JPS6057563B2 - 偏光板の製造方法 - Google Patents

偏光板の製造方法

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JPS6057563B2
JPS6057563B2 JP7160878A JP7160878A JPS6057563B2 JP S6057563 B2 JPS6057563 B2 JP S6057563B2 JP 7160878 A JP7160878 A JP 7160878A JP 7160878 A JP7160878 A JP 7160878A JP S6057563 B2 JPS6057563 B2 JP S6057563B2
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JP
Japan
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polarizing plate
film
epoxy
polarizer
polyamide resin
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JP7160878A
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裕司 井上
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Suwa Seikosha KK
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Suwa Seikosha KK
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は偏光板の製造方法に関するものであり、特に
偏光子に液状有機化合物を塗布し、離型用有機高分子フ
ィルムとドライラミネーション方式でラミネートして液
状有機化合物を物理的化学的に固化した後、離型用有機
高分子フィルムをはく離することによつて偏光板を得る
ことを特徴とするものである。
従来から用いられている偏光子はPVA(ポリビニル
アルコール)フィルムが主であり、これを延伸して12
(ヨウ素分子)を含浸させたものであるが、PVAは6
0℃の水に溶け、常温の水に対しても吸水性、透水性な
どの耐水性が悪く、また酸、アルカリに溶けるなどの耐
薬品性の悪さなどの点から何らかの保護フィルムによつ
て偏光子を保護する必要がある。
保護フィルムとして要求される条件として1 旅先性が
ないこと(等方性であること)2 耐水性、耐薬品性が
良いことなどがあり、1の条件を満たすフィルムとして
従来から三酢酸セルロース、二酢酸セルロース、醋酸セ
ルロースなどのセルロース系高分子フィルムが用いられ
てきた。
しカルこれらセルロース系フィルムはアセトン、酢酸メ
チル、エタノール、クロロホルム等に溶解又は白化し、
耐水性に関してもPVAよりは良いという程度でしかな
く必ずしも2の条件を十分に満足できるものではない。
また保護フィルムは偏光子の支持体としての機能も合わ
せもたねばならないので、極端に薄い保護フ”イルムで
ラミネートすると偏光板がいわゆる゛’腰くだけ’’の
状態となり実用的でなくなるため偏光板の超薄型化には
限界がある。などの欠点を有していた。 本発明による
偏光板の製造方法は偏光子(l。
含浸PVA延伸フィルム)の保護皮膜として偏光子両面
にエポキシ−ポリアミド樹脂等のラミネート剤を均一に
塗布した後、ポリエチレン、フッ素樹脂、セルロース系
樹脂などのラミネート剤と接着しないフィルムをドライ
ラミネーション方式でラ ミネートし、ラミネート剤を
硬化させた後、上記フィルムをはがすことによつて薄く
均一な、旅先性のない透明保護皮膜のついた超薄型偏光
板が得られる。エポキシ−ポリアミド樹脂はPVAとの
接着性は良く、また適度の硬度と柔軟性を有するため、
ラミネート皮膜程度の薄膜となつても偏光子の支持体と
しての性能を十分満足している。またエポキシ−ポリア
ミド樹脂は硬化する前は液体で加熱等の硬化手段により
三次元綱目状ポリマーとなり、60℃の水、酸、アルカ
l八アセトン、酢酸メチル、エタノール、クロロホルム
等の薬品、溶剤に溶けることなく、熱可塑性無定形ポリ
マーであるセルロース系フィルムに比べて高い耐水性、
耐薬品性を有している。一方エポキシ−ポリアミド樹脂
はポリエチレン、フッ素樹脂、セルロース系フィルム等
に対しては接着性をもたず、ラミネート後にこれらフィ
