JPS606809A - 膜厚監視方法 - Google Patents
膜厚監視方法Info
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- JPS606809A JPS606809A JP11451783A JP11451783A JPS606809A JP S606809 A JPS606809 A JP S606809A JP 11451783 A JP11451783 A JP 11451783A JP 11451783 A JP11451783 A JP 11451783A JP S606809 A JPS606809 A JP S606809A
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- base plate
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、基板上に薄膜を形成する過程中において、そ
の膜厚を光学的に測定・監視し、所望の膜厚を精度よく
実現する方法に関するものである。
の膜厚を光学的に測定・監視し、所望の膜厚を精度よく
実現する方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
真空蒸着法、スパッタリング蒸着法、光学的気相成長法
などの薄膜形成法に；Ｌ・い−Ｃ１形成中のン（す膜の
膜厚を測定・監視する方法の一つとして、薄膜中での光
の干渉を利用した光学的方法が従来から知られている。
などの薄膜形成法に；Ｌ・い−Ｃ１形成中のン（す膜の
膜厚を測定・監視する方法の一つとして、薄膜中での光
の干渉を利用した光学的方法が従来から知られている。
第１図は、この方法の原理を示す概念図である。同図に
おいて、１は基板、２は薄膜、１１は入射光、１２ａお
よび１２ｂはそｔｒぞれ基板１と薄膜２の界面および薄
膜２の表面で反射された反射光である。この図かられか
るように、上記２種の反射光１２ａおよび１２ｂは、ン
：１すＨＩＪ２中を通過する分だけその光路長に差が生
じ、〃いに干渉することになる。従って、入射光１１に
レーザー光などの単色光を用いれば、反射）１５強度は
膜厚に応じて周期的な変化を示す。すなわち、薄膜を形
成しつつ反射光強度を観測ずれに１：、その強弱の周期
数から膜厚を言１算することができる、この原理を用い
／ζ膜厚監視方法の従来例を＠２図に示す。同図で１お
よび１′は基板、３ ｆｄ： ７１ｊ色光源、４は光検
出器、１１は入射光、１２およ０・１２′は反射光であ
る。この場合、基板が１のように正常な角度で配置され
ていれば、反射光は１２に示す経路をとり、光検出器４
に入射（）て正常な測定が行なわれる。ところが、基板
は当然、薄膜形成のたびに交換されるものであるから、
その角度を常に一定に保つことは難しく、基板の角度が
１′のようにずれると、反射光は１２′のように大きく
ずれた経路をとることになっで、測定が不可能になる。
おいて、１は基板、２は薄膜、１１は入射光、１２ａお
よび１２ｂはそｔｒぞれ基板１と薄膜２の界面および薄
膜２の表面で反射された反射光である。この図かられか
るように、上記２種の反射光１２ａおよび１２ｂは、ン
：１すＨＩＪ２中を通過する分だけその光路長に差が生
じ、〃いに干渉することになる。従って、入射光１１に
レーザー光などの単色光を用いれば、反射）１５強度は
膜厚に応じて周期的な変化を示す。すなわち、薄膜を形
成しつつ反射光強度を観測ずれに１：、その強弱の周期
数から膜厚を言１算することができる、この原理を用い
／ζ膜厚監視方法の従来例を＠２図に示す。同図で１お
よび１′は基板、３ ｆｄ： ７１ｊ色光源、４は光検
出器、１１は入射光、１２およ０・１２′は反射光であ
る。この場合、基板が１のように正常な角度で配置され
ていれば、反射光は１２に示す経路をとり、光検出器４
に入射（）て正常な測定が行なわれる。ところが、基板
は当然、薄膜形成のたびに交換されるものであるから、
その角度を常に一定に保つことは難しく、基板の角度が
１′のようにずれると、反射光は１２′のように大きく
ずれた経路をとることになっで、測定が不可能になる。
通常の薄膜形成装置においては、その構造」−１基板１
と光検出器４の距離がかなり長くなるため、基板角度の
僅かなずれに対しても、光検出器面での反射光位置のず
れは大きくなり、実用上火きな問題となっていた。
と光検出器４の距離がかなり長くなるため、基板角度の
僅かなずれに対しても、光検出器面での反射光位置のず
れは大きくなり、実用上火きな問題となっていた。
発明の目的
本発明は、前述のような従来の問題に鑑み、基板角度の
ずれに関係なく安定な測定が行なえる膜厚監視方法を提
供することを目的としている。
ずれに関係なく安定な測定が行なえる膜厚監視方法を提
供することを目的としている。
発明の構成
本発明は、従来の光学的膜厚監視方法において、基板近
傍に、基板面に対しほぼ垂直に配置し、た反射面によっ
て、反射光を再反射させるか寸たは前記反射面によって
入射光を反射させた後、薄膜に入射させることにより、
入射光と反射光を基板角度にかかわらず平行に保ち、反
射光が常に光検出器に入射するようにしたものである。
傍に、基板面に対しほぼ垂直に配置し、た反射面によっ
て、反射光を再反射させるか寸たは前記反射面によって
入射光を反射させた後、薄膜に入射させることにより、
入射光と反射光を基板角度にかかわらず平行に保ち、反
射光が常に光検出器に入射するようにしたものである。
実施例の説明
本発明の具体的な実施例を、図面を用いて５（１、明す
る。
る。
第３図ｒｒｉ本発明の一実施例における膜厚監視方法を
示す概念図である。同図において、１ 、１’＆；Ｉ、
基板、３は単色光源、４は光検出器、６および５′は反
射面、１１け入射光、１２および１２′は反射光である
。
示す概念図である。同図において、１ 、１’＆；Ｉ、
基板、３は単色光源、４は光検出器、６および５′は反
射面、１１け入射光、１２および１２′は反射光である
。
本実施例において、基板１と反射面６は互いにほぼ垂直
になるように配置されており、基板からの反射光は反射
面５で再反射された後、光検出器４に入射する。この場
合、基板面と入射光のなす角度に関係なく、入射光と再
反射後の反射光Ｕ１、平行となる。従って基板の角度が
１′のようにずれても、反射面が６′のように基板との
垂直関係をほぼ保っていれば、再反射後の反射光は１２
′のように、１２とほとんど同一の経路を通ることにな
