JPS60646Y2 - 流量調整装置

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【考案の詳細な説明】この考案は流体圧を利用して所期の流量をうる流量調整
装置、特にガスクロマトグラフのキャリアガスの流量の
調整に適するものに関する。

ガスクロマトグラフにあっては、検出器の種類に応じて
、種類の異なるキャリアガスを選択して使用するが、従
来から第１図の流量調整装置が使用されている。

しかしなが゛ら、この従来のものはキャリアガスが流量
調整装置内にガスが残留し、キャリアガスを変更する際
、異種のガスが混入する不都合があった。

すなわち、図面において一定の圧力に調圧されたガスを
入口１に加えると、ガスはただちにダイヤフラム２の一
方の室３へ流入し、ダイヤフラム２に圧力を加える。

他方、入口１に加えられたガスは分岐された流路に介設
した低抗管４を通ってダイヤフラム２の他の室５へ流入
するが、この圧力は低抗管４によって圧力損失を受け、
室３よりも低くなる。

この比差をおぎなうように２個のバネ６．７ででダイヤ
フラム２を支えておくと、低抗管４を通って流れてくる
ガスによって室５の圧力が上昇し、ある時点をこえると
ダイヤフラム２て押しあっているばね６，７と圧力とが
平衡し、それ以後は室５の圧力が勝ってダイヤフラム２
を室３側へ持ちあげる。

このダイヤフラム２には弁座８が取りつけてあり、通常
は差圧にもとづくダイヤフラム２の変位により弁９を閉
じているが、ダイヤフラム２が上昇することによって、
この弁９が開く。

この弁９の下流側は室５よりも圧力が低いので、室５の
ガスがこの弁９を通って出口１０から流出し、室５の圧
力は減少する。

室５の圧力の減少によってダイヤフラム２が下降し、弁
９が閉じられ、引き続き低抗管４を通ってガスが流入し
て室５の圧力が上昇すると再び弁９が開かれる。

ばね６，７の力をつまみ１１によって調節しておくと低
抗管４で発生する圧力損失の分だけダイヤフラム２の上
下め比差が常に一定に保たれる。

すなわち一定の温度で圧力損失を一定とすればガス流量
は一定となり、出口１０以降の圧力が変動してもガス流
量は一定となる。

しかしながら、図面に示されているように室３はガス流
路が完全な袋小路となっており、入口１から流入したガ
スは、供給をたっても残留上つぎに使用されるガスと混
合し、徐々に低抗管４を経て出口１０から流れ出て、ガ
スクロマトグラフではキャリアガス成分を不純にする。

この考案の上記の不都合を解消した流量調整装置を提供
せんとするもので、つぎにこの考案の一実施例について
詳述する。

第２図はこの考案の一実施例の流量調整装置の説明断面
図で第１図と共通の部分には同−付方が用いである。

第１図の低抗管４をこの考案のものでは、ダイヤフラム
２に設けて両室３，５を連通すると共にこの低抗管４′
の下端に弁座８が取りつけである。

第３図は第２図の低抗管４′と弁座８との部分を拡大し
て示してあり、低抗管を通過したガスは側面の孔から室
５へ流れる。

この考案のものは、ガス室３から室５へ低抗管４′を介
して常に流通し、従来のもののように室３が袋小路で、
そこにガスが残留るようなことがない。

なお、上記の実施例では両室をダイヤフラムによって仕
切ったが、これに限定されないことは勿論である。

この考案の流量調整装置は、袋小路になる室の構造を無
くし、ガスの流路上に高圧側を構成して流入ガスが残留
することがなく、低抗管が調整装置内に完全に収納され
ているので小形で構造の簡略化が図れるなどの利点を有
するものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の流量調整装置の説明断面図、第２図はこ
の考案の一実施例の説明断面図、第３図は第２図の要部
説明断面図である。１：入口、２：可撓性隔壁（ダイヤフラム）、３：室、
４．４’：低抗管、５：室、８：弁座、９：弁。

【実用新案登録請求の範囲】