（真特性、 θ　耐蝕性、耐摩耗性などの物理、化学的特性が優イｔ
ていることが必要である。

こイ１．らの磁気特性、゛Ｆσ磁変換特住および物ＪＪ
ｊ、化学的特性は、支持体上面に入射する飛井ｊ磁性材
料の入射角度、酸化度、磁性層形成速度、Ｊｉｇ厚等に
左右さイ′しる。

たとえば、ｑヶ開昭５７−１３８０５６号公報明細テ４
１こ記載さイ′シているように、磁性材付の飛翔を間へ
酸素ガスを供給すると、Ｉｆが性のよい磁気記９イ！媒
体が得られる。蒸着磁性材料の酸化度が）８正なものは
磁気特性のみならず、′ＩＩｉ磁変換府１生、′：Ｘ７
１埋、比学的’ｔ’７性も優？’１．、酪（化度が適正
値を越えたり、又は１１夕化度が）１（正値に達しない
場合は、ｃＪＬらの′１１性が惑いことが知らイしてい
る。

また、磁性層の膜厚が薄い場合も、適正な磁気特性、′
ｌＬ磁変換ｌ薩注、吻埋、化学的特性をうることができ
ない。

したがって、長尺の支持体」二面（・こ、磁性材料を均
一な膜厚および適正な酸化度を離性して、アこ続して蒸
着しなければならない。

長尺の支持体上面に、上記のごとき磁性層を、連秩して
形成させるには、支持体上面に被着する磁性材料の膜厚
と、破着磁性材料と醒素ガスの反応量とを同時に、適正
な値をもつようにａｌＷ陥しなければならない。

支持体上面に破着する磁性材料の膜厚は、通常磁性材料
の例えば蒸発速度そ変んることによって行っている。

しかし、本蛇明の磁気記録媒体の製造方法のようｌこ、
長尺の支持体上面ζこ、磁性材料を連続した薄膜状に波
射させる場合は、例えば大容量の「るつぼ」を使用し、
「るっば」中に被着用磁性材料を入わ、こイｔを電子ビ
ーム加熱又は抵抗加熱により「るつぼ」そ加熱し、「る
っぽ」内の被着用磁性材料を蒸発させている。しかし、
’ＫＬ子ビーム加熱や抵抗加熱の変化にレスポンスする
被着用磁性材料の蒸発速度の変化の対応は遅く、支持体
上面ζこ均一な磁性層を形成することが困控であった。

このような事１ｎに鑑み、本発明看はイ丑気テーブ等の
ように長尺の支持体上面に、均一な膜ノｌを有し、かつ
適正な磁気特性、電磁変換特性および物理、化学的特性
ｒｉ：有する磁性層を形成する方法について棟々検削を
重４Ｑた結果、磁性層のか厚については、ａ　ｍ用磁性
材料の飛ルη速度をＮ＋４節する方法を採用せず、磁性
材料の飛翔空間中を１．だ送する支持体の走行速度を調
節する方法を採用した方がよいことを知った。

才た、上述の方法で支持体の走行速度を俊んると、（裁
注材料の飛翔空間へ供給する反応性ガスの供給ＱｆＫえ
る必要がある。この方法として、支持体の走行速度と反
応性ガスの供給ｆ代、！：：　％　、＋”ｉ！：動して
変える方法が考えられる。し７：Ｊ＼し、この方法（町
、反応性ガスの供給献と、支持体の走行速度と（Ｊ、Ｊ
亀常、複雑な非線形の門係を打しており、滴切な１υＩ
Ｊ御は困難である。

〔Ｃ〕　発明の目的 本発明は、支持体上面に磁性材料を飛を羽させて磁性層
を形成する磁気記録媒体の製造方法において、磁性材料
の被着膜厚および敲着磁囲材料と屯′素ガス、さらに一
般的に反応性ガスとの反応量とをコントロールすること
により、支持体上に均一な膜厚そ有し、かつ適正な値を
有する磁性／ｄを連続して形成させるための磁気記録媒
体の製造方法を提供することｆｍｈの目的と１−る〇ま
た、不発明は、上記磁気記録媒体の製造方法に適する製
造校訂を提供することを第２の目的とする。

