JPS6069076A - ベンゾチアゼピン誘導体およびその製造法 - Google Patents
ベンゾチアゼピン誘導体およびその製造法Info
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- JPS6069076A JPS6069076A JP58177001A JP17700183A JPS6069076A JP S6069076 A JPS6069076 A JP S6069076A JP 58177001 A JP58177001 A JP 58177001A JP 17700183 A JP17700183 A JP 17700183A JP S6069076 A JPS6069076 A JP S6069076A
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- Medicines That Contain Protein Lipid Enzymes And Other Medicines (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Peptides Or Proteins (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式(1)
%式%
(式中、R1及びR2は水素又は低級アルキル基を几、
は水素、低級アルキル基又は炭素数が5から10までの
アルキル基もしくはアリール低級アルキル基をそれぞれ
示す)で表わされるベンゾチアゼピン誘導体およびその
製造法に関し、さらにその製造に有用な中間体について
の知見を提供するものである。なお、一般式(1)の化
合物は新規化合物であり、アンジオテンシン変換酵素阻
害作用、降圧作用、冠血管拡張作用を有し、高血圧症治
療薬として又、他の循S=疾患治療剤として有用である
。
は水素、低級アルキル基又は炭素数が5から10までの
アルキル基もしくはアリール低級アルキル基をそれぞれ
示す)で表わされるベンゾチアゼピン誘導体およびその
製造法に関し、さらにその製造に有用な中間体について
の知見を提供するものである。なお、一般式(1)の化
合物は新規化合物であり、アンジオテンシン変換酵素阻
害作用、降圧作用、冠血管拡張作用を有し、高血圧症治
療薬として又、他の循S=疾患治療剤として有用である
。
本発明の一般式(1)の化合物をさらに詳しく説明する
。ここに言う低級アルキル基とはメチル基、エチル基、
プロピル基、インプロピル基、ブチル基、−640−ブ
チル基、l −7;’チル基を言い、炭素数が5から1
0までのアルキル基とはペンチル、ヘキシル、オクチル
、ノニル、デシルを、アリール低級アルキルとはベンジ
ル、フェニルエチル、フェニルプロピルなどである。
。ここに言う低級アルキル基とはメチル基、エチル基、
プロピル基、インプロピル基、ブチル基、−640−ブ
チル基、l −7;’チル基を言い、炭素数が5から1
0までのアルキル基とはペンチル、ヘキシル、オクチル
、ノニル、デシルを、アリール低級アルキルとはベンジ
ル、フェニルエチル、フェニルプロピルなどである。
この化合物は以下の方法で製造することができる。
A段階
01(2000R2
(6)
(1)
すなわち、まずA段階として3−アミノ−2−フェニル
−2,3−ジヒドロ−1,5−ベンゾチアゼピン−4(
5H)−オンに一般式(2) %式%(2) (式中、Xは塩素、臭素、ヨウ素を、恥は水素又は低級
アルキル基を示す)で表わされる化合物を適当な脱塩剤
、例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウ
ム、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエトキサイド
、カリウム−1−ブトキサイドなどの存在下、ベンゼン
、トルエン、キシレン、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシドなどの溶媒中で一5℃から反応混合物の
