JPS6061745A - Peeling development method - Google Patents

Peeling development method

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JPS6061745A
JPS6061745A JP17007283A JP17007283A JPS6061745A JP S6061745 A JPS6061745 A JP S6061745A JP 17007283 A JP17007283 A JP 17007283A JP 17007283 A JP17007283 A JP 17007283A JP S6061745 A JPS6061745 A JP S6061745A
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JP
Japan
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peeling
support
base
substrate
image
Prior art date
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Pending
Application number
JP17007283A
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Japanese (ja)
Inventor
Okimichi Kaneko
金子 興道
Masao Higami
火神 正雄
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Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Electric Industrial Co Ltd filed Critical Nitto Electric Industrial Co Ltd
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Publication of JPS6061745A publication Critical patent/JPS6061745A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/34Imagewise removal by selective transfer, e.g. peeling away
    • G03F7/343Lamination or delamination methods or apparatus for photolitographic photosensitive material

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PURPOSE:To enhance image reproducibility by specifying thicknesses of the base and the adhesive layer of an adhesive tape in order to form an image through a peeling development method, applying the adhesive tape to all the region on the peeling courses, anc executing peeling in this state. CONSTITUTION:An image forming material composed of a transparent support and a photopolymerizable layer is laminated on the surface of an image forming base, and after the exposure to the light image of a pattern having many corners, said image forming material is peeled from the base with a roll, leaving the layer of the exposed photopolymerized parts on the base. Adhesive tape each composed of a 150mum thick base and a 5-50mum thick adhesive layer are applied to all the region of the peeling courses of the supporting surface, and the peeling is executed in this state. The support thus treated is made not flexible at all by peeling, and it appears like a rigid sheet, so the peeling course at the corner parts causes no delay but keeps straight, and the reproducibility of the image can be enhanced without leaving any unexposed corner parts of the base.

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は印刷回路等の製造の用に供される剥離現像方
法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a peeling and developing method used for manufacturing printed circuits and the like.

印刷回路の製造等のために、画像形成用基板の表面に透
明支持体とこの支持体上に被着された光重合性組成物層
からなる画像形成材料の上記光重合性組成物層側を粘着
し、この光重合性組成物層を画像状に露光して硬化領域
を形成して、さらに必要に応じて上記画像形成材料を加
熱した後、上記支持体を基板から剥離して該基板」二に
画像状のレジストを形成する画像形成手段かすでに案出
されている。
For the production of printed circuits, etc., the photopolymerizable composition layer side of an image forming material consisting of a transparent support and a photopolymerizable composition layer coated on this support is placed on the surface of an image forming substrate. This photopolymerizable composition layer is imagewise exposed to light to form a cured area, and if necessary, the image-forming material is heated, and then the support is peeled from the substrate. Second, an image forming means for forming an image-like resist has already been devised.

一方、上記のような剥離現像型の画像形成材の剥離方法
も種々提案されている。そのひとつの方法として支持体
とともに基板上から剥離される未露光部分を圧着・剥離
ロールとニップロールで挾みながら上記基板上からひき
剥がす方法が提案されている。
On the other hand, various methods for peeling off image forming materials of the peel development type described above have also been proposed. As one method, a method has been proposed in which the unexposed portion to be peeled off from the substrate along with the support is separated from the substrate while being sandwiched between a pressure/peel roll and a nip roll.

この方法においてはさらに、基板の画側の支持体に中挟
の粘着テープを順次貼りつけてこの粘着テープとともに
ひき剥がす方法、支持体のコーナ一部にかかるように中
挟の粘着テープを順次貼りつけてこのコーナ一部から剥
離する方法、基板」二におけるフィルム状支持体の一端
に基板より突出した剥離端片をいわゆる耳テープとして
設け、この剥離端片を引張ることにより剥離端片から連
続して上記支持体を剥離する方法などがある。
In this method, there are two methods: one in which adhesive tapes are attached in sequence to the support on the image side of the board and then peeled off together with the adhesive tape; In this method, a peelable edge piece protruding from the substrate is provided as a so-called ear tape at one end of the film-like support of the substrate, and by pulling this peelable edge piece, the peelable edge piece is continued from the peelable edge piece. There is a method of peeling off the above-mentioned support.