Ｌｄ）　発明の１与成 本発明の前記第１の目的は、支持体上に磁性材料を九７
．１させて磁性層を形成する磁気記録媒体の製造方法に
おいて、支持体上に被溜する磁性材料の膜厚と、支持体
上に被着した磁性材料と反応性ガスとの反応量を検出し
、得らイｔた検出値ζこ応じて支持体の走行速度３よび
／又は反応性ガスの供給−ｈｔをコントロールし、支持
体上をこ連続した磁性層を形成することによって達成さ
イする。

支持体上に被Ｎする磁性材料の膜厚は、水晶振動子の共
振周波数、電気抵抗値、β服吸収、螢光Ｘ緑の強度等か
らめることができ、たとえば支持体上に被着した磁性材
料の薄膜Ｊ―とから検出した上記測定値と、同一／、Ｇ
性材料を基準の＋ｉり厚に被層した標準式４・Ｆから検
出し１こ測定値との差分からめらイＬる。

支持体上に被＞Ｆ２　シた磁性材料と反応性ガスとの反
応ｌ・】、は、１ことえば一足の光強度の照射光そ上記
被着磁性材料の薄膜層を透過させたときの検出値若しく
はこの検出値と、被着磁性材料と反応性ガスとの清準反
応−計の薄Ｍ　ｌ’ｅ−Ｊそ透過した検出１ｊ（（さの
差分からめらｆしる。

支持体の走行速度および／又（ま反応性ガスの供給力Ｙ
のコントロールは、上記支持体上にＦ、ｌ：’２着した
（；磁性材料の薄膜）ｆｉの膜厚測定から検出し１こ１
的又は当該検出値と前記軸準試料の薄膜層の’ＲＭ　／
’１６ｉＱ　’ｉｔ：から検出される値との差分に比１
列しｆこ出力および／又は上記支持体上に被ン）イした
両性利料々反応１４鼾カスの反応量について測定した値
若しく（ズ当り笛１’、ｌＩだ値と基準反応量の試料に
ついて０（す定し７こ値との差分に比例した出力を、そ
イＬぞイを支持体の走行７：４１度および／又は反応性
ガス供給手段にフィードバックして、これら支持体の走
行速度ぢよび／又は反応性ガスの供給針をコントロール
する０また、使用する反応性ガスは、好ましくは叡フガ
スであるが、他にたとえば窒素（Ｎ２）ガス、ヘリウム
ガス（ｆ（ｅ）、　キセノンガス（Ｘｅ）、　ラドンガ
ス（Ｒｎ）、アルゴン（Ａｒ）、ネオン（Ｎｅ　）　な
どの不活性ガス、−酸化炭素（ＣＯ）、炭酸ガス（ＣＯ
２）、水素（Ｎ２）、水蒸気（Ｎ２ｏ）を工桟随で、若
しくは２種類以上を湿量して使用できる０ 本発明にかかる磁気記録媒体の製造方法に１吏用できる
磁性材料は、従来から使用さイ１．ている公知のもので
もよく、かかる４Ｒ，６材料としては、ｒ−Ｆｅ２０３
、ＣＯδ有γ−Ｆｅ２０３、ＣＯ彼着γ−Ｆｅ２０３、
Ｆｅ３Ｏ４、ｃｏ　会有Ｆａ３０４、ＣｒＯ２等いわゆ
る酸化物系磁性材料：　Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ　＠　＜Ｑ、
Ｆｅ−Ｍｎ−Ｚｎ合金、Ｆｅ　−Ｎｉ−Ｚｎ合金、Ｆｅ
−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ合金、Ｆ’ｅ−ＧＯ−Ｎｌ−Ｐ合金
、Ｃｏ−Ｎｉ合金等Ｆｅ、Ｎｉ、　ｃｏ　％主成分とす
る会金糸磁性材料等各独の＠性材料が李げらイ１．６　
。

支持体上ｌこ磁性材料を飛翔させて磁性層を形成する方
法としては、公知の兵空蒸后、スバツタリング、イオン
ブレーティング法昨が苗げらイＬる。

すなわち、本発明でいうｒ　ｔｈｅ　ｙａＩＪとは（’
ｒ　Ｊｌ市の然渚（反応蒸着を含む）やスパック−１Ｃ
ＶＤ　（ＣｈｃｍｌｃａｌＶａｐｏｒ　Ｉ）ｅｐｏｓ＋
ｔｉｏｎ　）、イオンブレーティングへ〒の方法により
、材料が飛翔を間を経て支持体上に被、ｒｆすることを
いうものである。