沸点までの温度範囲で、05時間から5時間程度0H2
000凡。
−2,3−ジヒドロ−1,5−ベンゾチアゼピン−4(
5H)−オンに一般式(2) %式%(2) (式中、Xは塩素、臭素、ヨウ素を、恥は水素又は低級
アルキル基を示す)で表わされる化合物を適当な脱塩剤
、例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウ
ム、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエトキサイド
、カリウム−1−ブトキサイドなどの存在下、ベンゼン
、トルエン、キシレン、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシドなどの溶媒中で一5℃から反応混合物の
沸点までの温度範囲で、05時間から5時間程度0H2
000凡。
(式中、恥は水素又は低級アルキル基を示す)で表わさ
れる化合物を得ることができる。一般式(3)の化合物
群のうち、R2が低級アルキル基のLjj、合は適当な
方法は、たとえばアルカリけん化などの方法により加水
分解して相当するカルボン酸に導くことかできる。また
、几2がl−ブチルは塩化水素−ジオキサン、臭化水素
−i’ii酸などの通常のペプチド合成に用いられる脱
保護剤によっても相当するカルボン酸に導くことができ
る。
れる化合物を得ることができる。一般式(3)の化合物
群のうち、R2が低級アルキル基のLjj、合は適当な
方法は、たとえばアルカリけん化などの方法により加水
分解して相当するカルボン酸に導くことかできる。また
、几2がl−ブチルは塩化水素−ジオキサン、臭化水素
−i’ii酸などの通常のペプチド合成に用いられる脱
保護剤によっても相当するカルボン酸に導くことができ
る。
次に一般式(3)で表わした化合物と
一般式(4)
%式%(4)
(式中、恥は水素又は低級アルキル基を、恥は水素、低
級アルキル基、炭素数が5から10までのアルキル基も
しくはアリール低級アルキル基を示す)で表わされる化
合物を適当な還元剤の存在下で反応させるB段階の反応
により 一般式(1) %式% (式中、R1,R2及び几3はいづれも上記に同じ)で
表わされる化合物を得ることができる。
級アルキル基、炭素数が5から10までのアルキル基も
しくはアリール低級アルキル基を示す)で表わされる化
合物を適当な還元剤の存在下で反応させるB段階の反応
により 一般式(1) %式% (式中、R1,R2及び几3はいづれも上記に同じ)で
表わされる化合物を得ることができる。
このB段階の反応についてさらに詳しく述べると一般式
(3)の化合物と一般式(4)の化合物を脂肪族または
環状のエーテル類(たとえばジエチルエーテル、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン)またはアルコール類(たと
えばメタノール、エタノール、インプロピルアルコール
、ジエチレングリコール)または水およびこれらの混合
溶媒中、水冷下から80℃の温度で混合し、還元剤によ
り還元して一般式(1)の化合物が得られる。還元剤と
してはジボラン、水素化ホウ累ナトリウム、シアン化水
素化ホウ素ナトリウムなどの錯体金属水素化物が適して
いる。水素添加、触媒として通常用いられるパラジウム
−炭素、白金−炭素、ラネーニッケル、ラネー銅などの
存在下水素化することによっても目的を達することがで
きる。水素添加における水素圧は大気圧から500気圧
、温度は室温から150℃の範囲である。溶媒としては
水、メタノール、エタノールなどのアルコール類、酢酸
、酢酸エチルなど通常の水素添加反応に用いられる溶媒
が使用できる。
(3)の化合物と一般式(4)の化合物を脂肪族または
環状のエーテル類(たとえばジエチルエーテル、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン)またはアルコール類(たと