しかしながら、これらの方法ではいずれも剥離中の基板
の変動のために画像再現性に欠ける場合がある。とくに
第1図に示すようなコーナ一部の多いパターン10を形
成する場合には、コーナ一部における剥離方向(矢印a
方向)の前縁側に未露光部の取り残し片11が残存しや
すくなるという問題がある。
However, all of these methods may lack image reproducibility due to fluctuations in the substrate during peeling. In particular, when forming a pattern 10 with many corner parts as shown in FIG.
There is a problem in that the unexposed portion 11 tends to remain on the leading edge side in the direction (direction).

この問題について、基板上におけるフィルム状支持体の
一端に基板より突出した剥離端片を設けてこの剥離片を
引張ることにより剥離する場合、を例として、第2図(
5)、 (B) 、 (C1をもとにさらに詳しく説明
する。
Regarding this problem, we will take as an example a case where a peelable end piece protruding from the substrate is provided at one end of a film-like support on a substrate and peeling is performed by pulling this peelable piece, as shown in FIG.
5), (B), (This will be explained in more detail based on C1.

同図において、1は画像形成用基板、2は上記基板1の
主面に接着された画像形成材料層であり、これは光重合
性組成物層3およびこの層3を支持する透明支持体4か
らなる。5は圧着・剥離ロール、6はニップロール、R
は剥離進行線である。
In the figure, 1 is an image forming substrate, 2 is an image forming material layer adhered to the main surface of the substrate 1, and this includes a photopolymerizable composition layer 3 and a transparent support 4 supporting this layer 3. Consisting of 5 is a pressure bonding/peeling roll, 6 is a nip roll, R
is the peeling progression line.

上記両ロール5,6による剥離開始時においては、同図
(3)のように未露光部分3bとともに支持体4が上記
圧着・剥離ロール5の局面に沿って剥がされる。
When the two rolls 5 and 6 start peeling, the support 4 is peeled off along with the unexposed portion 3b along the surface of the pressure/peeling roll 5, as shown in FIG. 3(3).

しかしながら、支持体4に対する剥離力は光重合性組成
物層3の露光部3aと未露光部31)との基板1に対す
る接着力の差によって変化する。この剥離力が急に大き
くなると、支持体がスリップを起こし、このため第1図
(I3)に示すように支持体4にたるみ部分が生じ、上
記支持体4は上記圧着・剥離ロール5の周面に沿わなく
なる。この場合、上記支持体4等の剥離角度は支持体の
厚みや剛性、圧着・剥離ロール5とニップロール6にか
けられたトルクと剥離力とのバランスなどによって決定
され、したがって極端な場合には、両ロール5゜6によ
る挾持位置Pと基板1上の剥離進行線Rの距離が最も短
いところ、すなわち上記支持体4が基板1の主面に対し
て90°の角度で剥離される位置まで支持体4が引張ら
れるため、上記基板1が黒矢印方向へ変移し、以後同図
(C)に示すような状態で剥離が行なわれることになる
。。
However, the peeling force against the support 4 changes depending on the difference in adhesive strength between the exposed portion 3a and the unexposed portion 31) of the photopolymerizable composition layer 3 and the substrate 1. When this peeling force suddenly increases, the support body slips, resulting in a slack portion in the support body 4 as shown in FIG. 1 (I3). It won't follow the surface. In this case, the peeling angle of the support 4 etc. is determined by the thickness and rigidity of the support, the balance between the torque and peeling force applied to the pressure/peel roll 5 and the nip roll 6, etc. Therefore, in extreme cases, both The support is moved to the point where the distance between the clamping position P by the rolls 5°6 and the peeling progression line R on the substrate 1 is the shortest, that is, the position where the support 4 is peeled off at an angle of 90° to the main surface of the substrate 1. 4 is pulled, the substrate 1 is displaced in the direction of the black arrow, and thereafter peeling is performed in the state shown in FIG. 4(C). .

