JPS6045429U - 薄膜形成装置 - Google Patents

薄膜形成装置

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JPS6045429U
JPS6045429U JP13548583U JP13548583U JPS6045429U JP S6045429 U JPS6045429 U JP S6045429U JP 13548583 U JP13548583 U JP 13548583U JP 13548583 U JP13548583 U JP 13548583U JP S6045429 U JPS6045429 U JP S6045429U
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JP
Japan
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thin film
film forming
forming equipment
excitation light
reaction
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Application number
JP13548583U
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English (en)
Inventor
康弘 望月
Original Assignee
株式会社日立製作所
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
図は本考案の一実施例の光励起気相反応による薄膜形成
装置のブロック図である。 10・・・反応ガス供給系、20・・・反応系、30・
・・排気系、21・・・反応容器、22・・・励起光源
、25・・・被膜形成基板、26・・・励起光入射窓。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 光励起気相化学反応を用いた薄膜形成装置において、 反応容器の励起光入射窓の内面に、励起光の照射により
    分解し、所望の反応には影響を与えないガスを放出する
    性質の材料を付着させたことを特徴とする薄膜形成装置
JP13548583U 1983-09-02 1983-09-02 薄膜形成装置 Pending JPS6045429U (ja)

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JP13548583U JPS6045429U (ja) 1983-09-02 1983-09-02 薄膜形成装置

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JPS6045429U true JPS6045429U (ja) 1985-03-30

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ID=30304932

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61228633A (ja) * 1985-04-02 1986-10-11 Hitachi Ltd 薄膜形成方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61228633A (ja) * 1985-04-02 1986-10-11 Hitachi Ltd 薄膜形成方法

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