えばメタノール、エタノール、インプロピルアルコール
、ジエチレングリコール)または水およびこれらの混合
溶媒中、水冷下から80℃の温度で混合し、還元剤によ
り還元して一般式(1)の化合物が得られる。還元剤と
してはジボラン、水素化ホウ累ナトリウム、シアン化水
素化ホウ素ナトリウムなどの錯体金属水素化物が適して
いる。水素添加、触媒として通常用いられるパラジウム
−炭素、白金−炭素、ラネーニッケル、ラネー銅などの
存在下水素化することによっても目的を達することがで
きる。水素添加における水素圧は大気圧から500気圧
、温度は室温から150℃の範囲である。溶媒としては
水、メタノール、エタノールなどのアルコール類、酢酸
、酢酸エチルなど通常の水素添加反応に用いられる溶媒
が使用できる。
一般式(1)の化合物において、石又はR2がアルキル
基である場合、通常の加水分11捏、たとえばアルカリ
と処理することによりそれぞれ相当するカルボン酸に誘
導することができる。またl−ブチル基である場合は単
に塩化水素−ジオキサン、臭化水素−酢酸などの通常ズ
ープチルエステル基切断条件によりこの基を脱離させて
相当するカルボン酸に導くことができる。
基である場合、通常の加水分11捏、たとえばアルカリ
と処理することによりそれぞれ相当するカルボン酸に誘
導することができる。またl−ブチル基である場合は単
に塩化水素−ジオキサン、臭化水素−酢酸などの通常ズ
ープチルエステル基切断条件によりこの基を脱離させて
相当するカルボン酸に導くことができる。
本発明の一般式(1)の化合物は分子内に3個の不斉炭
素を有し立体異性体が存在するが、本発明はそのいづれ
の化合物も含むものである。
素を有し立体異性体が存在するが、本発明はそのいづれ
の化合物も含むものである。
かくして得られた一般式(1)の化合物は、分子内に1
〜2ケのカルボキシル基を持つことができ、この場合に
は種々の無機塩基または有機塩基との塩にすることがで
きる。たとえばナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム
塩、マグネシウム塩等の金属塩があげられ、リジン塩、
ジシクロヘキシルアミン塩等の有機塩基との塩がある。
〜2ケのカルボキシル基を持つことができ、この場合に
は種々の無機塩基または有機塩基との塩にすることがで
きる。たとえばナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム
塩、マグネシウム塩等の金属塩があげられ、リジン塩、
ジシクロヘキシルアミン塩等の有機塩基との塩がある。
また一般式(1)の化合物には種々の酸と塩を形成しう
るアミノ基も含まれている。たとえば、塩酸、臭化水素
酸、酒石酸、マレイン酸等の無機酸および肩機酸との塩
を形成させることができる。
るアミノ基も含まれている。たとえば、塩酸、臭化水素
酸、酒石酸、マレイン酸等の無機酸および肩機酸との塩
を形成させることができる。
かくして形成させた塩を含めて本発明(1)の化合物は
、強いアンジオテンシン変換酵素阻害作用を有し自然発
症高血圧ラットなどの高血圧病態モデルにおいて著明な
降圧作用を示し、高血圧症治療薬として有用である。
、強いアンジオテンシン変換酵素阻害作用を有し自然発
症高血圧ラットなどの高血圧病態モデルにおいて著明な
降圧作用を示し、高血圧症治療薬として有用である。
以下に実施例を示して本発明をさらに具体的に説明する
。
。
実施例−1
3−アミノ−5−、t−ブトキシカルボニルメチル−2
−フェニルー2,5−ジヒドロ−1,5−ベンゾチアゼ
ピン−4(5H)−オンの製造。
−フェニルー2,5−ジヒドロ−1,5−ベンゾチアゼ
ピン−4(5H)−オンの製造。
6−アミノ−2−フェニル−2,3−ジヒドロ−1,5
−ベンゾチアゼピン−4(5H)−オン、臭化水素酸塩
4.8gをN、N−ジメチルホルムアミド80m1に溶
解し、水素化ナトリウム(60%油性) 1.21を加