ルムは簡単にはく離することが出来る。本発明は偏光子
に保護膜としてラミネート剤を用い、ドライラミネーシ
ョン方式により偏光子を他のフィルムとラミネートし、
ラミネート剤を硬化させた後、偏光子とラミネートされ
たフィルムをはがすことによつて、ラミネート剤皮膜で
保護された偏光板を製造することを目的としており、ラ
ミネート剤の種類、偏光子及びラミネート剤をドライラ
ミネーションするフィルムの材質を問うものではない。
次に本発明による製造方法を用いて超薄型偏光板をつく
る実施例をあげ、本発明をさらに詳しく説明する。
実施例1 幅20C77!×長さ30C!!11厚み0.25?の
P■Aフィルムを延伸し、35℃の12/KI水溶液に
浸漬し、乾燥する。
このフィルムに表1の混合比のエポキシ−ポリアミド溶
液をローラーで均一に塗布する。表1.ラミネートに使
用したEpOxy−POlyamidO溶液混合比次に
三酢酸セルロースフィルムをPVA両面にローラーを使
つて気泡や余分なラミネート剤を追い出しながらラミネ
ートする。
一晩室温放置後三酢酸セルロースをはがして偏光板を作
成する。三酢酸セルロースフィルムをはがす前の従来の
偏光板としての構成ての厚みと本発明による偏光板の厚
みを表2に示す。また第1図に従来の偏光板、第2図に
本発明による偏光板の断面図を示した。1は偏光子のP
VAフィルム、2は三酢酸セルロース、3はエポキシ−
ポリアミド被膜、4は従来の偏光板におけるラミネート
剤層である。第1図と第2図から本発明による偏光板は
明らかに2に相当するフィルム厚分がなくなり薄型化と
なることがわかる。次に従来の偏光板と本発明による偏
光板の耐水性、耐薬品性の比較性能試験結果を表2に示
す。
試験片:2Crft×2C!n試験条件:60℃水1時
間浸漬以外は室温(2(代))中1紛間浸漬上述の如く
本発明は、PVA延伸フィルムからなる偏光子両面にエ
ポキシ−ポリアミド樹脂を均一に塗布後、該樹脂上に離
型用有機高分子フィルムをドライラミネーション方式に
てラミネートして該エポキシ−ポリアミド樹脂を物理化
学的に固化した後、該離型用有機高分子フィルムをはく
離するようにしたから、エポキシ−ポリアミド樹脂のP
VAに対する高密着性によつて何ら接着剤を必要とする
事なく保護被膜を形成てき、かつ耐湿性の高い膜を形成
できる。
さらにエポキシ−ポリアミド樹脂上には離型用有機高分
子フィルムをラミネートさせて該樹脂をj硬化させるこ
とで、ローラーを用いて気泡や余分なラミネート剤を追
い出しながらラミネートする事ができる効果を有する。
図面の簡単な説明第1図は従来の偏光板の断面図、第2
図は本発明による偏光板の断面図。
1・・・・・・偏光子としてのPVAフィルム、2・・
・従来の偏光板における偏光子の保護フィルム、3・・
・・・本発明による偏光板における偏光子の保護皮膜、
4・・・・・・従来の偏光板におけるラミネート剤層。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 PVA延伸フィルムからなる偏光子両面にエポキシ
    −ポリアミド樹脂を均一に塗布後、該樹脂上に離型用有
    機高分子フィルムをドライラミネーション方式にてラミ
    ネートして該エポキシ−ポリアミド樹脂を物理化学的に
    固化した後、該離型用有機高分子フィルムをはく離する
    事を特徴とする偏光板の製造方法。
JP7160878A 1978-06-14 1978-06-14 偏光板の製造方法 Expired JPS6057563B2 (ja)

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JPS54163051A JPS54163051A (en) 1979-12-25
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JPH02262616A (ja) * 1980-07-11 1990-10-25 Toyobo Co Ltd 透明導電層を有する偏光板
JP4525069B2 (ja) * 2003-03-31 2010-08-18 住友化学株式会社 偏光板及びその製造方法
JP2006163082A (ja) * 2004-12-08 2006-06-22 Nippon Paper Chemicals Co Ltd 光学部材及びその製造方法、並びに液晶表示装置

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