JPH032403B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH032403B2 JPH032403B2 JP19326084A JP19326084A JPH032403B2 JP H032403 B2 JPH032403 B2 JP H032403B2 JP 19326084 A JP19326084 A JP 19326084A JP 19326084 A JP19326084 A JP 19326084A JP H032403 B2 JPH032403 B2 JP H032403B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- interference fringes
- film thickness
- light
- optical path
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 16
- 239000010408 film Substances 0.000 description 28
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000005337 ground glass Substances 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
Description
【発明の詳細な説明】
(イ) 発明の目的
[産業上の利用分野]
この発明は薄膜の膜厚測定装置に関するもので
ある。
ある。
光学系機器の蒸着膜の厚さや、ICパターンの
焼付け膜の厚さはミクロンオーダーのものであ
り、したがつて、ミクロンオーダーの膜厚の測定
技術が必要である。
焼付け膜の厚さはミクロンオーダーのものであ
り、したがつて、ミクロンオーダーの膜厚の測定
技術が必要である。
[従来の技術]
そのような膜厚測定技術のうちの光学的膜厚測
定技術の一種として従来、レーザの可干渉性を利
用した技術がある。これは各種干渉計を用いたも
ので、例えば、フイゾー干渉計を用いた膜厚測定
の場合は、第5図に示すように、レーザ光源から
発生したレーザ光束10の一部分に試料16を挿
入し、参照平面7で反射した光束Aと参照平面7
を通過し試料16を通らずにミラー8で反射した
光束αとの干渉縞Aαを形成させ、また参照平面
7で反射した光束Bと参照平面7を通過し、試料
16を通過しかつミラー8で反射した光束βとの
干渉縞Bβを形成させる。
定技術の一種として従来、レーザの可干渉性を利
用した技術がある。これは各種干渉計を用いたも
ので、例えば、フイゾー干渉計を用いた膜厚測定
の場合は、第5図に示すように、レーザ光源から
発生したレーザ光束10の一部分に試料16を挿
入し、参照平面7で反射した光束Aと参照平面7
を通過し試料16を通らずにミラー8で反射した
光束αとの干渉縞Aαを形成させ、また参照平面
7で反射した光束Bと参照平面7を通過し、試料
16を通過しかつミラー8で反射した光束βとの
干渉縞Bβを形成させる。
干渉縞Bβは基準となる干渉縞Aαに対して試料
通過によつて受ける光路差の変化分だけずれてい
るので、そのずれ量から試料16の厚みを求める
ものである。
通過によつて受ける光路差の変化分だけずれてい
るので、そのずれ量から試料16の厚みを求める
ものである。
[発明が解決しようとする問題点]
ところで、このようにして、膜厚測定には基準
の干渉縞Aαのうちの1本の干渉縞と、それに対
応する干渉縞Bβうちの1本の干渉縞を対比させ
て、そのずれ量を測定する必要があり、試料の膜
厚が波長より短い場合は、ずれ量も1フリンジを
越えないから、干渉縞Bβのうち対比すべき1本
の干渉縞を特定するのは容易であるが、試料の膜
厚が波長より長い場合は、干渉縞Bβずれ量が数
フリンジを越えるので、干渉縞Bβのうち対比す
べき1本の干渉縞がどこに現われているか分ら
ず、それを特定することができない。したがつ
て、試料の膜厚が波長を越えるもの場合は、干渉
計による膜厚の測定が相当に困難である。そこ
で、この対比すべき干渉縞を特定するために、従
来は波長の異なる3種の光波を用いて3種の干渉
縞を形成し、各波長ごとのずれ量を観察して、対
比すべき干渉縞を特定することも行なわれている
が、3種の光波を使用することは装置が大がかり