え、50℃で1時間攪拌後、ブロム酢酸差−ブチルエス
テル2.7Iを含むN、N−ジメチルホルムアミド10
m1の溶液を加え、更に50℃で1時間攪拌した。減圧
下に溶媒を留去し、ヘキサンを加えて結晶化させ、生成
物を戸数しこれをエーテル、水、エーテルの順で洗浄し
て目的とした頭書の化合物を4..0.9’得た。この
ものはm、P、178〜180℃を示した。
−ベンゾチアゼピン−4(5H)−オン、臭化水素酸塩
4.8gをN、N−ジメチルホルムアミド80m1に溶
解し、水素化ナトリウム(60%油性) 1.21を加
え、50℃で1時間攪拌後、ブロム酢酸差−ブチルエス
テル2.7Iを含むN、N−ジメチルホルムアミド10
m1の溶液を加え、更に50℃で1時間攪拌した。減圧
下に溶媒を留去し、ヘキサンを加えて結晶化させ、生成
物を戸数しこれをエーテル、水、エーテルの順で洗浄し
て目的とした頭書の化合物を4..0.9’得た。この
ものはm、P、178〜180℃を示した。
実施例−2
5−、t−ブトキシカルボニルメチル−3−(1−エト
キシカルボニル−3−フェニルプロピルアミノ)−2−
フェニル−2,3−ジヒドロ−1,5−ベンゾチアゼピ
ン−4(5H)−オンの製造。
キシカルボニル−3−フェニルプロピルアミノ)−2−
フェニル−2,3−ジヒドロ−1,5−ベンゾチアゼピ
ン−4(5H)−オンの製造。
実施例−1で得た化合物1.2gにベンジルピルビン酸
エチルエステル2.0.9とエタノール20m1と酢酸
1 mlを加え、40℃に加温して溶解させ6時間攪拌
した。この後この反応物にシアン化水素化ホウ素ナトリ
ウム400thgを含むエタノール10m1の溶液をゆ
っくりと滴下して一夜放置した。
エチルエステル2.0.9とエタノール20m1と酢酸
1 mlを加え、40℃に加温して溶解させ6時間攪拌
した。この後この反応物にシアン化水素化ホウ素ナトリ
ウム400thgを含むエタノール10m1の溶液をゆ
っくりと滴下して一夜放置した。
減圧下にm媒を留去した後、残留物を酢酸エチルにとか
し水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して後、減圧下濃
縮した。濃縮物はベンゼン:酢酸エチル=9:1の混合
溶媒を用いてシリカゲルカラムクロマト法で分別精製し
て目的とした頭書の化合物を166g得た。
し水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して後、減圧下濃
縮した。濃縮物はベンゼン:酢酸エチル=9:1の混合
溶媒を用いてシリカゲルカラムクロマト法で分別精製し
て目的とした頭書の化合物を166g得た。
薄層クロマトグラフ法には、mLロ藷社A+f5715
プレートを使用、なお、以下の実験においても全てこの
プレートを用いた。
プレートを使用、なお、以下の実験においても全てこの
プレートを用いた。
頭書の化合物は下記の条件におけるクロマトグラフにお
いてRf値o7(ベンゼン:酢酸エチル=7:1)を示
した。
いてRf値o7(ベンゼン:酢酸エチル=7:1)を示
した。
5−カルボキシメチル−3−(1−エトキシカルボニル
−3−フェニルプロピルアミノ)−2−フェニル−2,
3−ジヒドロ−1,5−ベンゾチアゼピン−4(5H)
−オン塩酸塩の製造。
−3−フェニルプロピルアミノ)−2−フェニル−2,
3−ジヒドロ−1,5−ベンゾチアゼピン−4(5H)
−オン塩酸塩の製造。
実施例−2で得た化合物166gを6N−塩化水素−ジ
オキサン1omlにとかし1時間攪拌した。
オキサン1omlにとかし1時間攪拌した。
エーテルを加えて結晶を析出させ、これを沢取してエー
テルで洗浄し、目的とする頭書の化合物を11g得た。
テルで洗浄し、目的とする頭書の化合物を11g得た。
この化合物の赤外線吸収特注を示すと、
IRCm 171,1670,1470,1450゜1
210.1020.700 であり、 核磁気共鳴特性は NM几(DMSO−D6)PPM O,9−1,2(3
1−1)、1、3−2.1 (4H)であった。
