JP2000228162A - 電子ビーム装置 - Google Patents
電子ビーム装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ２次収差の影響なく一次電子ビームのエネル
ギー幅を小さくして色収差を著しく小さくすることがで
きる電子ビーム装置を実現する。 【解決手段】 電子源１から発生し加速された一次電子
ビームＥＢは、第１のウィーンフィルター１０に入射す
る。第１のウィーンフィルター１０に入射した一次電子
ビームＥＢに含まれている電子のうち、特定速度の電子
だけが第１のウィーンフィルター内を直進することがで
き、その他のエネルギーを有した電子は偏向され、ウィ
ーンフィルター１０の後方に配置されたスリット１１に
遮られてその進行を阻止される。スリット１１の後段に
は、第２のウィーンフィルター１２が配置されている。
この第１と第２のウィーンフィルター１０，１２は、第
１のウィーンフィルター１０の像面と第２のウィーンフ
ィルター１２の物面とが一致されており、また、第１と
第２のウィーンフィルター１０，１２の光学特性は同一
とされている。
ギー幅を小さくして色収差を著しく小さくすることがで
きる電子ビーム装置を実現する。 【解決手段】 電子源１から発生し加速された一次電子
ビームＥＢは、第１のウィーンフィルター１０に入射す
る。第１のウィーンフィルター１０に入射した一次電子
ビームＥＢに含まれている電子のうち、特定速度の電子
だけが第１のウィーンフィルター内を直進することがで
き、その他のエネルギーを有した電子は偏向され、ウィ
ーンフィルター１０の後方に配置されたスリット１１に
遮られてその進行を阻止される。スリット１１の後段に
は、第２のウィーンフィルター１２が配置されている。
この第１と第２のウィーンフィルター１０，１２は、第
１のウィーンフィルター１０の像面と第２のウィーンフ
ィルター１２の物面とが一致されており、また、第１と
第２のウィーンフィルター１０，１２の光学特性は同一
とされている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、走査電子顕微鏡等
の電子ビーム装置に関し、特に、集束レンズの色収差を
小さくすることができる電子ビーム装置に関する。
の電子ビーム装置に関し、特に、集束レンズの色収差を
小さくすることができる電子ビーム装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】走査電子顕微鏡では、電子銃からの電子
ビームをコンデンサレンズと対物レンズによって試料上
に集束し、更に電子ビームを２次元的に走査している。
そして、試料への電子ビームの照射によって発生した２
次電子等を検出し、検出信号を電子ビームの走査に同期
した陰極線管に供給し、試料の走査像を得るようにして
いる。
ビームをコンデンサレンズと対物レンズによって試料上
に集束し、更に電子ビームを２次元的に走査している。
そして、試料への電子ビームの照射によって発生した２
次電子等を検出し、検出信号を電子ビームの走査に同期
した陰極線管に供給し、試料の走査像を得るようにして
いる。
【０００３】このような走査電子顕微鏡では、近年試料
に照射する電子ビームの低加速電圧化、高分解能化が要
求されるようになっている。電子ビームを試料上で細く
集束し、像の高分解能化を図るためには、レンズ、特に
対物レンズの各収差を小さくする必要がある。その収差
の中でも高分解能化のためには、色収差が最も大きな障
害となっている。
に照射する電子ビームの低加速電圧化、高分解能化が要
求されるようになっている。電子ビームを試料上で細く
集束し、像の高分解能化を図るためには、レンズ、特に
対物レンズの各収差を小さくする必要がある。その収差
の中でも高分解能化のためには、色収差が最も大きな障
害となっている。
【０００４】色収差を小さくするためには、第１にはレ
ンズ自体の色収差係数を小さくすれば良いが、それには
焦点距離との関係で一定の限界が存在する。色収差を小
さくする他の方法は、一次電子ビームのエネルギー幅を
小さくすることである。そのためには、電子レンズの前
にエネルギーアナライザを取り付け、特定の電子のみを
通過させ、電子レンズに導くようにすれば良い。
ンズ自体の色収差係数を小さくすれば良いが、それには