このように支持体4にたるみが生じた状態で剥離が行な
われる場合に基板上方より見た剥離進行線の状態を第3
図に示す。同図において、1は画像形成用基板、4は支
持体、10は露光部からなるパターン、11は未露光部
の取り残し片、Rは剥離進行線である。同図に示すよう
に、剥離進行線Rは直線とならず、コーナ一部Sにおい
て遅れを生ずる。この遅れは透明支持体力月0〜30 
pmと薄く可とう性を有しているために化上るもので、
この遅れと支持体のたるみによる剥離角度の変化によっ
て、コーナ一部Sの未露光部にはこの未露光部を基板よ
り面状に持ち上けようとする剥離力がかかる。
When peeling is performed with the support 4 sagging in this way, the state of the peeling progression line seen from above the substrate is shown in the third diagram.
As shown in the figure. In the figure, 1 is an image forming substrate, 4 is a support, 10 is a pattern consisting of exposed areas, 11 is a piece left behind in an unexposed area, and R is a peeling progress line. As shown in the figure, the peeling progression line R is not a straight line, and there is a delay at a corner S. This delay is transparent support strength month 0-30
This is because it is thin and flexible as pm,
Due to this delay and a change in the peeling angle due to the sagging of the support, a peeling force is applied to the unexposed portion of the corner portion S to lift the unexposed portion planarly above the substrate.

一般に、この種の画像形成材料では、光重合性組成物層
の凝集力を比較的小さく設定して支持体の基板に対する
どんな角度からでも上記光重合性組成物層の未露光部を
露光部から容易に分断できるようにしである。しかしこ
れは逆に上記分断が光重合性組成物層における未露光部
のどんな部位からでも生じて画線の乱れを形成しゃすい
ことであり、とくに上記のように剥離力が加わる場合に
は未露光部が基板から剥離するよりもむしろ未露光部の
凝集破壊が起こり、コーナ一部に取り残し片が残存する
ことになる。
Generally, in this type of image forming material, the cohesive force of the photopolymerizable composition layer is set to be relatively small so that the unexposed area of the photopolymerizable composition layer can be separated from the exposed area from any angle with respect to the substrate of the support. It is designed so that it can be easily separated. However, on the contrary, the above-mentioned division may occur from any part of the unexposed area of the photopolymerizable composition layer, resulting in a disordered image, and this is especially true when a peeling force is applied as described above. Rather than the exposed portion peeling off from the substrate, cohesive failure occurs in the unexposed portion, leaving pieces left behind at some corners.

このような取り残し片が生じるのは、中挟の粘着テープ
を貼りつけて剥離を行なった場合でも同様である。すな
わち、粘着テープが部分的にしか貼着されていないため
であると同時に、従来このような剥離用に使用されてい
る粘着テープは乍記のような剥離進行線の遅れを生じさ
せないだけの剛性を有するものではないためである。
The same phenomenon occurs when such a piece is left behind even when an intermediate adhesive tape is applied and then peeled off. In other words, this is because the adhesive tape is only partially attached, and at the same time, the adhesive tapes conventionally used for such peeling are not rigid enough to cause the delay in the peeling progress line as mentioned above. This is because it does not have