支持体の素材としては、ポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレン−２，６−ナフタレート等のポリエステル
類、ポリプロピレン寺のボリオレフインカ代　セルロー
ストリアセテート、セルロースダイアセデート等のセル
ロース蒋導体、ポリカーボ洋−トなどのプラスチック、
Ｃｕ−ｋｌ、Ｚｎ　などの全屈等が使用でき、ざらにガ
ラス、いわ１Φるニューセラミック（たとえば１グ化は
う素、炭化５ｊ’ｌ、）素等）などが使用さイＬる。ガ
ラス等の非再１帛ｔｔ支持体は、ＯＪｊ売性支持体上ｌ
ここイＬし）を仮数１１４保持し連続的に磁性Ｊ脅を形
カ父さぜることがてきるＱ六−＋−ａ１的な４１代気記
録媒体としでの支持体の形態ｆばデーゾ、ソート、カー
ド、ディスク、ドラム等いずイしでもよく、形態に応じ
て純々の材料が必狭に応じて還択される。

こイｔらの支持体の厚みは、フィルム、シート状の、１
２３合は約３〜工００μｎｌ程度、好ましくは５〜５０
μｍであり、ディスク、カード状の場合は３０μｍ〜１
０ｓ＋ｎ　程度である。

また、本発明にかかる磁気記録媒体の製造方法６才、磁
気記録媒体のｆａｔり法の改心、４ｊ？Ｓ防止、転写防
止、保存性向上、耐摩耗性向上の目的で、支持体上に、
前述した磁性層形成後および／又は形成前ｌこたとえば
公知の塗布方法、蒸着方法等に依り、オーバーコート層
やバンクコート層を設けてもよい。こでしらの塗布方法
、蒸着方法は、たとえば特開昭５４−工２３９２２号、
同５４−１２３９２３号、同５６−７１２８４号、同５
６−７１２８６号、同５６−７１２８７号、同５６−１
１６２６号、同５７〜１３５４４２号の公開特許公報明
細書に」１」戟されている。

これらオーバーコート層、バンクコート層の材料として
各棟のポリマー（たとえばウレタン樹脂−エポキシ樹脂
、塩化ビ、ニルー酢酸ビニル共京合体等）やシリコンイ
ｉｔ　ｌ１ｉｔ　ＱＩの各有様オリゴマーやポーリマー
：カーボンブラック、アルミナ需の使：１２ヲ材料：フ
ェノール誘専体等の酸化防止ｒｉ：Ｊヤアミン誘専体ｑ
１の−゛４（項酸素クエンチャー等の低分子有、・“セ
化合物等の各種材料が使用できる他、各種の６゛」γ１
７剤、研磨剤、帯電防止剤、分散剤等と１ｒ４ばイシ−
ｒ　Ｇ＋る各椋の成分を添加しで使用することができろ
。

また、本発明の前記ｙ０２の目的は、（り支持体を走行
させる戊４１子の少く古も一部を兵空雰囲気中船こｆｉ
′ｔき、該真空雰囲気中に支持体を走行せしめる支持体
走行系と、 ＠、」二を己具墾券用１気中に自己１４シたｑシ４′、
１用イ１任１主土Ｊ料と、該肢づ、を用ｌ・狭性利」）
を飛Ｊ）］さぜる手段と７：ｌ）ら成る磁性材料飛翔系
と、 θ、被着用磁性材料の飛ＮＪ空り、Ｉ］　Ｉこ被、有６
だ２１拐料と反応する反応性ガスを供給する反応性ガス
供給系と、 ０　被着用磁性材料の飛ｙ、１１視間から移送さｔｉ、
た磁件材料破〃７所支持体に指向せしめ定ｒｉｌ　３？
’ｆイ嘱１′主材料の膜厚検出手段と、破着両件４ツ科
と反応する反尾、１・主ガスとの反応量検出手段とから
なるＸコλ出糸とを有し、 さらｌこ、上記破’ｊｊ’？磁憔イオ斜のｌス厚および
彼唐磁性材料と反応性ガスさの反応量に依り、上記ＶＪ
厚検出手段および／又は反応量検出手段に発生する出力
を、それぞれ支持体走行速度ｆｊｉｌＪ御系および／又
は反応性ガス供に：　’ｆＩ　ｊｌｉｌＪ　イ卸系に送
り、上記各伏出手没に如生する出力に応じて、支持体だ
行系の走行速度、および／又は反応量ガス供給系のカス
供給量を制御することによって達成さイ′シる。