になるばかりでなく、操作も煩雑になつて実用上
不利である。
の干渉縞Aαのうちの1本の干渉縞と、それに対
応する干渉縞Bβうちの1本の干渉縞を対比させ
て、そのずれ量を測定する必要があり、試料の膜
厚が波長より短い場合は、ずれ量も1フリンジを
越えないから、干渉縞Bβのうち対比すべき1本
の干渉縞を特定するのは容易であるが、試料の膜
厚が波長より長い場合は、干渉縞Bβずれ量が数
フリンジを越えるので、干渉縞Bβのうち対比す
べき1本の干渉縞がどこに現われているか分ら
ず、それを特定することができない。したがつ
て、試料の膜厚が波長を越えるもの場合は、干渉
計による膜厚の測定が相当に困難である。そこ
で、この対比すべき干渉縞を特定するために、従
来は波長の異なる3種の光波を用いて3種の干渉
縞を形成し、各波長ごとのずれ量を観察して、対
比すべき干渉縞を特定することも行なわれている
が、3種の光波を使用することは装置が大がかり
になるばかりでなく、操作も煩雑になつて実用上
不利である。
このようなことから、波長以上の膜厚をも容易
に測定し得る技術の開発が望まれている。
に測定し得る技術の開発が望まれている。
この発明は上記の如き事情に鑑みてなされたも
のであつて、波長以上の膜厚をも容易かつ確実に
測定し得る膜厚測定装置を提供することを目的と
するものである。
のであつて、波長以上の膜厚をも容易かつ確実に
測定し得る膜厚測定装置を提供することを目的と
するものである。
(ロ) 発明の構成
[問題点を解決するための手段]
この目的に対応して、この発明の膜厚測定装置
は同一の光源から生成されかつ光路長が異なる2
つの光波を重ね合せた干渉縞を2組形成する光学
系を有する干渉計を備え、前記2組の干渉縞のう
ちの一方の組の干渉縞における一方の光波の光路
中に前記一方の光波の試料膜中における光路長が
変化する方向に回転可能な前記試料膜を挿入し、
かつ、前記試料の前記回転角度を検出する回転角
度検出器を備えていることを特徴としている。
は同一の光源から生成されかつ光路長が異なる2
つの光波を重ね合せた干渉縞を2組形成する光学
系を有する干渉計を備え、前記2組の干渉縞のう
ちの一方の組の干渉縞における一方の光波の光路
中に前記一方の光波の試料膜中における光路長が
変化する方向に回転可能な前記試料膜を挿入し、
かつ、前記試料の前記回転角度を検出する回転角
度検出器を備えていることを特徴としている。
以下、この発明の詳細を一実施例を示す図面に
ついて説明する。
ついて説明する。
第1図において、1は膜厚測定装置である。膜
厚測定装置1は干渉計2と試料保持装置3とを備
えている。
厚測定装置1は干渉計2と試料保持装置3とを備
えている。
干渉計2としてはフイゾー干渉計、マイケルソ
ン干渉計、マツハツエンダー干渉計、その他の任
意の干渉計を使用し得るが、この実施例ではフイ
ゾー干渉計を使用している。
ン干渉計、マツハツエンダー干渉計、その他の任
意の干渉計を使用し得るが、この実施例ではフイ
ゾー干渉計を使用している。
干渉計2はレーザ光源4、ハーフミラー5、レ
ンズ6、ガラス板製の参照平面7、ミラー8、レ
ンズ11及びスリガラス製のスクリーン12を備
えている。このような構成の干渉計2において
は、後述する試料16を配設しない状態において
は、レーザ光源4から発生した光はレンズ(図示
せず)で一定の角度に拡げられたのち、レンズ6
で平行光束とされ、参照平面7に入射する。参照
平面7に入射した平行光束のうち1部分は、参照
平面7で反射されて反射光束13となり、残部は
参照平面7を透過して透過光14となり、ミラー
8に達して反射されたのち、参照平面7を反対方
向から透過してレンズ6に達する。
ンズ6、ガラス板製の参照平面7、ミラー8、レ
ンズ11及びスリガラス製のスクリーン12を備
えている。このような構成の干渉計2において
は、後述する試料16を配設しない状態において
は、レーザ光源4から発生した光はレンズ(図示
せず)で一定の角度に拡げられたのち、レンズ6
で平行光束とされ、参照平面7に入射する。参照
平面7に入射した平行光束のうち1部分は、参照
平面7で反射されて反射光束13となり、残部は
参照平面7を透過して透過光14となり、ミラー
8に達して反射されたのち、参照平面7を反対方
向から透過してレンズ6に達する。
その後、レンズ6に達した反射光13及び透過
光14は共にもとの光路を逆行してハーフミラー