210.1020.700 であり、 核磁気共鳴特性は NM几(DMSO−D6)PPM O,9−1,2(3
1−1)、1、3−2.1 (4H)であった。
又、薄層クロマトグラフにおけるrcf値は08附近に
2スポツト(ベンゼン:酢酸=10:3)を示した。
2スポツト(ベンゼン:酢酸=10:3)を示した。
上記化合物はジアステレオマーの混合物であるが必要に
よってこれらは分離する事も可能である。
よってこれらは分離する事も可能である。
実施例−4
3−(1−カルボキシ−3−フェニルプロピルアミン)
−5−カルボキシメチル−2−フェニル−2,3−ジヒ
ドロ−1,5−ベンゾチアゼピン−4(51−1)−オ
ンの製造。
−5−カルボキシメチル−2−フェニル−2,3−ジヒ
ドロ−1,5−ベンゾチアゼピン−4(51−1)−オ
ンの製造。
実施例−3で得た化合物400mIIをエタノール5m
lとN−水酸化ナトリウム水溶液2.9−の混合液にと
かし4時間撹拌した。この反応物を減圧下で濃縮の後、
これを水40m1にとかし、少量の不溶物は除いた。水
浴液に濃塩酸を加えてPH2とし、析出した結晶なf取
し、これを水洗して目的とした頭書の化合物を280
m−1得た。この化合物の赤外線吸収特性を示すと、 IRCm 1750,1710,1670,1470゜
1390.1200.700であり 又、薄層クロマトグラフにおける几f値は065と0.
8に(7L−ブタノール:水:酢酸−1:1:1)それ
ぞれのジアステレオマーのスポソトヲ与えた。必要によ
ってはこれらは分離する事が可能である。
lとN−水酸化ナトリウム水溶液2.9−の混合液にと
かし4時間撹拌した。この反応物を減圧下で濃縮の後、
これを水40m1にとかし、少量の不溶物は除いた。水
浴液に濃塩酸を加えてPH2とし、析出した結晶なf取
し、これを水洗して目的とした頭書の化合物を280
m−1得た。この化合物の赤外線吸収特性を示すと、 IRCm 1750,1710,1670,1470゜
1390.1200.700であり 又、薄層クロマトグラフにおける几f値は065と0.
8に(7L−ブタノール:水:酢酸−1:1:1)それ
ぞれのジアステレオマーのスポソトヲ与えた。必要によ
ってはこれらは分離する事が可能である。
実施例−5
s−i−フ)キシカルボニルメチル−3−エトキシカル
ボニルメチルアミノ−2−フェニル−2,5−ジヒドロ
−1,5−ベンゾチアゼピン−4(5I()−オンの製
造。
ボニルメチルアミノ−2−フェニル−2,5−ジヒドロ
−1,5−ベンゾチアゼピン−4(5I()−オンの製
造。
実施例−1で得た3−アミノ−5−、t−ブトキシカル
ボニルメチル−2−フェニル−2,3−ジヒドロ−1,
5−ベンゾチアゼピン−4(5H)−オン1.2gに対
して、グリオキシル酸エチルエステル3.0Iを使用し
た外は、実施例−2と全く同様に操作し実験を行なった
。
ボニルメチル−2−フェニル−2,3−ジヒドロ−1,
5−ベンゾチアゼピン−4(5H)−オン1.2gに対
して、グリオキシル酸エチルエステル3.0Iを使用し
た外は、実施例−2と全く同様に操作し実験を行なった
。
濃縮物中に得られた頭Vの化合物は、ベンゼン:酢酸エ
チル=4:1の混合溶媒を用いてシリカゲルカラムクロ
マト法で分別精製して油状の目的とする頭書の化合物1
.21を得た。
チル=4:1の混合溶媒を用いてシリカゲルカラムクロ
マト法で分別精製して油状の目的とする頭書の化合物1
.21を得た。
この化合物は、薄層シリカゲルクロマトグラフにおいて
Rf値0.5(ベンゼン:酢識エチル−4:1)を示し
た。
Rf値0.5(ベンゼン:酢識エチル−4:1)を示し
た。
実施例−6
5−カルボキシメチル−3−エトキシカルボニルメチル
アミノ−2−フェニル−2,3−ジヒドロ−1,5−ベ
ンゾチアゼピン−4(’5H)−オン、塩酸塩の製造。
アミノ−2−フェニル−2,3−ジヒドロ−1,5−ベ
ンゾチアゼピン−4(’5H)−オン、塩酸塩の製造。
実施例−5で目的とした化合物1,2gを6N−項化水