（ｅｌ　実施例 次に、実施例おまひ比ｐく例そ鵡げて（蒸着を例として
￥げる）、本発明の内容をさらに具体的に説明する。

来７Ｉｍ例 ｄ↓工図１こ、不４ｕｂ旧こかかる磁気記録媒体の製造
方法に使用する装置との安部断面図を示す。

この装置ｊｆの内部は、全体を符号工で示すケーシング
にイｉ＜す、外気から気留ζこシール亦イしており、ゲ
ージング１内は分離隔壁２により、支持体３を送出・庖
・取る室と、袖ン牙歴に分けら不している〇送出　巻取
り室には、後述する支持体走行系と検出系とが配設さ１
％、魚発室にはｆ皮術用ｔｉｅ　ｆＩ材相蒸発諒と、被
着磁性材料と反応する反応性ガス供給系とが配置さイｔ
ている。さらｌこ、支持体走１ｊ系ζこけ、前記検出系
に発生する出力により支持体走行系の走行速度を調節す
る支持体走行系爪ｉ［ｉｌｌ　！１系と反応性ガスの供
給量を副筒１するガス供給新制（？１１系とが設けられ
ている０ ま１こ、ケーシング１の底部には排気’ｆｆ　４が６λ
けられ、排気管４は兵借排気装９ｊ）　５１こ接続して
いるケーシングエの送出・巻取り室の支持体走行系とし
て、送出１１ｔｌｌ　６．３個のフリーローラ７、該ｉ
’：ｒ円筒８、巻取軸９含有している。

蒸着系は、ケーシングｌの蒸’ｉｔＴ室の１１巨＋１゛
１こ配設された′電子ビーム発生装置１０、セラミツク
ツ゛″４［るつぼＪｌｌ、［るつぼＪｌｌ内に入イした
破／＋’ｆ　／ｌ−１ｊ（４イ％　Ｉ外材料１２からな
っている。この他、然ｌイ糸には、必紋ヲこ応しケーシ
ングエの壁面から蒸発用ｆｉ１８と［るつぼＪｕｌとの
間に形成さイｌるＪｌｋ　ｔイ］　空間内に突出する固
定マースフ１３が設けられ、１ｉｊＪ記蒸着円１．ｉ８
の嵌面に到達するイｔｉ　＞７２用磁性材料の魚気流の
−１１３をスクリーンするはたらきをする０さらに、ｔ
ｉ’ｄ定マスクエ３上部には、ケーシング１内から、Ｄ
ＩＪ記Ｒ元空間内に向って反応針ガス供給１’６ｖ　１
４　（本実施例では反応性ガスとして１α素ガスを用い
、以下、１）緊ガスは反応性ガスと同義である。）が延
設され、ガス供給菅を通る岐：＋、ガスの量は、バリア
プルリーク弁１５でＭ節さイする０イ、送出系（ゴ、ケ
ーシングエの送出・巻取室において、支持体３の磁性層
形成０１ｌＩにＸ憇発生装訛１６、支持体の幅方向ζこ
支持体と並列して配置むさイ″した４＞ｊ準磁性層厚の
試料（図示せず。）、被清磁性ＩＮ　＃ａよび砿準磁性
層厚の試料から発生した螢光Ｘ線そそ７”ＬぞｆＬ検出
する計数ｇ１７　、１ｓ　ニ一定ブＣ強度の光をヴヘす
る光照射装置１．デ１９：支持体ζこ対し光照射装置と
反対側に配置した光検出器２０から成っている。

制例糸のうち、支持体走行１ｉｆｌＪ御系ば４３２図に
示すごとく、支持体の磁ｇ：層７））ら発生する螢光Ｘ
線を受けて検出器に発生した出力と、４゛口、ｊ（試イ
［７）１ら発生する螢光Ｘ″ｉ′ｊｊ′！を受けて検出
器にす■ミ生し１こ出力とを比を絞し、その７１１１分
を１１′１幅し、差分に応じた出力を支持体走行系に供
給する′「５：気回路からＩＪＥっている。ざらに、反
応性ガス供給−’６’７１ｔｒｉｌｆｉｌｌ系日、第３
図ζこ示すごとく、支持体３の透過光の光線１こ対する
差分を増幅し、当該差分に応じた出力を反応性ガス供給
量ｗｒａ　ｖｙｔに供給し、前記飛翔望間に尋人する反
応性ガスの供給量を調ア４１するイ１￥成となっている
。