り、光検出器と基板の距離が遠くてもかならず光検出器
４に入射する。基板１，１′と反射面６，５′の垂直性
は、基板ホルダーと反射面のホルダーを一体構造とする
か寸たｄｌ、反射面のホルダーを基板に密着させる構造
とすることにより容易に保持することができる。なお反
射面６，５′としては、鏡あるいはブリズノ・を使用す
ればよい。
になるように配置されており、基板からの反射光は反射
面５で再反射された後、光検出器４に入射する。この場
合、基板面と入射光のなす角度に関係なく、入射光と再
反射後の反射光Ｕ１、平行となる。従って基板の角度が
１′のようにずれても、反射面が６′のように基板との
垂直関係をほぼ保っていれば、再反射後の反射光は１２
′のように、１２とほとんど同一の経路を通ることにな
り、光検出器と基板の距離が遠くてもかならず光検出器
４に入射する。基板１，１′と反射面６，５′の垂直性
は、基板ホルダーと反射面のホルダーを一体構造とする
か寸たｄｌ、反射面のホルダーを基板に密着させる構造
とすることにより容易に保持することができる。なお反
射面６，５′としては、鏡あるいはブリズノ・を使用す
ればよい。
本実施例では、基板からの反射光を反射面によりＭ反射
させているが、第３図における単色光源３と光検出器４
の位置を互いに交換し、入射光を反射面で反射させた後
、基板面に入射させても、全く同様の効果が得られるこ
とは明らかである。
させているが、第３図における単色光源３と光検出器４
の位置を互いに交換し、入射光を反射面で反射させた後
、基板面に入射させても、全く同様の効果が得られるこ
とは明らかである。
なお本実施例では基板面の何れが薄膜形成面であるかを
明示しなかったが、第１図に示したように入射光側に薄
膜を形成しても、その逆であっても１１り膜による干渉
現象は同様に生じ、本発明の効果にも変化はない。
明示しなかったが、第１図に示したように入射光側に薄
膜を形成しても、その逆であっても１１り膜による干渉
現象は同様に生じ、本発明の効果にも変化はない。
発明の効果
以上のように、本発明は基板に垂直な反射面を併用する
ことにより、基板の角度ずれがあっても常に安定に膜厚
の監視が行なえるという効果を示すものであり、各種の
薄膜形成過程において、すぐれた有用性をもつものであ
る。
ことにより、基板の角度ずれがあっても常に安定に膜厚
の監視が行なえるという効果を示すものであり、各種の
薄膜形成過程において、すぐれた有用性をもつものであ
る。
第１図は従来例および本発明に共通ずる光学的膜厚測定
法の原理を示す概念図、第２図は従来の膜厚監視方法を
示す概念図、第３図は本発明の一実施例における膜厚監
視方法を示す概念図である。。 １．１′・・・・・基板、２・・・・・・薄膜、３・・
・・弔電光源、４・・・・・・光検出器、６，５′・・
・・・・反射面、１１・・・入射光、１２ 、１２’、
１２ａ 、 １２ｂ・−−−反射光。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第３図
法の原理を示す概念図、第２図は従来の膜厚監視方法を
示す概念図、第３図は本発明の一実施例における膜厚監
視方法を示す概念図である。。 １．１′・・・・・基板、２・・・・・・薄膜、３・・
・・弔電光源、４・・・・・・光検出器、６，５′・・
・・・・反射面、１１・・・入射光、１２ 、１２’、
１２ａ 、 １２ｂ・−−−反射光。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第３図
Claims (1)
- 基板上に薄膜を形成する過程中に、前記薄膜に単色光を
入射させ、反射光強度の時間的変化を観測することによ
って前記薄膜の膜厚を監視するに際し、前記基板の近傍
に、前記基板面に対しほぼ垂直に配置した反射面によっ
て前記反射光を再反射さ−ぜるかまたは前記反射面によ
って前記入射光を反射させた後、前記薄膜に入射させる
ことにより、前記入射光と前記反射光をほぼ平行に保つ
ことを特徴とする膜厚監視方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11451783A JPS606809A (ja) | 1983-06-24 | 1983-06-24 | 膜厚監視方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11451783A JPS606809A (ja) | 1983-06-24 | 1983-06-24 | 膜厚監視方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS606809A true JPS606809A (ja) | 1985-01-14 |
Family
ID=14639729
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11451783A Pending JPS606809A (ja) | 1983-06-24 | 1983-06-24 | 膜厚監視方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS606809A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62137213A (ja) * | 1985-12-11 | 1987-06-20 | Nippon Denso Co Ltd | カ−エアコン制御装置 |
| KR100516183B1 (ko) * | 2002-09-16 | 2005-09-21 | 최창규 | 주차금지 표시대 |
-
1983
- 1983-06-24 JP JP11451783A patent/JPS606809A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62137213A (ja) * | 1985-12-11 | 1987-06-20 | Nippon Denso Co Ltd | カ−エアコン制御装置 |
| JPH0144522B2 (ja) * | 1985-12-11 | 1989-09-28 | Nippon Denso Co | |
| KR100516183B1 (ko) * | 2002-09-16 | 2005-09-21 | 최창규 | 주차금지 표시대 |
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