紫−ジオキサン10m1にとかし室温で2時間撹拌した
。この処理物にエーテルを7.!l]えて結晶を析出さ
せ、その結晶を沢取しエーテルで洗浄して目的とした頭
書の化合物を1.OS得た。
紫−ジオキサン10m1にとかし室温で2時間撹拌した
。この処理物にエーテルを7.!l]えて結晶を析出さ
せ、その結晶を沢取しエーテルで洗浄して目的とした頭
書の化合物を1.OS得た。
この化合物ンま202〜205℃で分解し、融点を知る
ことはできなかった。
ことはできなかった。
又、この化合物の赤外線吸収特性は、
IR1a3rC「11740,1670,1380,1
230゜1020.850,770であり、 薄層シリカゲルクロマトグラフィにおけるnf値は0.
25 (ベンゼン:酢酸=101)を示した。
230゜1020.850,770であり、 薄層シリカゲルクロマトグラフィにおけるnf値は0.
25 (ベンゼン:酢酸=101)を示した。
5−カルボキシメチル−3−カルボキシメチルアミノ−
2−フェニル−2,3−ジヒドロ−1,5−ベンゾチア
ゼピン−4(51■)−オン、塩酸塩の製造。
2−フェニル−2,3−ジヒドロ−1,5−ベンゾチア
ゼピン−4(51■)−オン、塩酸塩の製造。
実施例−6で得た化合物410 m!jをN−水酸化ナ
トリウム水溶液3.5 mlとエタノール5mlの混合
液にとかし60分間撹拌した。処理物に濃塩酸を加えて
PH1〜2とし減圧下で濃縮し乾固した。
トリウム水溶液3.5 mlとエタノール5mlの混合
液にとかし60分間撹拌した。処理物に濃塩酸を加えて
PH1〜2とし減圧下で濃縮し乾固した。
残留物はエタノールに溶かしたが不溶物シまP別した。
r液を濃縮して後、エーテルを加えてJχ5せ、これを
Δ1取しエーテルで洗浄して目的とした頭書の化合物を
550フルを得た。
Δ1取しエーテルで洗浄して目的とした頭書の化合物を
550フルを得た。
この化合物の融点測定を行なったところ、100℃附近
から徐々に分解した。
から徐々に分解した。
又、この化合物の赤外線吸収特性は、
I几KBr cm″ 17?+0.1(S70.147
0.1450゜1400、L520,1200.770
であり、 シリカゲル薄層クロマトグラフィではlLf値o4(n
−ブタノール:水:酢酸=3:1:1)を示した。
0.1450゜1400、L520,1200.770
であり、 シリカゲル薄層クロマトグラフィではlLf値o4(n
−ブタノール:水:酢酸=3:1:1)を示した。
実施例−8
5−2−ブトキシカルボニルメチル−3−(1−エトキ
シカルボニルノニルアミノ)−2−フェニル−2,3−
ジヒドロ−1,5−ベンゾチアゼピン−4(5H)−オ
ンの製造。
シカルボニルノニルアミノ)−2−フェニル−2,3−
ジヒドロ−1,5−ベンゾチアゼピン−4(5H)−オ
ンの製造。
実施例−1で得た化合物1.1gと2−ケトデカン酸エ
チルエステル3.DIを実施例−2と同様に処理し反応
させた。反応生成物は、ベンゼン:酢酸エチル=9:1
の混合溶媒を用いてシリカゲルカラムクロマト法で分別
精製して目的物を油状で13g得た。目的物として得た
頭書の化合物は、シリカゲル薄層クロマトグラフィにお
いてlcf値として092と088(ベンゼン:酢酸エ
チル−8:1)を示し、それぞれのジアステレオマーの
スポットを与えた。これらは必要によっては分離する事
が可能である。
チルエステル3.DIを実施例−2と同様に処理し反応
させた。反応生成物は、ベンゼン:酢酸エチル=9:1
の混合溶媒を用いてシリカゲルカラムクロマト法で分別
精製して目的物を油状で13g得た。目的物として得た
頭書の化合物は、シリカゲル薄層クロマトグラフィにお
いてlcf値として092と088(ベンゼン:酢酸エ
チル−8:1)を示し、それぞれのジアステレオマーの
スポットを与えた。これらは必要によっては分離する事
が可能である。
実施例−9
5−カルボキシメチル−3−(1−エトキシカルボニル
ノニルアミノ)−2−フェニル−2,5−ジヒドロ−1