この発明は、コーナ一部の多いパターンを形成する場合
において上記のような欠点を解消するためになされたも
のである。すなわち、この発明は、画像を形成すべき基
板の表面に、透明支持体および光重合性組成物層からな
る画像形成材料を積層し、コーナ一部の多いパターン状
の露光を行なった後、圧着・剥離ロールとニップロール
とにより上記支持体と未露光の光重合性組成物層を」二
記基板から剥離して、露光された光重合性組成物層を上
記基板上に残存させる剥離現像方法において、上記剥離
を、基材の厚みが10〜150μmで粘着剤層の厚みが
5〜50μmである粘着テープが支持体表面における少
なくとも剥離進行線上の全域にわたって貼着された状態
で行なうことを特徴とする剥離現像方法に係るものであ
る。
The present invention was made in order to eliminate the above-mentioned drawbacks when forming a pattern with many corners. That is, in this invention, an image forming material consisting of a transparent support and a photopolymerizable composition layer is laminated on the surface of a substrate on which an image is to be formed, and after exposure is performed in a pattern with many corners, pressure bonding is performed. - A peeling development method in which the support and the unexposed photopolymerizable composition layer are peeled off from the substrate described in "2" using a peeling roll and a nip roll, and the exposed photopolymerizable composition layer remains on the substrate. , characterized in that the above peeling is carried out with an adhesive tape having a base material thickness of 10 to 150 μm and an adhesive layer thickness of 5 to 50 μm attached over at least the entire area on the peel progression line on the surface of the support. This relates to a peeling development method.

この発明の方法によると、上記粘着テープが少なくとも
剥離進行線上の全域にわたって貼り付けられた支持体は
、剥離時には支持体自身の可とう性を示すことがなく、
見かけ上剛性を有するシートとなるため、剥離進行線は
コーナ一部においても遅れを生じることなく直線となり
、コーナ一部の未露光部が基板上に取り残されることが
全くない。
According to the method of the present invention, the support to which the adhesive tape is attached at least over the entire area on the peeling progression line does not exhibit its own flexibility during peeling.
Since the sheet has apparent rigidity, the peeling progression line becomes a straight line without any delay even at the corners, and no unexposed portions at the corners are left behind on the substrate.

この発明の方法において使用される粘着テープは、基材
の厚み力月0〜150 pms好まじくは50〜l 5
0 、Ilmである。この厚みが10μm未満では剥離
時に必要な剛性を得られず、また150μmを超えると
剛性が大きすぎてロールに沿わせ難くな暮ため好ましく
ない。この基材の材質としてはクラフト紙などの紙、セ
ロハン、ポリエステル、ポリプロピレン、ポリアセテー
ト、ポリイミド、ポリ四フッ化エチレン、ポリフッ化ビ
ニル、ポリカーボネート等のプラスチックフィルムなど
が好ましい。また、このテープの粘着剤層の厚みは5〜
50μm1好ましくは20〜50/Imである。
The adhesive tape used in the method of this invention has a base material thickness of 0 to 150 pms, preferably 50 to 150 pm.
0, Ilm. If the thickness is less than 10 μm, it is not possible to obtain the necessary rigidity during peeling, and if it exceeds 150 μm, the rigidity is too large and it becomes difficult to follow the roll, which is not preferable. Preferred materials for this base material include paper such as kraft paper, and plastic films such as cellophane, polyester, polypropylene, polyacetate, polyimide, polytetrafluoroethylene, polyvinyl fluoride, and polycarbonate. In addition, the thickness of the adhesive layer of this tape is 5~
50 μm, preferably 20 to 50/Im.

この厚みが5pm未満では、粘着テープの粘着力が、未
露光部の画像形成すべき基板表面tこ対する接着力より
も低くなり、この粘着テープが透明支持体とともに未露
光部を基板より剥すことができなくなるため好ましくな
い。
If this thickness is less than 5 pm, the adhesive strength of the adhesive tape will be lower than the adhesive strength of the unexposed area to the substrate surface on which an image is to be formed, and the adhesive tape may peel off the unexposed area from the substrate together with the transparent support. This is not preferable because it makes it impossible to do so.

また、この厚みが50μ7nを超えると粘着テープの粘
着剤層の凝集力が低下し、剥離しようとする隙に粘着層
と支持体との間がずれやすくなる。
Moreover, if this thickness exceeds 50 μ7n, the cohesive force of the adhesive layer of the adhesive tape decreases, and the adhesive layer and the support are likely to shift during the gap when peeling is attempted.