前記装置を使用し、磁気記録媒体を製造するに（Ｊ１先
ス帯状のポリエチレンテレフタレートヲ送出１（ｔ＋　
６に装着したリール（図示せず。）ｌこ巻き取り、ケー
シングｌの送出・巻取り室内に取っ付りる。リールに巻
き取った支持体３の一端ＯＪ５　フリーローラ７を介し
て蒸着円筒８の周＋１１１１　（ｒカイトさ、＋１．、
蒸尤゛室を辿り、再び送出・春取り至に１六らイシる。

画形送出・巻取り室では２個のフリ　Ｏ−ラフを通り、
蒸着円筒Ｂ　ｇｌから送らイ１てきた支持体３そなき取
るように４゛１ｊ成さイする。

上述のようにしてケーシングｌ内に収納さイｔた支持体
３に磁性材料を蒸射するには、「るつぼ」ｌｌ中にａ着
用磁性材料１２としてｃｏｓｏ％、Ｎｉ２Ｏ俤の合金粉
を入イ”ｔた後、（゛（空排気装置５を操作し、排気管
４を通してケーシングｌ内をｌθ″３Ｔｏｒｒ程度まで
Ａ錯排気し′ｆ：、ｏその後、酸素ガス供給菅１４のバ
リアプルリーク弁１５を開き、ケーシング１内にｔ貸素
ガスを蒸］ａ円筒８の回転方向Ａと反対方間に噴出する
ように連続的に害スする。

この状態で、送出軸６から烈看円筒８を周回し巻取１４
’ａ＋　９　（ｔ：Ｉに支持体３を移送させながら、電
子ビーム発生装置な１０そゼＱ作し、被ガｆ用磁１１材
料ｊ２に電子ビームを射出し、Ｃ（ｌ原子およびＮｉ原
子を蒸発させ、支持体上面ｔこＣ０−Ｎｉ合金の被膜を
形成する０ 反応１１ガスは、バリアプルリーク弁１５の調節により
、Ｃｏ原子、Ｎｉ原子の飛翔空間に連続して４人する。

かくして、Ｃ０−Ｎｉ合金被膜が形成さ几に支持体３は
、巻取４ｉＩ＋　９の回転にしたがって、蒸、：′ｊ円
百８から、フリーロー２７を辿り、再び送出・′αＪｉ
ｉ（り室ζこ移送さイＬる。

送出パ巻取り室には、フリ２０−ラ７と巻取軸９との間
に、支持体３のＣ０−Ｎｉ合金膜形成ｊＪｉｌｌに、そ
イ１．ぞれＸ７線発生装誼１６、光照射装置■９：支持
体の幅方向に支持体と並列に、標準の膜厚を４丁するＣ
ｏ−Ｎｉ合金膜（図示せず）：支持体３上の、Ｃ＜）−
Ｎｉ合金膜および基準のＣＵ−Ｎｉ合金＋＋＝、から発
する螢光Ｘ線を検出する計数管１７，１８：支持体３Ｉ
こ対し光照射装置１９と反対１ｊｌＩに配ｌｉ′１．ｌ
、　７こブ（、４（ｌ用益２０が配置さイ′シており、
支持体３が送出・巻取室に送出さイ％たときは、Ｘ線発
生１ｋｉｉ’（１６を支持体３の幅方向に走査し、支持
体３上の（：Ｃ１−Ｎｉ合金膜および些準膜厚のＣｏ−
Ｎｉ舎金族板か１）発生ずる螢光Ｘ　、Ｙ＋にを、そイ
１．ぞ、１１計数１＃１１７　、１　ａてもへ出し、こ
Ｖ’Ｌらの計数型１７，１８１こ発生す６［ｉも気的出
力を比較器２２（第２図イこ示す。）に供給し、両者の
出力の差分は増幅器２３ζこよって増幅し、増幅された
電気的出力を支持体走行速度制御系（巻取軸回転速度制
御器）２４に送り、支持体３上のＣｏ−Ｎｉ合金１換が
基ｆｎの膜厚が得られるように、巻取軸９の回転速度を
調節する。また、光照射装置 置１９から発し支持体３のＣ０−Ｎｉ合金膜を透過した
元を検出器２０で検出し、検Ｗ器２０に発生する電気出
力と、光照射装置１９の光強度設定器２５の出力とを比
較器２６に送り、得らｎた差分を増＠器２７で増幅し、
得らｎた差分の電気出力を酸素ガス供給量制御系２８に
送り、飛翔空間に供給する酸素ガス供給量そ調整する０ 前記支持体走行系の連夏制御および酸素ガス供給金の制
イ卸は、いずれか一方でもよいし又は両者をｆｔｉ！１
１卸してもよい。

