JPS5887866U - 膜厚分布均一化薄膜形成装置 - Google Patents

膜厚分布均一化薄膜形成装置

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JPS5887866U
JPS5887866U JP18363781U JP18363781U JPS5887866U JP S5887866 U JPS5887866 U JP S5887866U JP 18363781 U JP18363781 U JP 18363781U JP 18363781 U JP18363781 U JP 18363781U JP S5887866 U JPS5887866 U JP S5887866U
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JP
Japan
Prior art keywords
thin film
thickness distribution
film thickness
film forming
forming equipment
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Pending
Application number
JP18363781U
Other languages
English (en)
Inventor
貝塚　隆則
Original Assignee
株式会社日立製作所
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Publication date
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  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図はスパルタ装置によりＡｔ）薄膜を得る場合の本
考案の構成図、第２図は同じ（Ｔｉ薄膜を得る場合の実
施例図である。 １・・・ベルシュア、２・・・基板、３・・・ハース及
びルツボ、４・・・モータ及び減速器、５・・・基板支
持及び基板測温信号取出し線、６・・−ＥＢガン、７・
・・ＥＢガン用電力供給線、８・・・蒸発物質。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 薄膜形成装置において、ソースを回転して膜厚の均一化
    を図ることを特徴とする膜厚分布均一化薄膜形成装置。
JP18363781U 1981-12-11 1981-12-11 膜厚分布均一化薄膜形成装置 Pending JPS5887866U (ja)

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JP18363781U JPS5887866U (ja) 1981-12-11 1981-12-11 膜厚分布均一化薄膜形成装置

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JP18363781U JPS5887866U (ja) 1981-12-11 1981-12-11 膜厚分布均一化薄膜形成装置

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JPS5887866U true JPS5887866U (ja) 1983-06-14

Family

ID=29983080

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