そのため、従来法の欠点と同様にφ+S進行線は直線と
ならず、コーナ一部において遅れを生じ、コーナ一部の
未露光部が取れ残りやすくなるため好ましくない。
Therefore, as with the drawbacks of the conventional method, the φ+S progression line is not a straight line, and there is a delay at some corners, which is undesirable because unexposed areas at some corners are likely to remain.

この粘着剤層を形成するために使用する粘着剤としては
、天然ゴムおよびその誘導1体、種々の合成ゴムもしく
はこれらのゴムをブレンドしたものに粘着付与剤、軟化
剤などを加えたゴム系粘着剤、ブチルアクリレート、2
−エチルへキシルアクリレート、その他のアクリルモノ
マーなどからなる共重合体を主成分とし、必要に応じて
架橋剤などを加えたアクリル系粘着剤などが好ましい。
The adhesive used to form this adhesive layer is a rubber adhesive made by adding a tackifier, a softener, etc. to natural rubber or one of its derivatives, various synthetic rubbers, or a blend of these rubbers. agent, butyl acrylate, 2
- Acrylic pressure-sensitive adhesives containing a copolymer of ethylhexyl acrylate, other acrylic monomers, etc. as a main component, and optionally containing a crosslinking agent or the like are preferred.

また、この粘着テープの粘着力は180°ピ一リング粘
着力が通常600〜3,000g1/25問巾程度が好
ましい。
The adhesive strength of this adhesive tape is preferably 180° peeling adhesive strength of about 600 to 3,000 g 1/25 width.

このような粘着テープの具体例としては、例えば日東電
気工業社製商品名産718クラフト粘着テープ、lに、
375ダンプロンテープなどが挙げ、られる。なお、使
用される粘着テープの巾は剥離進行線上における支持体
の中以上とする。
Specific examples of such adhesive tapes include, for example, 718 Kraft Adhesive Tape, manufactured by Nitto Electric Industry Co., Ltd.
375 Danpron tape etc. are mentioned. Note that the width of the adhesive tape used is equal to or larger than the width of the support on the peeling progression line.

この発明の方法においては、この粘着テープが露光後の
支持体の剥離時に、支持体表面の少なくとも剥離進行線
上の全域に貼着されて、この粘着テープと支持体とが一
体化された状態で剥離を行なう。
In the method of the present invention, when the support is peeled off after exposure, the adhesive tape is stuck to at least the entire area on the peeling progression line of the support surface, and the adhesive tape and the support are integrated. Perform peeling.

これを図面に基づいて説明すると、第4図は露光後の支
持体の全面にあらかじめ上記粘着テープ7をロールラミ
ネート法などの通常の方法により貼着しておき、ついで
剥離を行なうものである。
To explain this based on the drawings, FIG. 4 shows that the above-mentioned adhesive tape 7 is applied in advance to the entire surface of the support after exposure by a conventional method such as roll lamination, and then peeled off.

同図において8は粘着テープの基材、9は粘着剤層であ
る。また、第5図は、上記粘着テープ7を順次支持体表
面に貼着しながら剥離を行うものであり、これらのうち
いずれの方法を採用してもよい。なお、第4図および第
5図は支持体のたるみの程度が第2図(B)に相当する
ものであるが、この発明の方法は同図(A) 、 (C
1に相当する場合であっても良好に剥離がなされるもの
である。
In the figure, 8 is a base material of the adhesive tape, and 9 is an adhesive layer. Further, in FIG. 5, the adhesive tape 7 is sequentially attached to the surface of the support and peeled off, and any of these methods may be employed. 4 and 5, the degree of sagging of the support body corresponds to that in FIG.
Even in cases corresponding to No. 1, peeling can be performed satisfactorily.

なお、上記各側では基板の片面にだけ画像形成材料を積
層した場合を示したが、この発明の方法は基板の両面に
画像形成材料を積層した場合にも適用できる。
Note that although the case where the image forming material is laminated on only one side of the substrate is shown in each side above, the method of the present invention can also be applied to the case where the image forming material is laminated on both sides of the substrate.