,5−ベンゾチアゼピン−4(5n’) −オン、塩酸
塩の製造。
ノニルアミノ)−2−フェニル−2,5−ジヒドロ−1
,5−ベンゾチアゼピン−4(5n’) −オン、塩酸
塩の製造。
実施例−8で得た油状物183yを6N−塩化水素−ジ
オキサン10m1にとかし室温で1時間撹拌した。この
液にエーテルを加えて結晶を析出させ・これを沢取しエ
ーテルで洗浄して目的とした頭書の塩をBOOmg得た
。
オキサン10m1にとかし室温で1時間撹拌した。この
液にエーテルを加えて結晶を析出させ・これを沢取しエ
ーテルで洗浄して目的とした頭書の塩をBOOmg得た
。
この化合物の赤外線吸収特性を調べたところ、IR:’
、Cm ” 2920.2B60,1750,1670
゜1470.1450,1200.1020を示し、シ
リカゲル薄層クロマトグラフィーではnf値として0.
45と055(ベンゼン二耐酸=10=1)にそれぞれ
のジアステレオマーのスポットを認めた。これらは必要
によっては分離する事が可能である。
、Cm ” 2920.2B60,1750,1670
゜1470.1450,1200.1020を示し、シ
リカゲル薄層クロマトグラフィーではnf値として0.
45と055(ベンゼン二耐酸=10=1)にそれぞれ
のジアステレオマーのスポットを認めた。これらは必要
によっては分離する事が可能である。
実施例−10
5−カルボキシメチル−3−(1−カルボがフニルアミ
ノ)−2−フェニル−2,3−ジヒドロ−1,5−ベン
ゾチアゼピン−4(5H)−オンの製造。
ノ)−2−フェニル−2,3−ジヒドロ−1,5−ベン
ゾチアゼピン−4(5H)−オンの製造。
実施例−9で得た化合物300m7をN−水酸化ナトリ
ウム水浴液16TLlとエタノール1 mlの混合物に
とかし室温で6時間及び更に60℃で1時間投打した。
ウム水浴液16TLlとエタノール1 mlの混合物に
とかし室温で6時間及び更に60℃で1時間投打した。
処理液にはエタノールを加えて析出した結晶なP取し、
これをエタノールで洗浄した。この結晶を少量の水にと
かし濃塩酸を加えてPH2とし、析出した結晶を沢取し
水洗して目的とした頭書の化合物を170 mg得た。
これをエタノールで洗浄した。この結晶を少量の水にと
かし濃塩酸を加えてPH2とし、析出した結晶を沢取し
水洗して目的とした頭書の化合物を170 mg得た。
この化合物の赤外吸収特性は
1470.145011390,1320゜210
であり、又シリカゲル薄層クロマトグラフィによっては
几fイ直として015と025(ベンゼン:酢、7=1
0:3)にそれぞれのジアステレオマーのスポットを示
した。必要によってはこれらは分離することが可能であ
る。
几fイ直として015と025(ベンゼン:酢、7=1
0:3)にそれぞれのジアステレオマーのスポットを示
した。必要によってはこれらは分離することが可能であ
る。
特許出願人 三井東圧化学株式会社
手 続 補 正 書
昭和59年2月を日
特許庁長官 殿
1、事件の表示
昭和58年特許願第177001 号
2、発明の名称
ベンゾチアゼピン誘導体およびその製造法3、補正をす
る者 明細書第6頁下かも第4行と同じく第3行の間に次の文
章を挿入する。
る者 明細書第6頁下かも第4行と同じく第3行の間に次の文
章を挿入する。
「なおこの段階、の出発物質とするベンゾチアゼピン誘
導体は、β位にフェニル基が及びα位には保護基のつい
たアミノ基がそれぞれ置換されたアクリル酸と2−アミ
ノベンゼンチオールを反応させて得られる化合物の閉環
後のと記保護基の脱離により得られるものでちる。
導体は、β位にフェニル基が及びα位には保護基のつい
たアミノ基がそれぞれ置換されたアクリル酸と2−アミ
ノベンゼンチオールを反応させて得られる化合物の閉環
後のと記保護基の脱離により得られるものでちる。
特許出願人 王井東圧化学株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (式中、R1及び恥は水素又は低級アルキル基を几3は