5に達し、ここで反射されてレンズ11を通して
スクリーン12上に投影される。スクリーン12
上には反射光13と透過光14の重ね合せによる
干渉縞が形成される。
光14は共にもとの光路を逆行してハーフミラー
5に達し、ここで反射されてレンズ11を通して
スクリーン12上に投影される。スクリーン12
上には反射光13と透過光14の重ね合せによる
干渉縞が形成される。
一方、試料保持装置3は、第1図及び第2図に
示すように、回転テーブル15を備え、その回転
テーブル15上に試料16を保持する。ここで特
に重要なことは試料16の配置位置であつて、試
料16は透過光14の光路の一部分に配設される
のであつて、したがつて透過光14は試料16を
透過するものβと、試料16の影響を受けないも
のαとに分類することができる。
示すように、回転テーブル15を備え、その回転
テーブル15上に試料16を保持する。ここで特
に重要なことは試料16の配置位置であつて、試
料16は透過光14の光路の一部分に配設される
のであつて、したがつて透過光14は試料16を
透過するものβと、試料16の影響を受けないも
のαとに分類することができる。
試料16はその厚みの方向に直角な方向が回転
テーブル15の回転中心と平行をなすように配設
され、その回転中心は透過光14の光軸と直角を
なすようになつている。
テーブル15の回転中心と平行をなすように配設
され、その回転中心は透過光14の光軸と直角を
なすようになつている。
[作用]
このように構成された膜厚測定装置1において
試料16の膜厚を測定するには、次のようにす
る。
試料16の膜厚を測定するには、次のようにす
る。
まず、試料16を試料保持装置3にセツトす
る。次にレーザ光源4を発光させる。レーザ光源
4から発生した光はレンズ(図示せず)で一定の
角度に拡げられたのち、レンズ6で平行光束とさ
れ、参照平面7に入射する。参照平面7に入射し
た平行光束のうち1部分は、参照平面7で反射さ
れて反射光束13(A及びB)となり、残部は参
照平面7を透過して透過光14となる。透過光1
4の一部分αは直ちにミラー8に達するが、他の
部分βは試料16を透過したのち、ミラー8に達
する。透過光14(α及びβ)はミラー8で反射
されたのち、参照平面7を反対方向から透過して
レンズ6に達する。その後、レンズ6に達した反
射光13(A及びB)と透過光(α及びβ)は共
にもとの光路を逆行してハーフミラー5に達し、
ここで反射されてレンズ11を通してスクリーン
12上に投影される。スクリーン12には反射光
Aと透過光αとの重ね合わせによる干渉縞Aαと
反射光βと透過光βとの重ね合せによる干渉縞
Bβとが形成さる。このとき、ミラー8を微調整
して視野内に複数本の干渉縞を生じさせる。この
干渉縞Aαは基準(参照側)となるもので、それ
に対し干渉縞Bβは試料16により光路差の変化
分だけずれている。次に、そのずれ量から干渉縞
の位相差を求める。即ち、モニタテレビ25上に
示される干渉縞間隔Sとずれ量ΔSとからΔS/S
として求められる。さらに処理装置17によつて
回転テーブル15が回転され、試料16への入射
角を変化させて再び干渉縞の位相差を求める。入
射角の変化により、試料16内の光路長が変化
し、位相差も変化する。このときの角度の変化量
は、回転テーブル15に組込まれているエンコー
ダ等により読取り、処理装置17に入力される。
これらの測定結果から、後に示す計算式により試
料16の厚さが求められる。
る。次にレーザ光源4を発光させる。レーザ光源
4から発生した光はレンズ(図示せず)で一定の
角度に拡げられたのち、レンズ6で平行光束とさ
れ、参照平面7に入射する。参照平面7に入射し
た平行光束のうち1部分は、参照平面7で反射さ
れて反射光束13(A及びB)となり、残部は参
照平面7を透過して透過光14となる。透過光1
4の一部分αは直ちにミラー8に達するが、他の
部分βは試料16を透過したのち、ミラー8に達
する。透過光14(α及びβ)はミラー8で反射
されたのち、参照平面7を反対方向から透過して
レンズ6に達する。その後、レンズ6に達した反
射光13(A及びB)と透過光(α及びβ)は共
にもとの光路を逆行してハーフミラー5に達し、
ここで反射されてレンズ11を通してスクリーン
12上に投影される。スクリーン12には反射光
Aと透過光αとの重ね合わせによる干渉縞Aαと
