JPS6047358A - 電子線装置 - Google Patents
電子線装置Info
- Publication number
- JPS6047358A JPS6047358A JP15328583A JP15328583A JPS6047358A JP S6047358 A JPS6047358 A JP S6047358A JP 15328583 A JP15328583 A JP 15328583A JP 15328583 A JP15328583 A JP 15328583A JP S6047358 A JPS6047358 A JP S6047358A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- secondary electrons
- detector
- lens
- electrons
- deflected
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/244—Detectors; Associated components or circuits therefor
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、高分解能像観察に好適な二次電子検出器を備
えた電子線装置に関するっ 〔発明の背景〕 電子線をできるだけ細く絞って部分解能な二次電子像を
得ようとする場合、レンズはできるだけ短焦点距離で用
いる必要がある。そのために、第1図に示すような構成
のものが考えられている。
えた電子線装置に関するっ 〔発明の背景〕 電子線をできるだけ細く絞って部分解能な二次電子像を
得ようとする場合、レンズはできるだけ短焦点距離で用
いる必要がある。そのために、第1図に示すような構成
のものが考えられている。
試料2はレンズ1の内部に配置され、試料がら出1きた
二次電子は検出器3で検出する。
二次電子は検出器3で検出する。
しかし1本構成では、二次電子はレンズ1の磁場内否通
過し、かつエネルギーが入射電子よシ極次*:1を検出
器側に引っばっても、試料23発生し々−二次電子の出
射条件(出射角やエネルギー等)により、エネルギーの
極めて弱い二次電子7は検出器3に入射するが、比較的
高いエネルギーの二次電子8は、周辺の部材(例えば、
偏向器4の支持台5)に衝突して検出器3に入射しない
。
過し、かつエネルギーが入射電子よシ極次*:1を検出
器側に引っばっても、試料23発生し々−二次電子の出
射条件(出射角やエネルギー等)により、エネルギーの
極めて弱い二次電子7は検出器3に入射するが、比較的
高いエネルギーの二次電子8は、周辺の部材(例えば、
偏向器4の支持台5)に衝突して検出器3に入射しない
。
%?こ、検出器3の電界は支持台5やレンズ1にょつC
二次電子軌道上まで到達し難いことももう一つの原因で
ある。すなわち、本構成の二次電子収率1.LX甑めて
悪いという欠点がある。
二次電子軌道上まで到達し難いことももう一つの原因で
ある。すなわち、本構成の二次電子収率1.LX甑めて
悪いという欠点がある。
〔・1′、ヴ」の目的〕
本発明の目的は、高分解能二次電子像を得る際に、篩状
率な二次電子検出器を具備した電子線装置−f:提tl
(することにある7 〔りら明の概要〕 筒収率化とは、二次電子をできるだけ多く検出器に入射
させることである。収率の悪い原因は、したがって、本
発明では、別手段により二次′t11゜子を検出器に入
射させるように構成したもので4k)る。
率な二次電子検出器を具備した電子線装置−f:提tl
(することにある7 〔りら明の概要〕 筒収率化とは、二次電子をできるだけ多く検出器に入射
させることである。収率の悪い原因は、したがって、本
発明では、別手段により二次′t11゜子を検出器に入
射させるように構成したもので4k)る。
以1、本発明を実施例を用いて説明する。
第2図は、本発明の一実施例を示す図である、。
本発明の構成は、従来の検出器3どレンズ1の間に二次
電子を偏向するための偏向器6を挿入したものである。
電子を偏向するための偏向器6を挿入したものである。
この位置でのレンズ磁場は比較的弱いために二次′電子
を束縛する力は小さい。また、二次電子は一次′鑞子に
比べてエネルギーが極めて小さい。したがって、弱い偏
向磁場で二次電子を偏向することができる。このような
偏向磁場に対し−ご一次電子はエネルギーが高いために
ほとんど偏向でれない。
を束縛する力は小さい。また、二次電子は一次′鑞子に
比べてエネルギーが極めて小さい。したがって、弱い偏
向磁場で二次電子を偏向することができる。このような
偏向磁場に対し−ご一次電子はエネルギーが高いために
ほとんど偏向でれない。
すなわち、二次電子のみを検出器3の方向に偏向させ、
従来検出器に入射しなかった二次′電子8k・も検出で
きるようになる。したがって、二次電いづJLを用いて
もよいし、lk両者を組み合わせ1用いてもよい。
従来検出器に入射しなかった二次′電子8k・も検出で
きるようになる。したがって、二次電いづJLを用いて
もよいし、lk両者を組み合わせ1用いてもよい。
婁
第:1図のように磁N型、静電型を直交させて配1倒し
、磁、IBと電界Eとの関係が となるように動作させる。ここで、Vl ニー次電:f
のエネルギー、e:電荷、m;電子の質量、== v”
:1である。このとき、−次電子は何ら偏向作用を受
けない。このとき、二次電子に対しては、J−なる。こ
こで、■2は二次電子のエネルギーで4・、す、V2
<Vlである。すなわち、二次電子に関し一〇は静電型
のみの動作とほとんど変らない作用を受ける。したがっ
て、二次電子は検出器3の方向に偏向される。本構成は
、−次電子線が低加示したが、これに限るも′のではな
い。また、、 iVi+寛型の偏向板12は平行平板で
示したが、例えは円筒状のものでもよいことは言うまで
もない。
、磁、IBと電界Eとの関係が となるように動作させる。ここで、Vl ニー次電:f
のエネルギー、e:電荷、m;電子の質量、== v”
:1である。このとき、−次電子は何ら偏向作用を受
けない。このとき、二次電子に対しては、J−なる。こ
こで、■2は二次電子のエネルギーで4・、す、V2
<Vlである。すなわち、二次電子に関し一〇は静電型
のみの動作とほとんど変らない作用を受ける。したがっ
て、二次電子は検出器3の方向に偏向される。本構成は
、−次電子線が低加示したが、これに限るも′のではな
い。また、、 iVi+寛型の偏向板12は平行平板で
示したが、例えは円筒状のものでもよいことは言うまで
もない。
本発明において、レンズ形状、試料位置等番」第3図の
ものに限るものではない。要は、試料からの二次電子を
レンズの上方の検出器で検出すZ)構成なら、どのよう
な構成でも適用できる。
ものに限るものではない。要は、試料からの二次電子を
レンズの上方の検出器で検出すZ)構成なら、どのよう