巻取軸９ｔこＣ０−Ｎｉ合金痕形成済の支持体を巻き取
った後、電子ビーム発生装置１０の操作、酸素ガス供ｍ
　ｆ停止しり後、ケーシング−内のガス圧を常圧にもど
し、巻取軸のリールを取外し、支持体を取り出す。

かくしてイむらイ１．た試料テープを１２．６５＋ｒ＋
＋＋幅に裁断してビデオテープを作製した。このテープ
ソ笑施例テープとする。

比１咬例 モニター（検出系）を使用しない他は、実施例と同じ装
置、同じ材料の支持体、０Ｏ−Ｎｉ合金粉を被着用磁性
材料に使用し、装置（ケーシングン内への酸素ガスの供
給量および支持体走行方法によって、磁性層を形成し、
得らｉｔた試料を１２６５ｍ幅に裁断してビデオテープ
を作製した。このビデオテープを比較例テープとする。

以上の実施例および比較例において得らイした実施例テ
ープおよび比較例テープの１能を、ＩＮ　Ｊｊ７−変動
、保磁力に動、出力変動およびスチル耐久性をＪＮＮｉ
こして副食した。その結果を、下記のイｉｔこ示す。

表 ただし、膜厚変動、保磁力変動、出力変動およびスチル
耐久性は、下記の方法で測定した。

工）膜厚変動： 触針式のタリステップを使用して測定した。

２）保磁力変ｆＪＪＪ＝ 振動試料型磁気記録計で測定した。（単位　エルステッ
ド） ３）出力変動： ビデオデツキを用いて、ＲＦ小出力変動を測定した。

４）スチル耐久性： ビデオデツキを用い、カラーパーを記録し、こイｔそ再
生し゛Ｃスチル（静止画像再生）状態にし、出力が３ｄ
Ｂ低下するまでの時間を分を単位にして表示した。

以上のことから明らカニなように、支持体上に蒸着され
γこＣ０−Ｎｉ合金膜の膜ノリおよび被着Ｃ０−Ｎｉ合
合金金膜酸素ガスの反応量を標準試料や設定値と比較し
、適正値からのすｎを補正するように、支持体の走行速
度およびｃＲ素ガス（反応性ガス）供給量を調節する本
発明の磁気記録媒体の製造方法にしたがって作製さｎた
テープは、支持体の走行遂夏、酸素ガス供給量のｉｊ！
１　ｍを行わないで作製しｆこテープｌこ比べて、ｊ良
厚変動、保持力装動、出力武鉤およびスチル耐久性のい
ずイｔの点でも悟イｔていることが確かめらイｔた〇 ［ｆ〕　発明の効果 以上の記載から明らかなように、本発明ζこかかる磁気
記録媒体の製造方法および製造装置を１吏用１−るとき
は、支持体上にｖＬ２青する磁性材木ＦのＩｐ４厚およ
び被着磁性材料と反応１牛カスの反応１．（を）訂視し
、この値が基準のｊＡ正値からずイ゛シていく）さきは
、自動的に支持体の走行速度および／又は反Ｌｒｔ、１
ガスの供給量７ｉ−調節し、適正１（■７つ）らのり′
不しそなくするようにコントロールする結果、いかなる
形状の支持体、例えば長尺状の支持体であっても、膜厚
および磁気！特性、１Ｌ磁変換特注、物理、化学的特性
が均一な磁性層を形成させることができく）０