反射光βと透過光βとの重ね合せによる干渉縞
Bβとが形成さる。このとき、ミラー8を微調整
して視野内に複数本の干渉縞を生じさせる。この
干渉縞Aαは基準(参照側)となるもので、それ
に対し干渉縞Bβは試料16により光路差の変化
分だけずれている。次に、そのずれ量から干渉縞
の位相差を求める。即ち、モニタテレビ25上に
示される干渉縞間隔Sとずれ量ΔSとからΔS/S
として求められる。さらに処理装置17によつて
回転テーブル15が回転され、試料16への入射
角を変化させて再び干渉縞の位相差を求める。入
射角の変化により、試料16内の光路長が変化
し、位相差も変化する。このときの角度の変化量
は、回転テーブル15に組込まれているエンコー
ダ等により読取り、処理装置17に入力される。
これらの測定結果から、後に示す計算式により試
料16の厚さが求められる。
角度の基準は次のように設定する。光路中にレ
ンズ22を入れることにより、スクリーン12上
に光束の焦点を結ばせる。参照平面7からの反射
光と試料16の表面からの反射光がそれぞれ焦点
を結んでいるので、これらを重ね合せることによ
り、試料16に光束が垂直入射するように調整で
きる。なお、スクリーン12としてモータ23で
駆動される回転スリガラスを使用する場合は、ス
ペツクル等のノイズを低減されることができる。
試料16の膜厚は次に示す計算式により導出する
ことができる。
ンズ22を入れることにより、スクリーン12上
に光束の焦点を結ばせる。参照平面7からの反射
光と試料16の表面からの反射光がそれぞれ焦点
を結んでいるので、これらを重ね合せることによ
り、試料16に光束が垂直入射するように調整で
きる。なお、スクリーン12としてモータ23で
駆動される回転スリガラスを使用する場合は、ス
ペツクル等のノイズを低減されることができる。
試料16の膜厚は次に示す計算式により導出する
ことができる。
[記号の説明]
d:薄膜の厚さ
n:薄膜の屈折率
i:光束の入射角
θ:光束の屈折角
l:膜中を光束が通過する長さ
a:薄膜がないとき通過すべき空気層の長さ
m:干渉縞次数(整数)
Δm:干渉縞次数の端数部分
λ:光源の波長
[関係式]
nsinθ=sini ……(1)
lcosθ=α ……(2)
lcos(i−θ)=a ……(3)
nl−a=(m+Δm)λ ……(4)
(2)(3)(4)よりa,lを消去して
d/(m+Δm)λ
=cosθ/{n−cos(i−θ)} ……(5)
(1)式の関係を用いて、θを消去して、dを求め
ると次式となる。
ると次式となる。
d=(m+Δm)λ/{√2−2−cosi}
……(6) 最初にnが既知の場合について考えると、波長
λは既知、入射角iおよび干渉縞の端数Δmは測
定されるが、厚さdと縞次数(m)は未知であ
る。そこで入射角iをi0からi1に変化させたとき
に縞次数(m+Δm)が(m0+Δm0)から(m1
+Δm1)に変化したとする。
……(6) 最初にnが既知の場合について考えると、波長
λは既知、入射角iおよび干渉縞の端数Δmは測
定されるが、厚さdと縞次数(m)は未知であ
る。そこで入射角iをi0からi1に変化させたとき
に縞次数(m+Δm)が(m0+Δm0)から(m1
+Δm1)に変化したとする。
d=(m0+Δm0)λ/{√2−2 0−cosi0}
……(7) d=(m1+Δm1)λ/{√2−2 1−cosi1}
……(8) 入射角は基準としてi0=O゜に設定するものとし、
(7),(8)式から d=(m1−m0+Δm1−Δm0)λ/{√2−
sin2i1−cosi1−(n−1)} ……(9) となり、薄膜の厚さdが求められる。
……(7) d=(m1+Δm1)λ/{√2−2 1−cosi1}
……(8) 入射角は基準としてi0=O゜に設定するものとし、
(7),(8)式から d=(m1−m0+Δm1−Δm0)λ/{√2−
sin2i1−cosi1−(n−1)} ……(9) となり、薄膜の厚さdが求められる。
次に屈折率nが未知の場合について考える。こ
のときは入射角i0からもうひとつの異なつた入射
角i2に変化させたときの縞次数m2+Δm2を測定
し、同様にしてdを求める。
のときは入射角i0からもうひとつの異なつた入射
角i2に変化させたときの縞次数m2+Δm2を測定
し、同様にしてdを求める。
M1=m1−m0+Δm1−Δm0
M2=m2−m0+Δm2−Δm0
とすると(9)式から