な構成でも適用できる。
本発明によれば、二次電子を効率よく検出1゛きるので
、高分解能な像観察が容易にできる効果がある。
、高分解能な像観察が容易にできる効果がある。
第1図は、従来の構成全示した断面図、第2図は本発明
の一実施例を示した断面図、第3図は、本発明における
偏向器の一具体例を示した図で・ちる。 ■・・・レンズ、2・・・試料、3・・・検出器、4・
・・偏向器:)・・・グ持台、6・・・二次電子用偏向
器、7.8・・・二次、電ト軌道、11・・・磁界型偏
向器、12・・・静電型丞 /ID 革 2 (イ) 第 3 凶
の一実施例を示した断面図、第3図は、本発明における
偏向器の一具体例を示した図で・ちる。 ■・・・レンズ、2・・・試料、3・・・検出器、4・
・・偏向器:)・・・グ持台、6・・・二次電子用偏向
器、7.8・・・二次、電ト軌道、11・・・磁界型偏
向器、12・・・静電型丞 /ID 革 2 (イ) 第 3 凶
Claims (1)
- 1、電子銃より出た電子線を細く絞って試料に照射させ
るレンズと、該レンズと電子銃との間に二次電子検出器
を具備し7′c電子線装置において、該レンズと検出器
との間に偏向器を配置せしめて、試料よp出た二次電子
を該偏向器によシ倹
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15328583A JPS6047358A (ja) | 1983-08-24 | 1983-08-24 | 電子線装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15328583A JPS6047358A (ja) | 1983-08-24 | 1983-08-24 | 電子線装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6047358A true JPS6047358A (ja) | 1985-03-14 |
JPH057819B2 JPH057819B2 (ja) | 1993-01-29 |
Family
ID=15559127
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15328583A Granted JPS6047358A (ja) | 1983-08-24 | 1983-08-24 | 電子線装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6047358A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60212953A (ja) * | 1984-04-06 | 1985-10-25 | Hitachi Ltd | 電子線装置 |
US4823005A (en) * | 1986-02-20 | 1989-04-18 | Texas Instruments Incorporated | Electron beam apparatus |
JPH01258354A (ja) * | 1988-04-08 | 1989-10-16 | Hitachi Ltd | 荷電粒子線用電界磁界形分離器 |
-
1983
- 1983-08-24 JP JP15328583A patent/JPS6047358A/ja active Granted
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60212953A (ja) * | 1984-04-06 | 1985-10-25 | Hitachi Ltd | 電子線装置 |
JPH057821B2 (ja) * | 1984-04-06 | 1993-01-29 | Hitachi Ltd | |
US4823005A (en) * | 1986-02-20 | 1989-04-18 | Texas Instruments Incorporated | Electron beam apparatus |
JPH01258354A (ja) * | 1988-04-08 | 1989-10-16 | Hitachi Ltd | 荷電粒子線用電界磁界形分離器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH057819B2 (ja) | 1993-01-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4037533B2 (ja) | 粒子線装置 | |
JP4460542B2 (ja) | 高空間分解能および多視点結像用の荷電粒子ビーム装置 | |
JP3836519B2 (ja) | 電子検出器 | |
JPH11148905A (ja) | 電子ビーム検査方法及びその装置 | |
JP2018509741A5 (ja) | ||
JPH0536371A (ja) | 粒子線装置 | |
JPH0736321B2 (ja) | 定量的電位測定用スペクトロメ−タ−対物レンズ装置 | |
JP2821153B2 (ja) | 荷電粒子線応用装置 | |
US6667478B2 (en) | Particle beam apparatus | |
US6730907B1 (en) | Charged particle device | |
JP2632808B2 (ja) | 定量的電位測定用スペクトロメーター対物レンズ装置 | |
US5780859A (en) | Electrostatic-magnetic lens arrangement | |
JPS5958749A (ja) | 複合対物および放射レンズ | |
JP2973136B2 (ja) | 粒子線装置 | |
JPH11195396A (ja) | エネルギーフィルタを有する粒子線装置 | |
JPS6047358A (ja) | 電子線装置 | |
KR102325235B1 (ko) | 전자 빔 시스템에서의 수차 정정을 위한 방법 및 시스템 | |
JP5280238B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
JP2000228162A (ja) | 電子ビーム装置 | |
JP2002025492A (ja) | 静電ミラーを含む荷電粒子ビーム画像化装置用低プロフィル電子検出器を使用して試料を画像化するための方法および装置 | |
JP4091217B2 (ja) | X線管 | |
JPH10241616A (ja) | 静電レンズ | |
JP2005337959A (ja) | 基板検査方法および基板検査装置 | |
JPS62186451A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
JPH03295141A (ja) | 検出器 |