水素、低級アルキル基又は炭素数が5から10までのア
ルキル基もしくはアリール低級アルキル基をそれぞれ示
す)で表わされるべ/ゾチアゼピン誘導体。 2、一般式(2) %式%(2) (式中、恥は水素又は低級アルキル基を、Xはハロゲン
妓%、 )で表わされる化合物と3−アミノ−2−フェ
ニル−2,3−ジヒドロ−1,5−ベンゾチアゼピン−
4(51−1)−オンを塩基の存在(式中、恥は上記に
同じ)で表わされる化合物とし、ついでこの化合物と (式中、R1は水素又は低級アルキル基を、几3は水素
又は低級アルキル基又は炭素数が5から10までのアル
キル基もしくはアリール低級アルキル基を示す)で表わ
される化合物とを予め混合しておき、ついでこの混合物
ン還元剤により還元反応を行うか、または還元剤の存在
下に両者を混合して反応させることを特徴とする一般式
(1)%式% (式中、R1は水素又は低級アルキル基であり、R2、
恥及び編はいづれも上記に同じ)で表わされる化合物の
製造法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58177001A JPS6069076A (ja) | 1983-09-27 | 1983-09-27 | ベンゾチアゼピン誘導体およびその製造法 |
DE19843423743 DE3423743A1 (de) | 1983-06-29 | 1984-06-28 | Benzothiazepin-derivate und verfahren zu ihrer herstellung |
GB08416421A GB2143816A (en) | 1983-06-29 | 1984-06-28 | Benzothiazepine derivatives |
US06/625,656 US4539150A (en) | 1983-06-29 | 1984-06-28 | Benzothiazepine derivatives and their methods of preparation |
IT21645/84A IT1176345B (it) | 1983-06-29 | 1984-06-28 | Derivati benzotiazepinici e loro metodo di preparazione |
FR8410370A FR2548184A1 (ja) | 1983-06-29 | 1984-06-29 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58177001A JPS6069076A (ja) | 1983-09-27 | 1983-09-27 | ベンゾチアゼピン誘導体およびその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6069076A true JPS6069076A (ja) | 1985-04-19 |
JPH045040B2 JPH045040B2 (ja) | 1992-01-30 |
Family
ID=16023435
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58177001A Granted JPS6069076A (ja) | 1983-06-29 | 1983-09-27 | ベンゾチアゼピン誘導体およびその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6069076A (ja) |
-
1983
- 1983-09-27 JP JP58177001A patent/JPS6069076A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH045040B2 (ja) | 1992-01-30 |
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