d=M1λ/{√2−2 1−cosi1−(n−1)
}
……(9) d=M2λ/{√2−2 2−cosi2−(n−1)
}
……(10) なる連立方程式がたてられるのでこれをnについ
て解けばよい。
}
……(9) d=M2λ/{√2−2 2−cosi2−(n−1)
}
……(10) なる連立方程式がたてられるのでこれをnについ
て解けばよい。
(9),(10)式によりd、λを消去し、整理すると、
n(M2−M1)+{M1(1−cosi2)−M2(1−
cosi1)} =M2√2−2 1+M1√2−2
2
……(11) ここで p=M1(1−cosi2) ……(12) q=M2(1−cosi1) ……(13) とおき、(11)式を平方して整理すると n2M1M2+n(M1−M2)(p−q)−(M1p+
M2q−pq) =M1M2√2−2 1)(−2 2)……(
14) さらに平方してnの降べきに整理すると An3+Bn2+C2+D=0 ただし A=2M1M2(M1−M2)(p−q) B=(M1−M2)2(p−q)2 −2M1M2(M1p+M2q−pq) +M1 2M2 2(sin2i1+sin2i2) C=−2(M1−M2)(p−q) (M1p+M2q−pq) D=(M1p+M2q−pq)2 −M1 2M2 2sin2i1sin2i2 nは3次方程式の根の公式を用いることによつ
て求めれる。
cosi1)} =M2√2−2 1+M1√2−2
2
……(11) ここで p=M1(1−cosi2) ……(12) q=M2(1−cosi1) ……(13) とおき、(11)式を平方して整理すると n2M1M2+n(M1−M2)(p−q)−(M1p+
M2q−pq) =M1M2√2−2 1)(−2 2)……(
14) さらに平方してnの降べきに整理すると An3+Bn2+C2+D=0 ただし A=2M1M2(M1−M2)(p−q) B=(M1−M2)2(p−q)2 −2M1M2(M1p+M2q−pq) +M1 2M2 2(sin2i1+sin2i2) C=−2(M1−M2)(p−q) (M1p+M2q−pq) D=(M1p+M2q−pq)2 −M1 2M2 2sin2i1sin2i2 nは3次方程式の根の公式を用いることによつ
て求めれる。
ただし屈折率nは一般に1〜3以外の値をとるこ
とはないのでこれにあてはまるnが求めるとnと
なる。
とはないのでこれにあてはまるnが求めるとnと
なる。
An3+Bn2+Cn+D=0
n=y−(B/3A)とすると
y1=E+F
y2,3=−{(E+F)/2}
±{(E−F)/2)}√3i
∴n1=E+F−(B/3A)
n2,3=−{(E+F)/2}−(B/3A)
±{(E−F)/2}√3i
nは1〜3の範囲と考えられるので、n1〜3につい
て吟味する。
て吟味する。
ただし
R=2(B/2A)3−(BC/3A2)+(D/A)
Q=1/9/〔{(−B2)/3A2}+(C/A)〕
+(R/2)2
干渉縞の傾斜の影響を避けるためには、第4図
に示すように、光検出器D1,D2,D3を干渉
縞の試料側に1個(D1)、参照側に2個(D2,
D3)、それぞれ等間隔に直線上に設置する。干渉
縞が光検出器D1,D2,D3の配列方向と同一
方向にあるときは、光検出器D2とD3との間の
位相差はないので、光検出器D1と光検出器D2
(またはD3)の位相差が試料側と参照側の位相
差である。干渉縞が傾斜しているときは光検出器
D2とD3との間に位相差が生じるので、求める
位相差は光検出器D1とD2の位相差から光検出
器D2とD3の位相差を差し引いたものとなる。
に示すように、光検出器D1,D2,D3を干渉
縞の試料側に1個(D1)、参照側に2個(D2,
D3)、それぞれ等間隔に直線上に設置する。干渉
縞が光検出器D1,D2,D3の配列方向と同一
方向にあるときは、光検出器D2とD3との間の
位相差はないので、光検出器D1と光検出器D2
(またはD3)の位相差が試料側と参照側の位相
差である。干渉縞が傾斜しているときは光検出器
D2とD3との間に位相差が生じるので、求める
位相差は光検出器D1とD2の位相差から光検出
器D2とD3の位相差を差し引いたものとなる。
[実施例]
(1)予め厚さが2.8μmと測定されている薄膜を本
装置によつて測定した。結果は次の通りである。
装置によつて測定した。結果は次の通りである。
i1=39゜75′ 2.68μm