焦点距離との関係で一定の限界が存在する。色収差を小
さくする他の方法は、一次電子ビームのエネルギー幅を
小さくすることである。そのためには、電子レンズの前
にエネルギーアナライザを取り付け、特定の電子のみを
通過させ、電子レンズに導くようにすれば良い。
【０００５】図１はエネルギーアナライザとしてウィー
ンフィルターを用いた電子ビーム装置を示している。１
は電子源であり、電子源１から発生し加速された一次電
子ビームＥＢは、ウィーンフィルター２に入射する。ウ
ィーンフィルター２は一対の電極と一対の磁極とから構
成されており、磁極と電極の向きを互いに直交するよう
に配置してある。
ンフィルターを用いた電子ビーム装置を示している。１
は電子源であり、電子源１から発生し加速された一次電
子ビームＥＢは、ウィーンフィルター２に入射する。ウ
ィーンフィルター２は一対の電極と一対の磁極とから構
成されており、磁極と電極の向きを互いに直交するよう
に配置してある。
【０００６】このウィーンフィルター２に入射した一次
電子ビームＥＢに含まれている電子のうち、磁極と電極
によって発生する磁界と電界のローレンツ力が釣り合う
速度を有した電子だけがウィーンフィルター内を直進す
ることができ、その他のエネルギーを有した電子は偏向
され、ウィーンフィルター２の後方に配置されたスリッ
ト３に遮られてその進行を阻止される。
電子ビームＥＢに含まれている電子のうち、磁極と電極
によって発生する磁界と電界のローレンツ力が釣り合う
速度を有した電子だけがウィーンフィルター内を直進す
ることができ、その他のエネルギーを有した電子は偏向
され、ウィーンフィルター２の後方に配置されたスリッ
ト３に遮られてその進行を阻止される。
【０００７】図２はウィーンフィルター２の光軸と垂直
の断面方向の図であり、一対の電極４，５、一対の磁極
６，７より構成されており、電極４，５にはそれぞれ−
Ｖ、＋Ｖの電圧が印加されている。図３はウィーンフィ
ルター２による電子の偏向の様子を示しており、特定速
度の電子Ｅ１はウィーンフィルター２を直進し、他の速
度の電子Ｅ２はウィーンフィルターで偏向を受けてスリ
ット３により進行を遮られる。ウィーンフィルター２を
直進し、スリット３の開口を通過した特定速度の電子
は、対物レンズ８に入射し、試料９上に細く集束され
る。
の断面方向の図であり、一対の電極４，５、一対の磁極
６，７より構成されており、電極４，５にはそれぞれ−
Ｖ、＋Ｖの電圧が印加されている。図３はウィーンフィ
ルター２による電子の偏向の様子を示しており、特定速
度の電子Ｅ１はウィーンフィルター２を直進し、他の速
度の電子Ｅ２はウィーンフィルターで偏向を受けてスリ
ット３により進行を遮られる。ウィーンフィルター２を
直進し、スリット３の開口を通過した特定速度の電子
は、対物レンズ８に入射し、試料９上に細く集束され
る。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上記した電子ビーム装
置では、一次電子ビームＥＢをウィーンフィルター２に
入射させ、特定速度（エネルギー）の電子のみを対物レ
ンズ８に導くようにしたので、対物レンズ８の色収差を
著しく小さくすることができる。
置では、一次電子ビームＥＢをウィーンフィルター２に
入射させ、特定速度（エネルギー）の電子のみを対物レ
ンズ８に導くようにしたので、対物レンズ８の色収差を
著しく小さくすることができる。
【０００９】しかしながら、この場合の問題点として
は、一般にエネギーアナライザー（ウィーンフィルタ
ー）は大きな２次収差を有しており、ウィーンフィルタ
ーの２次収差はそのまま対物レンズ８の像面に加わるこ
とになる。その結果、色収差は著しく小さくなるもの
の、試料９上の電子ビームのプローブ径が大きくなって
しまう。
は、一般にエネギーアナライザー（ウィーンフィルタ
ー）は大きな２次収差を有しており、ウィーンフィルタ
ーの２次収差はそのまま対物レンズ８の像面に加わるこ
とになる。その結果、色収差は著しく小さくなるもの
の、試料９上の電子ビームのプローブ径が大きくなって
しまう。
【００１０】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、２次収差の影響なく一次電子ビー
ムのエネルギー幅を小さくして色収差を著しく小さくす
ることができる電子ビーム装置を実現するにある。
もので、その目的は、２次収差の影響なく一次電子ビー
ムのエネルギー幅を小さくして色収差を著しく小さくす
ることができる電子ビーム装置を実現するにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】第１の発明に基づく電子
ビーム装置は、電子源からの一次電子ビームが入射する
一対の電極と一対の磁極とより成る第１のウィーンフィ
ルターと、第１のウィーンフィルターで偏向された電子
を遮蔽するスリットと、第１のウィーンフィルターを直
進し、スリットを通過した電子が入射する一対の電極と
一対の磁極とより成る第２のウィーンフィルターと、第
２のウィーンフィルターを通過した電子を試料上に集束
するための集束レンズとを備えており、第１と第２のウ
ィーンフィルターを同じ形状としたことを特徴としてい
る。
ビーム装置は、電子源からの一次電子ビームが入射する
一対の電極と一対の磁極とより成る第１のウィーンフィ
ルターと、第１のウィーンフィルターで偏向された電子
を遮蔽するスリットと、第１のウィーンフィルターを直
進し、スリットを通過した電子が入射する一対の電極と
一対の磁極とより成る第２のウィーンフィルターと、第
２のウィーンフィルターを通過した電子を試料上に集束
するための集束レンズとを備えており、第１と第２のウ
ィーンフィルターを同じ形状としたことを特徴としてい
る。
【００１２】第１の発明では、電子ビームのエネルギー
を選択するフィルターとして２段構成のウィーンフィル
ターを設け、２つのウィーンフィルターの光学条件を同
一にすることにより、ウィーンフィルターの２次収差の
影響を除去する。
を選択するフィルターとして２段構成のウィーンフィル
ターを設け、２つのウィーンフィルターの光学条件を同
一にすることにより、ウィーンフィルターの２次収差の
影響を除去する。
【００１３】第２の発明に基づく電子ビーム装置は、請
求項１の発明において、第１のウィーンフィルターの像
面と第２のウィーンフィルターの物面とを一致させる。
第３の発明に基づく電子ビーム装置は、請求項１の発明
において、第１のウィーンフィルターと第２のウィーン
フィルターの物面距離および像面距離を同一とした。
求項１の発明において、第１のウィーンフィルターの像
面と第２のウィーンフィルターの物面とを一致させる。
第３の発明に基づく電子ビーム装置は、請求項１の発明
において、第１のウィーンフィルターと第２のウィーン
フィルターの物面距離および像面距離を同一とした。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図４は本発明に基づく電子
ビーム装置の一例を示す図であり、図１の従来装置と同
一ないしは類似の構成要素には同一番号が付されてい
る。図４において、１は電子源であり、電子源１から発
生し加速された一次電子ビームＥＢは、第１のウィーン
フィルター１０に入射する。第１のウィーンフィルター
１０は一対の電極と一対の磁極とから構成されており、
磁極と電極の向きを互いに直交するように配置してあ
る。
施の形態を詳細に説明する。図４は本発明に基づく電子
ビーム装置の一例を示す図であり、図１の従来装置と同
一ないしは類似の構成要素には同一番号が付されてい
る。図４において、１は電子源であり、電子源１から発
生し加速された一次電子ビームＥＢは、第１のウィーン
フィルター１０に入射する。第１のウィーンフィルター
１０は一対の電極と一対の磁極とから構成されており、
磁極と電極の向きを互いに直交するように配置してあ
る。
【００１５】この第１のウィーンフィルター１０に入射
した一次電子ビームＥＢに含まれている電子のうち、磁
極と電極によって発生する磁界と電界のローレンツ力が
釣り合う速度を有した電子だけが第１のウィーンフィル
ター内を直進することができ、その他のエネルギーを有
した電子は偏向され、ウィーンフィルター１０の後方に
配置されたスリット１１に遮られてその進行を阻止され
る。
した一次電子ビームＥＢに含まれている電子のうち、磁
極と電極によって発生する磁界と電界のローレンツ力が
釣り合う速度を有した電子だけが第１のウィーンフィル
ター内を直進することができ、その他のエネルギーを有
した電子は偏向され、ウィーンフィルター１０の後方に
配置されたスリット１１に遮られてその進行を阻止され
る。
【００１６】スリット１１の後段には、第２のウィーン
フィルター１２が配置されている。第２のウィーンフィ
ルター１２は、第１のウィーンフィルター１０と同様
に、一対の電極と一対の磁極とから構成されており、磁
極と電極の向きを互いに直交するように配置してある。
フィルター１２が配置されている。第２のウィーンフィ
ルター１２は、第１のウィーンフィルター１０と同様
に、一対の電極と一対の磁極とから構成されており、磁
極と電極の向きを互いに直交するように配置してある。
【００１７】この第２のウィーンフィルター１２に入射
した一次電子ビームＥＢに含まれている電子のうち、磁
極と電極によって発生する磁界と電界のローレンツ力が
釣り合う速度を有した電子だけがウィーンフィルター内
を直進することができる。
した一次電子ビームＥＢに含まれている電子のうち、磁
極と電極によって発生する磁界と電界のローレンツ力が
釣り合う速度を有した電子だけがウィーンフィルター内
を直進することができる。
【００１８】この第１と第２のウィーンフィルター１
０，１２は、第１のウィーンフィルター１０の像面と第
２のウィーンフィルター１２の物面とが一致されてお
り、また、第１と第２のウィーンフィルター１０，１２
の光学特性は同一とされている。
０，１２は、第１のウィーンフィルター１０の像面と第
２のウィーンフィルター１２の物面とが一致されてお
り、また、第１と第２のウィーンフィルター１０，１２
の光学特性は同一とされている。
【００１９】すなわち、第１のウィーンフィルター１０
の一対の電極および磁極と、第２のウィーンフィルター
１２の一対の電極および磁極の大きさと形状は同一とさ
れている。また、電極に印加される電圧も２つのウィー
ンフィルターは同じにされ、更に、励磁条件が同じにさ
れ、磁極による磁界の強さも同一とされている。第２の
ウィーンフィルター１２を通過した電子は、対物レンズ
８に入射し、試料９上に細く集束される。なお、この図
４の光学系で、レンズ系の動作条件は、第２のウィーン
フィルター１２の像面にフォーカスを合わせるようにし
ている。
の一対の電極および磁極と、第２のウィーンフィルター
１２の一対の電極および磁極の大きさと形状は同一とさ
れている。また、電極に印加される電圧も２つのウィー
ンフィルターは同じにされ、更に、励磁条件が同じにさ
れ、磁極による磁界の強さも同一とされている。第２の
ウィーンフィルター１２を通過した電子は、対物レンズ
８に入射し、試料９上に細く集束される。なお、この図
４の光学系で、レンズ系の動作条件は、第２のウィーン
フィルター１２の像面にフォーカスを合わせるようにし
ている。
【００２０】この図４の構成で、第１のウィーンフィル
ター１０の像面と第２のウィーンフィルター１２の物面
は一致させられており、スリット１１は第１のウィーン
フィルター１０の像面、すなわち、第２のウィーンフィ
ルター１２の物面に配置されている。また、第１のウィ
ーンフィルター１０から第１のウィーンフィルターの物
面および像面までの距離はＬとされ、更に、第２のウィ
ーンフィルター１２から第２のウィーンフィルターの物
面および像面までの距離もＬとされている。
ター１０の像面と第２のウィーンフィルター１２の物面
は一致させられており、スリット１１は第１のウィーン
フィルター１０の像面、すなわち、第２のウィーンフィ
ルター１２の物面に配置されている。また、第１のウィ
ーンフィルター１０から第１のウィーンフィルターの物
面および像面までの距離はＬとされ、更に、第２のウィ
ーンフィルター１２から第２のウィーンフィルターの物
面および像面までの距離もＬとされている。
【００２１】ここで、ウィーンフィルターの２次収差
は、ウィーン条件のもとでは、像面において一般に次の
ように表される。 Ｘ１＝Ｍ・Ｘ０＋Ａ・Ｘ０2＋Ｂ・Ｙ０2＋Ｃ・Ｘ０´2
＋Ｄ・Ｙ０´2＋Ｅ・Ｘ０・Ｘ０´＋Ｆ・Ｙ０・Ｙ０´ Ｙ１＝ｍ・Ｙ０＋ａ・Ｘ０・Ｙ０＋ｂ・Ｘ０´・Ｙ０＋
ｃ・Ｘ０・Ｙ０´＋ｄ・Ｘ０´・Ｙ０´ 上式において、Ｘ０，Ｙ０，Ｘ０´，Ｙ０´は各々物面
での座標と傾斜のＸ，Ｙ成分を表している。また、Ｍ，
ｍは倍率、Ａ〜Ｆ、ａ〜ｄは収差係数を表している。
は、ウィーン条件のもとでは、像面において一般に次の
ように表される。 Ｘ１＝Ｍ・Ｘ０＋Ａ・Ｘ０2＋Ｂ・Ｙ０2＋Ｃ・Ｘ０´2
＋Ｄ・Ｙ０´2＋Ｅ・Ｘ０・Ｘ０´＋Ｆ・Ｙ０・Ｙ０´ Ｙ１＝ｍ・Ｙ０＋ａ・Ｘ０・Ｙ０＋ｂ・Ｘ０´・Ｙ０＋
ｃ・Ｘ０・Ｙ０´＋ｄ・Ｘ０´・Ｙ０´ 上式において、Ｘ０，Ｙ０，Ｘ０´，Ｙ０´は各々物面
での座標と傾斜のＸ，Ｙ成分を表している。また、Ｍ，
ｍは倍率、Ａ〜Ｆ、ａ〜ｄは収差係数を表している。
【００２２】上の関係を用いて、像面の座標、傾斜Ｘ
１，Ｙ１，Ｘ１´，Ｙ１´およびそれらの積を物面の対
応する量の２次の範囲で表すと、マトリックス形式で例
えば、次のようになる。
１，Ｙ１，Ｘ１´，Ｙ１´およびそれらの積を物面の対
応する量の２次の範囲で表すと、マトリックス形式で例
えば、次のようになる。
【００２３】
【数１】
【００２４】第１のウィーンフィルター１０に関し、上
のマトリックスの左辺、右辺のベクトルを各々ＸＢ１，
ＸＢ０、マトリックスをＭ１と代表させると次の式にな
る。 ＸＢ１＝Ｍ１・ＸＢ０ …… （１） 次に２段目のウィーンフィルター１２に関しては、同様
に次の式となる。
のマトリックスの左辺、右辺のベクトルを各々ＸＢ１，
ＸＢ０、マトリックスをＭ１と代表させると次の式にな
る。 ＸＢ１＝Ｍ１・ＸＢ０ …… （１） 次に２段目のウィーンフィルター１２に関しては、同様
に次の式となる。
【００２５】ＸＢ２＝Ｍ２・ＸＢ１ …… （２） ただし、２段目の第２のウィーンフィルター１２におい
ては、１段目の第１のウィーンフィルター１０の出射の
量のベクトルＸＢ１が、入射の量のベクトルとなってい
る。そして、２段目の出射の量のベクトルをＸＢ２とし
た。
ては、１段目の第１のウィーンフィルター１０の出射の
量のベクトルＸＢ１が、入射の量のベクトルとなってい
る。そして、２段目の出射の量のベクトルをＸＢ２とし
た。
【００２６】ここで、第２のウィーンフィルター１２の
形状および光学条件を第１のウィーンフィルター１０と
まったく同じにする（電極、磁極を同じ形状とし、印加
電圧、励磁条件を同じとし、更に、両者の物面、像面距
離を全て同じ長さＬとする）と、２つのウィーンフィル
ターのマトリックスは同一となり、Ｍ２＝Ｍ１となる。
すなわち、（２）式は次の式になる。
形状および光学条件を第１のウィーンフィルター１０と
まったく同じにする（電極、磁極を同じ形状とし、印加
電圧、励磁条件を同じとし、更に、両者の物面、像面距
離を全て同じ長さＬとする）と、２つのウィーンフィル
ターのマトリックスは同一となり、Ｍ２＝Ｍ１となる。
すなわち、（２）式は次の式になる。
【００２７】ＸＢ２＝Ｍ１・ＸＢ１ …… （３） （１）式を（３）式に代入すると、次の式が導かれる。 ＸＢ２＝Ｍ１・Ｍ１・ＸＢ０ 次にＭ１とＭ１との掛け算を実行すると次のようにな
る。
る。
【００２８】
【数２】
【００２９】このマトリックス式は、２次の範囲での２
つのフィルター全体の収差の関係を表している。この第
１行の式を取り出すと、Ｘ２＝Ｘ０となり、２つのウィ
ーンフィルターを出射した後の像面座標Ｘ２は、物面の
座標および傾斜の２次の量に全く無関係になり、物面座
標Ｘ０と１対１の関係になる。Ｙ成分も同様になる。結
局、ウィーンフィルターを２段構成にすることにより、
２次の収差が消去されたことになる。このことにより、
試料９上の電子ビームのプローブ径に対するウィーンフ
ィルターの２次収差の影響を零にすることができる。
つのフィルター全体の収差の関係を表している。この第
１行の式を取り出すと、Ｘ２＝Ｘ０となり、２つのウィ
ーンフィルターを出射した後の像面座標Ｘ２は、物面の
座標および傾斜の２次の量に全く無関係になり、物面座
標Ｘ０と１対１の関係になる。Ｙ成分も同様になる。結
局、ウィーンフィルターを２段構成にすることにより、
２次の収差が消去されたことになる。このことにより、
試料９上の電子ビームのプローブ径に対するウィーンフ
ィルターの２次収差の影響を零にすることができる。
【００３０】以上本発明の実施の形態を詳述したが、本
発明はこの形態に限定されない。例えば、２段のウィー
ンフィルターの後段に対物レンズが設けられているが、
２段のウィーンフィルターの後段にコンデンサレンズと
対物レンズを設けるようにしても良い。
発明はこの形態に限定されない。例えば、２段のウィー
ンフィルターの後段に対物レンズが設けられているが、
２段のウィーンフィルターの後段にコンデンサレンズと
対物レンズを設けるようにしても良い。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように、第１の発明では、
電子ビームのエネルギーを選択するフィルターとして２
段構成のウィーンフィルターを設け、２つのウィーンフ
ィルターの光学条件を同一にしたので、ウィーンフィル
ターの２次収差の影響を除去することができ、電子レン
ズの色収差を著しく小さくできると共に、ウィーンフィ
ルターの２次収差の影響を除去でき、電子レンズで電子
ビームを細く絞ることができる。
電子ビームのエネルギーを選択するフィルターとして２
段構成のウィーンフィルターを設け、２つのウィーンフ
ィルターの光学条件を同一にしたので、ウィーンフィル
ターの２次収差の影響を除去することができ、電子レン
ズの色収差を著しく小さくできると共に、ウィーンフィ
ルターの２次収差の影響を除去でき、電子レンズで電子
ビームを細く絞ることができる。
【００３２】第２の発明に基づく電子ビーム装置は、第
１の発明において、第１のウィーンフィルターの像面と
第２のウィーンフィルターの物面とを一致させるように
したので、第１の発明と同様な効果が達成される。
１の発明において、第１のウィーンフィルターの像面と
第２のウィーンフィルターの物面とを一致させるように
したので、第１の発明と同様な効果が達成される。
【００３３】第３の発明に基づく電子ビーム装置は、第
１の発明において、第１のウィーンフィルターと第２の
ウィーンフィルターの物面距離および像面距離を一定と
したので、第１の発明と同様な効果が達成される。
１の発明において、第１のウィーンフィルターと第２の
ウィーンフィルターの物面距離および像面距離を一定と
したので、第１の発明と同様な効果が達成される。
【図１】従来のウィーンフィルターを用いた電子ビーム
装置を示す図である。
装置を示す図である。
【図２】ウィーンフィルターの断面を示す図である。
【図３】ウィーンフィルターにおける電子のエネルギー
の選別を示す図である。
の選別を示す図である。
【図４】本発明に基づく電子ビーム装置を示す図であ
る。
る。
１ 電子源 ８ 対物レンズ ９ 試料 １０ 第１のウィーンフィルター １１ スリット １２ 第２のウィーンフィルター
Claims (3)
- 【請求項１】 電子源からの一次電子ビームが入射する
一対の電極と一対の磁極とより成る第１のウィーンフィ
ルターと、第１のウィーンフィルターで偏向された電子
を遮蔽するスリットと、第１のウィーンフィルターを直
進し、スリットを通過した電子が入射する一対の電極と
一対の磁極とより成る第２のウィーンフィルターと、第
２のウィーンフィルターを通過した電子を試料上に集束
するための集束レンズとを備えており、第１と第２のウ
ィーンフィルターを同じ形状としたことを特徴とする電
子ビーム装置。 - 【請求項２】 第１のウィーンフィルターの像面と第２
のウィーンフィルターの物面とを一致させるようにした
請求項１記載の電子ビーム装置。 - 【請求項３】 第１のウィーンフィルターと第２のウィ
ーンフィルターの物面距離および像面距離を同一とした
請求項１記載の電子ビーム装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11028467A JP2000228162A (ja) | 1999-02-05 | 1999-02-05 | 電子ビーム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11028467A JP2000228162A (ja) | 1999-02-05 | 1999-02-05 | 電子ビーム装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000228162A true JP2000228162A (ja) | 2000-08-15 |
Family
ID=12249470
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11028467A Withdrawn JP2000228162A (ja) | 1999-02-05 | 1999-02-05 | 電子ビーム装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000228162A (ja) |
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