JPS6066833A - 固体集積回路 - Google Patents

固体集積回路

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JPS6066833A
JPS6066833A JP59166678A JP16667884A JPS6066833A JP S6066833 A JPS6066833 A JP S6066833A JP 59166678 A JP59166678 A JP 59166678A JP 16667884 A JP16667884 A JP 16667884A JP S6066833 A JPS6066833 A JP S6066833A
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    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
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    • HELECTRICITY
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    • HELECTRICITY
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    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3011Impedance
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S257/00Active solid-state devices, e.g. transistors, solid-state diodes
    • Y10S257/923Active solid-state devices, e.g. transistors, solid-state diodes with means to optimize electrical conductor current carrying capacity, e.g. particular conductor aspect ratio

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は集積回路の設計及び構成に係る。今日、集積回
路は、同−基板上に形成された、能動回路デバイス及び
受動回路インピーダンスを含む、極めて多数の素子を有
する。一般に、それらの素子は、例えば増幅回路、メモ
リ駆動回路、レジスタ、及び他の機能的サブ回路の如き
各機能群に集められている。本発明は、高回路密度を達
成するために、それらのサブ回路を半導体基板」二に効
率的に相互接続するための技術に係る。それは、導体路
が形成されている2つのレベルを有している型の技術で
ある。それらのレベルの一方は又、能動及び受動素子を
含むそしてそれらにより遮19iされており、他方のレ
ベルはそれらの素子にぶつからない異なるレベルにある
。本発明は又、前述の如き相互接続体とともに配置され
ている回路に動作電位を加えるための構成に係る。
[従来技術] 米国特許第3751720号明細書は、その様な回路基
板上の円形パターンを示しているが、それらは本質的に
単一の導体レベルしか有していない。米国特許第319
9002号明細書は、本発明の如き同心状の又は他のパ
ターンを有していない導体路を有する2つのレベルを用
いた相互接続を示している。米国特許第42951.4
9号明細11)°、及びI B M Technica
l Disclosure Bulletin、第18
巻、第5号、]−975月〕0月、第1510頁におけ
るに、 R’、にjngによる“Bay 5truct
ureFor Logj、c Cl+ ips”と題す
る論文は、本発明において開示されている如き同心状の
接地及び動作電圧路に概して似ている構成を有する接地
及び動作電圧路を示している。
[発明が祭′決しようとする問題点] 本発明の目的は、2つの導電レベルを有する基板上のス
ペースが節減されるように配置された導電接続体を提供
することである。
[問題点を解決するための手段] 本発明は、隣接するセルにおける回路素子と、」−記セ
ルを相互接続するための導電路の相互に離隔した第1及
び第2レベルとを有する固体集積回路において、」1記
セルは上記第ルベルを占有しているが第2レベルを実質
的に占有しておらず、」1記セルは少なくとも]、つの
曲折部を有する第2レベル上の概して同心状の導電路と
、上記第2レベル上の上記導電路に接続された上記第」
レベル上の概して直線的導電路とにより主として相互接
続されている、固体集積回路を提供する。
本発明によれば、2つの導電レベルを有する基板上のス
ペースが節減されるように、導電接続体が配置される。
本発明は、種々の寸法のマクロを有するチップに特に有
用である。そのようなマグロは典型的には、第1金属導
電レベル(Ml)の80%迄を占有している。本発明に
よれは、第2金属導電レベル(M2)lの接続路は、同
心状の環状パターンに配置され、基板の対角線において
直角の曲折部を有している。マクロ又はセル間の接続は
、Mifの近傍の接続路へのMll−の接続を含むが、
主としてM2」二に存在する。これは、Ml上の接続路
に要するスペースを減少させ、従って必要とされる基板
の寸法製減少させる。セル又はマクロの接続路は、導電
路M2に関して最適に配置されるように、同心的パター
ンを有している。
本発明は又、動作電圧及び接地電位を接続するための同
心的環状パターンを含み、従って前述の如く配置された
接続路と同心的なパターンを与える。その構成は、実質
的に中心に関して閉じたパターンである。
[実施例コ 本発明をその実施例について詳細に説明する前に、当技
術分野において用いられている用語について説明してお
く。
″セル″は、独立した一定の設計を有する回路構成をい
うために、当接的分野において用いられている用語であ
る。
″セル1′は、高密度に実装されており、従って回路を
経て通過する接続路を有さず、接続路を設ける能力が極
めて限定されている、サブ回路を定′i6するものとし
て理解されるべきである。それらのサブ回路は、fif
f車なAND又はOR論理回路等から相当に大きなグル
ープにわたる範囲を有している。
“マクロ″は、特に大きく、概して複雑なサブ回路のセ
ルをいうために、当技術分野において最近用いられるよ
うになった用語である。マグロは、データ直列化/非直
列化器の如き比較的小さい場合もあり、数予測のメモリ
位置を有するメモリ・バンクの如く極めて大きい場合も
ある。そのような各サブ回路は、他のサブ回路からの導
電路が上記回路を経て通ることができず、又は交差する
導電路のために極めて限定された通路しか設けられない
ように、物理的にコンパクトな設計を有していれば、マ
クロである。
勿論、マクロ回路は、他の回路からの導電路を受取るた
めに、概してそれらの周辺部l、こ、端子を設けられて
いる。それらの導電路は、そのマクロを基板上の他の回
路と一体化させる。同一の半導体基板上に動作可能に相
互接続された複数のマグロは、完成した1つの1チツプ
″を構成する。
マクロは、今日、当技術分野において標準的なものであ
り、複雑なデバイスを形成するために変更を加えずに他
のマクロと容易に結合させることができる。最適化され
た効率釣設H1の機能素子を構成するので、経済的に大
きな重要性を有している。特に回路素子を出来る限り高
密度に実装するように、各マクロの設計を完成するため
に、多大の努力が成されている。その設計は、如何なる
数の異なるチップにおいても用いられ、標準的集積回路
製造技術によって再現される。又、その設計は、単一の
チップ上に数千回にもわたって効率的に反復される。
セルは、それらのセルを相互接続する接続路のためのス
ペースが残されるように、チップ上に離隔さiシていな
ければならない。従来におけるチップ上のセルの構成は
、相互接続路を配置するコラ11を残している、個別設
計のパターンである。全てのセルが実質的に同一の寸法
である場合には、その相互接続構成は比較的効率的であ
る。
″マスタ・スライス″又は″ゲート・アレイ′″は、全
て同一寸法を有するセルのコラム構成のために一般に用
いられているもう1つの技術である。
“マスタ・イメージ″は、セルの高さが変化し、各コラ
ムは均一な幅を有するが、コラム毎に幅が変化する点を
除けば、マスク・スライスと同様なセルの構成をいうた
めに一般に用いられている用語である。コラムの幅に関
する制約のために、マスク・スライス及びマスク・イメ
ージのセルは、AND又はOR論理ブロックの如き、比
較的小さなサブ回路である。セルの境界が隣接しており
、セル内に交差路が設けられないので、典型的には、セ
ルを経て通る導電路は設【プられでいない。本発明は、
セルがマクロである場合に主に用いられるが、典型的な
マスク・スライス及びマスク・イメージの構成に有利に
用いられる。
基板上に集積回路が形成されるとき、基板は異なるレベ
ルにおいて異なる工程により処理さJしる。
それらのレベルは、相互に物理的に離隔し、概して平行
であるが、平行でなくてもよい。従って、それらのレベ
ルは必ずしも電気的に相互接続さJしておらず、電気的
に相互接続されるべきレベルは典型的には、接続されて
いる2つのレベルに対して垂直な接続路である貫通路髪
用いて相互接続される。そのような製造技術は今日用い
られている標準的技術である。本発明は、セルを相互接
続するために後述の1[1きパターンで、そのような従
来技術を用いている。
当業者により容易に理解されるように、導電性を得るた
め、1−ランジスタの障壁を得るため、又はトランジス
タを製造するためのレベルの数及び各レベルにおける活
性化の型は、初めの設計における選択の問題であり、そ
れらは様々に選択される。選択された技術を用いて多数
の集積回路を製造するために、主要な装置に大きな投資
が行なわ、ll、る。従って、レベルの数及び異なるレ
ベルにおける処理の型を含めて、初めに技術が選択され
ると、その選択さJした技術は、大量生産を行なうため
に組立てられた装置を用いて大量生産を達成するために
従わねばならない制約を与えることになる。
本発明は、用いらAしる技術の型によって限定さjtな
いが、セルの相互接続に関する場合には、2つの導電レ
ベルを有する技術に関連する。典型的には、その導電材
は金属である。そのような技術における導電レベルは回
路基板上の成る点から他の点への高導電路として金属又
は実質的宿価物を付着することを含む処理工程が用いら
れるレベルである。それらの導電路は、セル間の和H,
接続体であり、それらは集積化されていない大規模な回
路において、抵抗、1−ランジスタ、真空管及びリアク
ティブ・インピーダンスを他の素−r−と接に4aず・
 るワイヤと等価のものである。通常、セルは2つの金
属レベルの一方を、その金属レベルに(’I’−?′f
さjcている金属路とともに、占有する。こJbは、貫
通路が金属レベルから各マクロに達する必要をなくす。
第2金属レベルはセルには物理的に接剤+ぜず、勿論第
1金属レベル上の金属にも接触しない。
(典型的には、その技術は多結晶シリコンのレベルを含
む。多結晶シリコンのレベルは、成る種の接続体に用い
られるが、金属レベルよりも電気的に劣っており、従っ
てセルの長い和瓦接続体には用いられない。) 次に、図面を参照して、本発明をその実施例について詳
細に説明する。全ての添付図面ににいて、小さな四角形
は各々マクロを表わしている。集積化された基板」二の
通常のマクロ]のアレイは、第2図に示されている如く
、コラム間に平行な開放スペース3を有する平行なコラ
ム状に配置されている。スペース3は、該スペース3を
通る全てのワイヤを収容するように充分な幅を有してい
なければならない。マクロ1−及びスペース3における
ワイヤは同一の金属レベルを占有するので、それらの2
つの組合せは、各々に適したスペースを必要とする。
スペースを含む金属レベル(Ml)におけるワイヤは、
横1171路が設けられていなければ、スペースに平行
にしか配置されない。典型的には、マク【コは、ワイヤ
がレベルMIJ二において」1記スペースに垂直に配置
されない程、極めて高密度に実装されている。その方向
の相互接続体は第2金属レヘルM2に形成される。第1
金属レベルから第2金属レベルへの接続は、標準的な貫
通路により行なわれる。マクロの成るものはそれらの設
計の一部として交差接続路を有しているが、そのような
接続路は極めて限定された接続しか達成しない。
その従来技術における2点間の接続が第73図に示され
ている。Iノベルへ42は、図において実線により示さ
れている横方向の接続路又はワイヤ5を含む。レベルM
1は、前述の如く、マクロI (第2図)、及び第3図
において点線により示さAしている縦方向の接続路又は
ワイ−’、77を含む。
第3図においてX印により示されている2つの点9a及
び9bを接続するために、種々のルー1−が可能である
。しかしながら、いずれのルー1〜においても、縦方向
の接続路7が全てレベルM1]。
にあり、横方向の接続路5が全てレベルM2−1−にあ
るものとすると、その接続を形成するために必要な横方
向の接続路5の長さは、第3図に示さ71シている長さ
よりも短い筈はない。同様に、その接続を形成するため
に必要な縦方向の接続路7の長さも、第3図に示されて
いる長さよりも短くなり得ない。また一方又は他方の金
属レベル]−に過度に詰め込まれた領域が生じることも
ある。
本発明においては、主として縦方向接続路を用いるか又
は横方向接続路を用いるかを必要に応じて選釈すること
か可能である。特定の設R」の目的に合うように、横方
向接続路を縦方向接続路で、又はその反対に、効果的に
1面換えることができる。
レベルM]上に得られるスペースは相当に少ないので、
レベルM2を重点的に取扱うことによって、任意の最終
的設謂を有する基板の全体的寸法が著しく減少される。
本発明による曲折コラム溝底が第1図に示されている。
第1図は2全体的な回路設計方法により配置されたマク
ロ1を示している。各マクロ1の内容及びその厳密な構
成は、本発明の要旨を成すものではなく、設泪されてい
る回路の実際の形式及び内容に応じて変化する。典型的
には、マクロ1け概して矩形であり、殆どが略同様な寸
法を有している。例外的に大きなマクロ1は典型的には
中心に向ってよりも境界付近に配置されており、そこで
それらはスペースのかなりの部分にわたって延びること
ができる。
第1図の示されている如く、マクロ1はそのマクロ1を
横断する導電路が設けられない程、高密度に配置されて
いるが、それらのマクロは90゜の曲折部を有する平行
な接続路に配置されており、隣接するマクロ1の接続路
は全体として同心的である。特に第1図においては、マ
クロ1は、示されている四角形の基板の対角線迄垂直で
あり、その点から水平方向となるように、平行線状に配
置されている。
マクロ1は、標準的な回路技術による場合には、上記の
如く配置されておらず、前述の如くレベルM1を占有し
ている。従って、レベルM]の接続路は、マクロ1相互
間のスペース3に配置され、マクロ1の線に平行になる
。第3図の構成と異なり、本発明によるレベルM1の接
続路も90”の曲折部を有しており、全体として同心的
である。。
レベルM2の接続路は該接続路から離隔されているレベ
ルM1の接続路に対して垂直であり、従ってレベルM2
の接続路も同心的である。
本発明による曲折構成を用いた相互接続体が第4図に示
されている。レベルM1にお番づる接続路Lla及びl
lbが点線により示され、レベルM2における接続路1
3が実線により示されている。
この場合も、X印により示されている2つの点9J1及
び9bか付1互接続されるものとする。点9a及び9 
bの従来技術による4’D互接続は、第3図に示されて
いる如く、スペース3の長さの約1/2てあり、従って
相互接続体の部分及びマクロ1の部分の両方のために対
応した空間がレベルM1に残さAしる必要かある。しか
しなから、本発明においては、どのレベルを用いるかに
ついて選択が可能である。1ノヘルム42において、長
い接続路13か−j:、とじて用いらJしており、レベ
ルM1.J二において、九1い接続路11.I及び11
 +)が用いられている。第11図に示すルー1−のた
めに用いられる接続路の大部分かレベルM2に配置され
ていることが、第4図から明らかである。
更に11体的に説明すると、第4図に示さ、t−bでい
る11+ <、点グ〕aはマクロ1aへの接続点である
レベルM1.l:の接続路11aは、マクロ1aから、
1;・′A接続路1−L aに直角であるレベル量2上
の接続路13に対応する点迄の長さしかない。接続路1
3は貫通路15aによりレベルM1に接続さAしており
、従って接続路の大部分がレベルM2−4−に、IQる
。接続路13の他方の端部は、貫通路15 bにより該
接続路13に直角であるレベルM1]:のj妾続路11
bに接続されている。接続路111Jは。
接続路13から、マクロ1bへの接続点でアル点9b迄
の最も短い長さである。
相互接続されるべき特定のマクロ1か、上としてスペー
ス3を用いた配線が望ましいように、配置されていたど
しても、従来の如く完全に直線的でなく曲折してはいる
が、スペース3カ才1らJしる。
従って、本発明によって失なわ1しるものはなく。
ルートを選択し得ることは、よりコンバントな回路配置
の設剖における重要な手段を与える。
本発明の基本的概念は、単一の曲折点だけを必要として
いるのではないことを理解されたい。例えば、4つの部
分のパターンが第5図に示さAじCいる。第5図におけ
るマクロ1を有する基板は矩形であり、具体的には正方
形として示されている。
第5図におけるマクロ1のコラムは、2本の対角線に対
応する点において曲折している。これは。
どの金属レベルがマクロ1のより近い相互接続を与える
かに関する幅広い選択を可能にする。この構成は、4組
の曲折コラムのマクロ1を含み、各相のコラムは、第3
図に示されている如き単一の組に対応する。第5図にお
ける4組のコラムは、正方形全体において別個の等しい
部分を限定している。
例えば第5図に示されている如く、曲折コラムのパター
ンに配置されたマクロの場合には、それらのマクロに動
作電圧を供給するために適する改良された設計が問題と
なる。第6図は、動作電圧及び接地のための接続体を与
える、同心的な正方形より成る4、、Hy成を示してい
る。それらは、外部電力及び基準電位を受取る。第6図
の構成は、接地路又はハス22と交互に電力路又はバス
2oを有する、同心的正方形の構成である。バス20及
び22はレベルM2J二に存在する。それらは、マクロ
]の間の相互接続路13に平行且つ同心的である。従っ
て、第6図乃至第8図の同心的+I:、方形か、第5図
の4つの曲折コラムのパターンとともに用いられる。そ
れらの図は、バス20及び22の間の接続路工3の同心
的位置を例示するために、3本の接続路13及びそれら
に関連する貫通路15を示している。接続路13は、マ
クロの相互接続路として既に詳細に述べたものであり、
典型的には多数存在して、用いられ得るスペースの隻<
又は全てをうめる。バス20及び220間のスペースは
均一である必要はないが、バス20及び22により包囲
されているマクロ]−の最適条件に合致している。各接
地路22及び各電力路20の間のマクロ1は、貫通路に
より、最も近いバス20及び22に接続される。
第7図に示されている構成は、バス2o及び22を更に
有効にし、この場合には、バス20及び22の両方の垂
直な延長部20a及び22aか同心的構成内に用いられ
ている。延長部20a及び22aは、レベル量1上にあ
り、″給電″バスとして考えられている。そ九らは、貫
通路により、主要バス20及び22に接続されている。
それらの数は、用いられているマクロ1により主として
決定される、それらに対する需要に依存する。
電力ハス20及び接地バス22は、従来の如く、基板の
外部からの供給源に接続されねばならない。
そのようなノ1(板外部との接続は、少くとも2つの方
法で行なわれる。その1つの方法においては、第8図に
示されてる如く、1つの電力1〜ランク24及び1つの
接地1〜ランク26が、レベル量2上に、チップの端部
に垂直に配置されている。それらの2つのトランクは、
第8図に示されている如く、基板の一辺の中央に相互に
近接して配置させることかできる。そのような構成にお
いては、マクロ1を相互j〆続する接続路13がトラン
ク24又は26ど交差しないように配置されねばならな
い。第9図に示されているもう1つの方法はその問題を
除く。電力ハス20及び接地バス22は各4・、個々の
パッド28に接続さ九、各パンI〜28はチップ表面へ
の貫通路を4A成している。パッド2乏3は、基板の外
部の源に接続されている。電力バス20及び接地バス2
2は各々、個々のパン1−28を有し、従って第8図に
示されている如く他のバス20及び22と相互接続され
ていない。
電力バス20及び接地バス22の同心的配置は、バスが
配置されているレベルに応じて、バスがi\で上部から
下部へ向って配置され又は全て左かl゛)右へ向って配
置されている通常のバス構造体とは対照的に、両方のバ
スを完全に金属レベル上に設けると同時に、全てのマク
ロの取扱においてfM!通性を与えるという目的を充た
す。lid心的四角形は、通常のバスの配置においては
排除されるような、マクロ]並びに接続路11及び]3
の種々の幾何学的位置を可能にする。具体的にいえは、
同心的四角形は、前述の如く、曲折コラム構成をiiJ
能にする。従って、前述の如き電力バスの構成は、種々
の目的に有利であり、特に前述のIuきマクロ1間の相
互接続体の曲折コラムの配置に適している。
1つ以」二の電圧レベルが異なる電力バスに加えられる
場合には、接続路が、示されノー接続路の延長部におい
て同心的に相互接続される。
本発明において必要とされるスペースが最大限に減少さ
れるということを理論的に説明することによって、本発
明の利点及び実現される特長が明らかにされる。第5図
において、マクロ1を含む能動領域は、各辺が長さSの
正方形である。上記正方形の対角線により形成された各
三角形30、;32.34及び36はそ九らの各領域の
中心、従一つで三角形の頂点からS/(2・v′T)の
距離だけ離れそして三角形の2つの辺からS/(2・f
7)の距離だけrl((れている代表点38a、38b
、38 c及び38dを各々有している。
領域の中心、例えば38aは、三角形30の中心点であ
り、点;38aから」二角の小さな三角形の領域は三角
形30の全体の領域の半分に等しい。
小さい角度が45°であるので、両方の二角形の高さは
各々の底辺の半分になる。従って、点38dから81点
迄の小さな三角形の高さを又とすると、以下のようにな
る。
1 1 1 最適な改削のためには1例えば二角形30におけるマク
ロ1が、反対側の三角形34におけるマクロ1と相互接
続されずに、隣接する三角形32又は36におけるマク
ロ1と相互接続される。従って、レベルM21の全ての
相互接続体の加・E平均を表わす相互接続体の長さは、
三角形30における代表点38aから隣接する三角形3
2にJ9dる代表点38b又は3角形36にお(づる代
表点38d迄である。相互接続はレベルM2J二の直角
りご曲折した接続路13(第4図)によって行なわAし
る。従って、その長さは、S/(2・V2 ) + S
/ (2・r) =sVT=o、 707 S テli
+ル。
レベル量2上の接続路が高密度に実装されておリ、それ
らの接続路の丁度真下に来るように用5Nられているレ
ベルM1上の接続路の長さは極めて僅かであるものとす
ると、レベル量1上の重要な接続路は、平行スペース3
に沿って離隔されているマクロ1を接続するために直接
必要とされるものたけである。第5図の構成における平
行スペース3の長さの平均は、第2図の従来の構成にお
ける平行スペースの長さの半分である。2つの点が平行
スペースS3に沿って存在している場合、各点の代表的
位置は端部か63分の1の位置である。
従って、正方形全体における全ての相互接続体の長さは
、]/3Sである。曲折コラムを用いた場合には、コラ
13の平均は1/2Sである。従って、レベル量1上の
全ての相互接続体の加重平均は1/3・]/2・S=0
.167Sである。
これは、第2図及び第3図の従来の構成の場合と対比さ
れ、その従来の構成においては、両方のレベルM2及び
M1上の代表的接続体は0.3338でなければならな
い。
本発明に従って、レベルM1及びM2を充分に用いた場
合を仮定し、 Achip−全基板領域 A M 2−全しベルM2領域 (以下余白) AM1=全レベ全レベル域 1領域=全マクロ領域 Mdeローマクロ密度 に=導電路間に要する最少限のスペースに関する一定の
係数 であると定義すると、 Achip=AM 2 =AM 1 +AMAとなり、
それを置換えると、 ΔMA=AM2−AMI となる。
両頂をAchjPで割って、A M A / A ch
ipをMdenであるとみなすと、 ΔMA/Achip= (AM2−AMI)/Achi
p=Mden であり、−に記加重平均値を代入すると、Mdan= 
(0,707SK−0,167SK)/(0,7073
K)=0.764 となる。従って、正方形の能動領域の基板に対するマク
ロの理論的最適密度は76.4%である。
曲折コラム構成の場合のA chipは、従来の構成の
場合の対応する全基板領域よりも少ないことを定量的に
示すことができる。従って、 AMA=AM2−AMI であり、曲折コラム構成の場合の」−記加重平均値を代
入すると、 AMA (曲折コラム) = 0 、707S K −
0,167SK=0.54−8K Acbip(曲折コラム)=AMΔ+AMI= 0 、
54 S K +O,]67SK=0.707SK となる。従来の構成の場合も、 A chip (従来)=AMA+AMlとなり、AM
Aが曲折コラム構成の場合と同一であると仮定すると、 Achj、p(従来)=0.548十〇。333S=0
.873S となる。従って、従来のチップ上の密度はQ 、 54
S10.873S=0.61.9即ち61.9%である
。曲折コラム構成の場合の密度は、前述の如く、76.
4%である。従って、従来のチップの能動領域は、曲折
コラム構成を有する能動領域の場合よりも]、、235
倍大きい。
更に、実際の場合には、レベルM1は完全には用いら九
ない。垂直方向の接続路及び端部に近接する接続路は常
に細くされるように要求されているが、レベルM2には
必要でない。従って、実際の設計においては、更に大き
な寸法の差が予測される。理論的31算において無視さ
れた、レベルM11−に必要とされる他のスペースを考
慮に入れると、本発明の利点は更に大きくなる。
曲折コラム構成は、鋭角の角部又は不連続部分を有して
いない単一のバス上の平行なレジスタの延長部に、本来
的に適している。第10図は、典型的な従来のチップに
おける問題・を示している。
セル40は、各コラム42.44及び4G内の単一・ピ
ッ1〜・レジスタを構成している6コラム44及び46
におけるセル40は接続路48により接続されている。
各コラム42.44又は46の全体におけるセル40の
数は32個である。従って、接続路の数も32本であり
、各々が各コラム42.44及び46における1つのセ
ル4.0に関連している。従って、接続路48は、セル
40と通信する32ビツト・バスを構成する。
コラム42.44及び46の全体にわたる332ビツト
・セル40の数は極めて多い場合があり、チップにおけ
る1つのコラムの数登超えることかしばしばある。例え
ば、第10図に示さ第1.ている如く、接続路48はコ
ラム44を横断し、それからコラム46を横断せねばな
らない。第10図に示されている90°の曲折部は、そ
のような反転が重要なスペースを占めることを示してい
る。
第1j図は、第5図にお番プる通常の4つの部分の曲折
コラム構成とともに、同一のレジスタを示している。同
様な素子が第1−0図の場合と回し参照番号で示されて
いるfi32ピッ1〜のコラムにおいてセル40迄の接
続路48の長さを得るために何ら分離スペースを要さず
、接続路48はチップの能動領域の殆ど全体に延びるこ
とができる。
従来の構成においてレベルM2をレベルM1よりも重視
するように配置を選択することも、同様に本発明におい
て可能である。実際において、異なるレベルへの接続は
、本発明を用いてより容易に行なわれる。本発明によっ
て可能となったレベルの選択により達成される、より直
接的な接続体によって、性能特性も高められる。
本発明は、回路の設計に一般的に適用され、特定のセル
形式、トランジスタ技術、又は構成に限定されるもので
はないことを理解されたい。
[発明の効果コ 本発明によれは、2つの導電レベルを有する基板上のス
ペースが節減されるように配置された導電接続体が得ら
れる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による曲折コラム構成を示す図、第2図
は従来の基板上におけるマクロの配置を示す図、第23
図は従来の2点間の相互接続を示す図、第4図は曲折コ
ラムも可成における相互接続体を示す図、第5図は4つ
の曲折部を有する構成を示す図、第6図は動作電圧を供
給する接続路の構成を4(ず図、第7図は直角の延長部
を有する電力路の構成を示す図、第8図は電圧ベースへ
の1−ランク路の1つの構成を示す図、第9図は列部電
力への電圧ベースのもう1つの接続を示す図、第10図
は従来技術による延長されたデータ・バスを示す図、第
11図は本発明による延長されたデータ・バスを示す図
である。 ]、3− a、1b・・・・マクロ、3・・・・平行ス
ペース、5・・・・横方向接続路、7・・・・縦方向接
続路、9a、9b・・・・点、l i a、1 ]−1
3=−レベル量1上の接続路、13・;・・レベルM2
J−の接続路、1−5.1.5 a、15 b−・・・
貫通路、20−・−・電力路即ち電力バス、20a、2
2a・・・・直角の延長部、22・・・・接地路即ち接
地バス、24・・・・電力1〜ランク、26・・・・接
地トランク、28・・・パッド、30.32.34、;
36・・・・三角形、38a、38b、38c、38 
d ・・−代表ノ、′λ、/10−−セル、42.44
.46・・・・コラム、48・・・・接続路。 第3図 第4図 第7図 法 第9図 48 0 第11図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)隣接するセルに於ける回路素子並びに上記セルを
    相互接続するための導電路の相互に離隔した第1及び第
    2レベルを有する集積回路であって、上記セルが上記第
    ルベルを占有しているが第2レベルを実質的に占有して
    いない事並びに上記セルが少くとも1つの曲折部を有す
    る第2レベル上の全体として同心舎戻弘電路と、上記第
    2レベル」二の上記導電路に接続された上記第2レベル
    上の
JP59166678A 1983-09-16 1984-08-10 固体集積回路 Granted JPS6066833A (ja)

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US06/533,383 US4575744A (en) 1983-09-16 1983-09-16 Interconnection of elements on integrated circuit substrate
US533383 1983-09-16

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Publication Number Publication Date
JPS6066833A true JPS6066833A (ja) 1985-04-17
JPH0224020B2 JPH0224020B2 (ja) 1990-05-28

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ID=24125725

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EP (1) EP0135019B1 (ja)
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4858175A (en) * 1984-09-29 1989-08-15 Kabushiki Kaisha Toshiba Monolithic semi-custom IC having standard LSI sections and coupling gate array sections
US4731643A (en) * 1985-10-21 1988-03-15 International Business Machines Corporation Logic-circuit layout for large-scale integrated circuits
US4956602A (en) * 1989-02-14 1990-09-11 Amber Engineering, Inc. Wafer scale testing of redundant integrated circuit dies
US5068715A (en) * 1990-06-29 1991-11-26 Digital Equipment Corporation High-power, high-performance integrated circuit chip package
JP2855975B2 (ja) * 1992-07-06 1999-02-10 富士通株式会社 半導体集積回路
US5490282A (en) * 1992-12-08 1996-02-06 International Business Machines Corporation Interface having serializer including oscillator operating at first frequency and deserializer including oscillator operating at second frequency equals half first frequency for minimizing frequency interference
US6587896B1 (en) * 1998-02-27 2003-07-01 Micron Technology, Inc. Impedance matching device for high speed memory bus
JP4330676B2 (ja) * 1998-08-17 2009-09-16 株式会社東芝 半導体集積回路

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53110487A (en) * 1977-03-09 1978-09-27 Nec Corp Wiring structural body

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3199002A (en) * 1961-04-17 1965-08-03 Fairchild Camera Instr Co Solid-state circuit with crossing leads and method for making the same
US3795972A (en) * 1971-12-09 1974-03-12 Hughes Aircraft Co Integrated circuit interconnections by pad relocation
US3751720A (en) * 1971-12-20 1973-08-07 Ibm Radially oriented monolithic circuit masterslice
US3808475A (en) * 1972-07-10 1974-04-30 Amdahl Corp Lsi chip construction and method
US3795845A (en) * 1972-12-26 1974-03-05 Ibm Semiconductor chip having connecting pads arranged in a non-orthogonal array
US4295149A (en) * 1978-12-29 1981-10-13 International Business Machines Corporation Master image chip organization technique or method
US4287571A (en) * 1979-09-11 1981-09-01 International Business Machines Corporation High density transistor arrays
DE3276284D1 (en) * 1981-09-10 1987-06-11 Fujitsu Ltd Semiconductor integrated circuit comprising a semiconductor substrate and interconnecting layers

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53110487A (en) * 1977-03-09 1978-09-27 Nec Corp Wiring structural body

Also Published As

Publication number Publication date
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JPH0224020B2 (ja) 1990-05-28
EP0135019A2 (en) 1985-03-27
EP0135019A3 (en) 1987-01-07
EP0135019B1 (en) 1991-11-27

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