i1=45゜ 2.70μm
i1=56゜50゜ 2.78μm
(2)予め厚さが2.6μmと測定されている薄膜を本
装置によつて測定した。結果は次の通りである。
装置によつて測定した。結果は次の通りである。
i1=39゜75′ 2.65μm
i1=45゜ 2.74μm
i1=56゜50′ 2.57μm
(ハ) 発明の効果
このように、この発明によれば、試料を回転さ
せるだけで、波長より試料の膜厚が大きい場合に
も、容易かつ確実に、その膜厚を測定することが
できる膜厚測定装置を得ることができる。
せるだけで、波長より試料の膜厚が大きい場合に
も、容易かつ確実に、その膜厚を測定することが
できる膜厚測定装置を得ることができる。
第1図は膜厚測定装置を示す正面構成説明図、
第2図は膜厚測定装置の試料部分の平面構成説明
図、第3図は試料を示す側面説明図、第4図は光
検出器の配設位置を示す説明図、及び第5図は従
来の膜厚測定装置を示す正面構成説明図である。 1……膜厚測定装置、2……干渉計、3……試
料保持装置、4……レーザ光源、5……ハーフミ
ラー、6……レンズ、7……参照平面、8……ミ
ラー、11……レンズ、12……スクリーン、1
3……反射光、14……透過光、15……回転テ
ーブル、16……試料、17……処理装置、18
……テレビカメラ、21……モニタテレビ、22
……レンズ。
第2図は膜厚測定装置の試料部分の平面構成説明
図、第3図は試料を示す側面説明図、第4図は光
検出器の配設位置を示す説明図、及び第5図は従
来の膜厚測定装置を示す正面構成説明図である。 1……膜厚測定装置、2……干渉計、3……試
料保持装置、4……レーザ光源、5……ハーフミ
ラー、6……レンズ、7……参照平面、8……ミ
ラー、11……レンズ、12……スクリーン、1
3……反射光、14……透過光、15……回転テ
ーブル、16……試料、17……処理装置、18
……テレビカメラ、21……モニタテレビ、22
……レンズ。
Claims (1)
- 1 同一の光源から生成されかつ光路長が異なる
2つの光波を重ね合せた干渉縞を2組形成する光
学系を有する干渉計を備え、前記2組の干渉縞の
うちの一方の組の干渉縞における一方の光波の光
路中に前記一方の光波の試料膜中における光路長
が変化する方向に回転可能な前記試料膜を挿入
し、かつ、前記試料の前記回転角度を検出する回
転角度検出器を備えていることを特徴とする膜厚
測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19326084A JPS6171305A (ja) | 1984-09-14 | 1984-09-14 | 膜厚測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19326084A JPS6171305A (ja) | 1984-09-14 | 1984-09-14 | 膜厚測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6171305A JPS6171305A (ja) | 1986-04-12 |
JPH032403B2 true JPH032403B2 (ja) | 1991-01-16 |
Family
ID=16304984
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19326084A Granted JPS6171305A (ja) | 1984-09-14 | 1984-09-14 | 膜厚測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6171305A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4651531B2 (ja) * | 2005-12-26 | 2011-03-16 | 三鈴工機株式会社 | ホイールコンベア |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5333049A (en) * | 1991-12-06 | 1994-07-26 | Hughes Aircraft Company | Apparatus and method for interferometrically measuring the thickness of thin films using full aperture irradiation |