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明にかかる磁気記録媒体の製造装置の妥部
断面図、第２図は第１図に示す４Ｒ気ａ己録媒体の製造
装【１こ使用する支持体走行速度市１」１卸系の電気回
路のブロック図、第３図は第１図に示す磁気記録媒体の
製造装置に使用する反応性ガス形（給ｎ　ｆｉｉ制御系
の′電気回路のブロック図を示すＯｌ・・・ケーシング
、３・・支持体、５・・・真空排気装置、６・・・送出
１１１１＋、８・・・蒸着円筒、９・・・巻取騙１、工
０・・・′祇子ビーム元生装置、エエ・・・るつ（よ、
１４・・酸系ガス供給管、１６・・・Ｘ腺発生装置、１
７　、　Ｌ８・・・螢光Ｘ線計数管、１９・・・光照射
装置、２０・・・うし検出器 特許出願人　小西六写真工業株式会社 第１図 第２図　□ 第３図 手続補正書（自発） １、事件の表示　ｌＪ　−７７７、；ｈ）昭和５８年９
月２４日付提出の特許類 ２、発明の名称 磁気記録媒体の製造方法およびその装置３、補正をする
者 事件との関係　特許出願人 住　所　東京都新宿区西新宿１丁目２６番２号氏　名（
名称）　（１２７）小西六写真工業株式会社６、補正に
より増加する発明の数　なゝ７、補正の対象 ［１］明Ｉｖｌｌｌ　書の発明の詳細な説明の欄を以下
の如く補正する。 （１）明細書箱２頁１５行目の１・・蒸着による・・・
」の記載を「・・・飛翔による・・・」とする。 （２）明細書筒５頁１３行目の［・・・優れ、・・・」
の記載を「・・・優れるが、一方、・・・」どする。 （３）明細書筒１０頁１４行目のｒｃｏ含有Ｆｅ３０４
Ｊと「ＣｒＯ，Ｊとの間に「Ｃｏ機Ｆ　ｅｓ　０４　、
　Ｊを加入し、同頁１５行目の「系磁性材料：」と１−
Ｆｅ−Ｎ　ｉ　−Ｃｏ合金」との開にｒ　Ｆｅ、Ｎｉ、
　Ｃｏ等の金属系の磁性材料：」を加入する。 （４）明細紺第１４頁１１行目の［・・・（蒸着を′」
の記載を「・・・（蒸着法を・・・」とする。 「２」明細書の図面の簡単な説明の欄を以下の如く補正
する。 （１）明細性第２３貞１９行目と２０行目の間に下記の
文を挿入する。 記 第１〜第３図は本発明の磁気記録媒体の月・ｖ遣方法に
かかる概略説明図であり。 以上

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）　支持体上に磁性材料を飛）（（させて磁性層を
   形成する磁気記録媒体の製造方法において、支持体上に
   被着する磁性材料の膜厚と、支持体上に被着した磁性材
   料と反応性ガスとの反応量７ｉ−検出し、得られた検出
   値に応じて支持体１の走行速度および／又は反応性ガス
   の供給量をコントロールし、支持体上に連続した磁性Ｍ
   を形成することそｌｒ９°徴とする磁気記録媒体の製造
   方法。
2. （２）支持体を走行さぜるＣ＜＆　ａの少くとも−ｔｌ
   ｊ　’；ｚ真空雰囲気中に置き、該真空雰囲気中に支持
   体を走行せしめる支持体走行系と、上記真空（Ｙ囲気中
   に配置し１こ被着用磁性材料と、被着用磁性材料を飛翔
   させる手段とからなる（重性材料飛翔系と、被着用磁性
   材料の飛翔空間に、被着磁性材料と反応する反応性ガス
   を供給する反応性ガス供給系と、被着用磁性材料の飛翔
   空間から移送さ１’Ｌ１こ硯ＶＬ材料被着支持体ｌこ指
   向せしめた被着磁性材料の膜厚検出手段お、破着磁性材
   料と反応する反応性ガスの反応量検出手段とからなる検
   出系とを有し、さらに、上記被着磁性材料の膜厚および
   被着磁性材料と反応性ガスとの反応量に依り、上記膜厚
   検出手段ｌこおよび／又は反応量検出手段に発生する出
   力を、それぞれ支持体走行速度制御系および／又は反応
   性ガス供給Ｍｒ　ｆＲＩＪ御系に送り、上記各検出手段
   ｌこ発生する出力に応じて支持体走行系の走行速度およ
   び／又は反応性ガス供給系のガス供給１λを制御するこ
   とを特徴とする磁気記録媚体製造装隨