以下に、この発明の実施例を記載する。Examples of this invention will be described below.

実施例 画像形成材料として日東電気工業社製商品名「ネオドロ
ック−T」を使用し、2ooμmの配線パターンで第1
図に示すようなコーナ一部の多いフォトマスクを使用し
て露光を行なったのち、支持体の全面に日東電気工業社
製商品名「X 718クラフト粘着テープ」を貼着した
。ついで第4図に示すように剥離を行なったところ、1
0枚中いずれにも未露光部の取れ残りが生じることなく
鮮明な画像が得られた。
EXAMPLE As an image forming material, "Neodorock-T" manufactured by Nitto Electric Industry Co., Ltd. was used.
After exposure was carried out using a photomask with many corners as shown in the figure, "X 718 Kraft Adhesive Tape" (trade name, manufactured by Nitto Electric Industries, Ltd.) was adhered to the entire surface of the support. Then, when peeling was performed as shown in Figure 4, 1
Clear images were obtained with no unexposed areas remaining on any of the 0 sheets.

これに対して、上記粘着テープを貼着することなく第2
図(B)または(C)の状態で剥離を行なったところ1
0枚中5〜6枚についてコーナ一部分の取れ残りが発生
した。
On the other hand, the second one without pasting the above adhesive tape
When peeling was performed in the state shown in figure (B) or (C) 1
For 5 to 6 out of 0 sheets, a portion of the corner remained unremoved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はパターンのコーナ一部における未露光部の取れ
残りについての説明図、第2図(A) 、 (B) 、
(C)は従来の剥離現像方法を示す断面図、第3図は前
記の方法を示す平面図、第4図および第5図はこの発明
の剥離現像方法を示す断面図である61・・基板、2・
画像形成材料、3−光重合性組成物層、3a・露光部、
3b・・未露光部、4 透明支持体、5 ・圧着・剥離
ロール、6 ニップロール、7・・粘着テープ、8・・
・基祠、9・・・粘着剤層、R・剥離進行線特許出願人
 日東電気工業株式会社
Figure 1 is an explanatory diagram of unexposed areas left in some corners of the pattern, Figures 2 (A), (B),
(C) is a cross-sectional view showing the conventional peeling development method, FIG. 3 is a plan view showing the above method, and FIGS. 4 and 5 are cross-sectional views showing the peeling developing method of the present invention. 61...Substrate , 2・
Image forming material, 3-photopolymerizable composition layer, 3a/exposed area,
3b...unexposed area, 4 transparent support, 5 pressure/peel roll, 6 nip roll, 7 adhesive tape, 8...
・Basic shrine, 9...Adhesive layer, R・Peeling progression line Patent applicant Nitto Electric Industry Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)画像を形成すべき基板の表面に、透明支持体およ
び光重合性組成物層からなる画像形成材料を積層し、コ
ーナ一部の多いパターン状の露光を行なった後、圧着・
剥離ロールとニップロールとにより上記支持体と未露光
の光重合性組成物層を上記基板から剥離して、露光され
た光重合性組成物層を上記基板上に残存させる剥離現像
方法において、上記剥離を、基材の厚みが10〜150
 pmで粘着剤層の厚みが5〜50μmである粘着テ、
−プが支持体表面における少なくとも剥離進行線上の全
域にわたって貼着された状態で行なうことを特徴とする
剥離現像方法。
(1) An image forming material consisting of a transparent support and a photopolymerizable composition layer is laminated on the surface of a substrate on which an image is to be formed, and after exposure in a pattern with many corners,
In a peeling development method in which the support and the unexposed photopolymerizable composition layer are peeled from the substrate using a peeling roll and a nip roll, and the exposed photopolymerizable composition layer remains on the substrate, the peeling , the thickness of the base material is 10 to 150
Adhesive tape whose thickness of the adhesive layer is 5 to 50 μm in pm,
- A peeling and developing method characterized in that the peeling and developing method is carried out in a state where the film is adhered over at least the entire area on the peeling progression line on the surface of the support.
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