DE60307522T2 (de) * | 2002-04-26 | 2007-06-06 | Optrex Corp. | Verfahren zur Überprüfung transparenter Substrate |
-
1984
- 1984-09-14 JP JP19326084A patent/JPS6171305A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4651531B2 (ja) * | 2005-12-26 | 2011-03-16 | 三鈴工機株式会社 | ホイールコンベア |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6171305A (ja) | 1986-04-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6847458B2 (en) | Method and apparatus for measuring the shape and thickness variation of polished opaque plates | |
US4367044A (en) | Situ rate and depth monitor for silicon etching | |
JPS60242308A (ja) | 薄いサンプルの厚さの測定方法及びその装置並びに薄いサンプルの特性の測定方法及びその装置 | |
US5218424A (en) | Flying height and topography measuring interferometer | |
EP0647827B1 (en) | Film thickness measurement of structures containing a scattering surface | |
US4969744A (en) | Optical angle-measuring device | |
JPH05500712A (ja) | 光学式計測装置 | |
De Nicola et al. | Reflective grating interferometer for measuring the refractive index of transparent materials | |
JPH07101166B2 (ja) | 干渉計 | |
US3635552A (en) | Optical interferometer | |
JPS5818604B2 (ja) | 厚さの測定方法 | |
US4807997A (en) | Angular displacement measuring interferometer | |
US5028137A (en) | Angular displacement measuring interferometer | |
JPH032403B2 (ja) | ||
US3471239A (en) | Interferometric apparatus | |
US3285124A (en) | High precision pointing interferometer with modified kosters prism | |
JP4032511B2 (ja) | 薄膜の光学定数測定方法 | |
JP3957911B2 (ja) | シアリング干渉計及び該干渉計を備えた屈折率分布測定装置及び屈折率分布の測定方法 | |
US3419331A (en) | Single and double beam interferometer means | |
US3043182A (en) | Interferometer for testing large surfaces | |
JPH07332956A (ja) | 表面形状測定装置 | |
TW201420993A (zh) | 多功能之薄膜元件檢測儀 | |
JPS6212447B2 (ja) | ||
JPH07270145A (ja) | 平面度測定装置 | |
JPS6151241B2 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |