JPS6045222B2 - チオ官能性ポリシロキサンを含有する組成物 - Google Patents
チオ官能性ポリシロキサンを含有する組成物Info
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- JPS6045222B2 JPS6045222B2 JP51160966A JP16096676A JPS6045222B2 JP S6045222 B2 JPS6045222 B2 JP S6045222B2 JP 51160966 A JP51160966 A JP 51160966A JP 16096676 A JP16096676 A JP 16096676A JP S6045222 B2 JPS6045222 B2 JP S6045222B2
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
- C08L83/08—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/56—Coatings, e.g. enameled or galvanised; Releasing, lubricating or separating agents
- B29C33/60—Releasing, lubricating or separating agents
- B29C33/62—Releasing, lubricating or separating agents based on polymers or oligomers
- B29C33/64—Silicone
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
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- C08L83/04—Polysiloxanes
-
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/22—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
- C08G77/24—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen halogen-containing groups
-
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
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- C08G77/28—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen sulfur-containing groups
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、腐蝕防止剤として、また金属基質にＪ対する
離型剤として有効な新規な組成物に関するものである。
離型剤として有効な新規な組成物に関するものである。
本発明の組成物は、オルガノポリシロキサンとメルカプ
タン基少なくとも１個をもつチオ官能性ポリシロキサン
とを含有するものである。金属基質を処理して離型性を
与えると共に腐蝕とこれに伴なう変色を防止するため種
々の組成物が提案されている。
タン基少なくとも１個をもつチオ官能性ポリシロキサン
とを含有するものである。金属基質を処理して離型性を
与えると共に腐蝕とこれに伴なう変色を防止するため種
々の組成物が提案されている。
これらの組成物の中には有機ケイ素化合物および含硫化
合物がある。金属表面に耐腐蝕性を与えるため使用され
ている含硫化合物はメルカプトアルキルシランおよびメ
ルカプトアルキル置換オルガノポリシロキサン（米国特
許第３３４６４０５号記載）である。金属表面処理に使
用されているその他の含硫化合物は英国特許第１１０２
２５１号に記載されているようなメルカプトヒドロカル
ビルポリシロキサンである。しかし、これらの含硫化合
物を離型性と耐腐蝕性を与えるため金属表面に適用する
と、特に長時間約１７０〜２４０℃の温度に加熱したと
き、金属表面上に残滓を形成する傾向がある。或る用途
では、銅のような金属に親和性をもつ化合物を使用する
ことが望まれる。含硫化合物は銅のような金属に親和性
をもつから、この化合物が高温に加熱されたときも金属
表面上に残滓を形成する不利益なしに使用できたら有利
なことである。従来は、離型剤としてオルガノポリシロ
キサンのような他の物質も使用されているが、これらは
銅などの金属に対し含硫化合物ほどの親和性をもたない
。
合物がある。金属表面に耐腐蝕性を与えるため使用され
ている含硫化合物はメルカプトアルキルシランおよびメ
ルカプトアルキル置換オルガノポリシロキサン（米国特
許第３３４６４０５号記載）である。金属表面処理に使
用されているその他の含硫化合物は英国特許第１１０２
２５１号に記載されているようなメルカプトヒドロカル
ビルポリシロキサンである。しかし、これらの含硫化合
物を離型性と耐腐蝕性を与えるため金属表面に適用する
と、特に長時間約１７０〜２４０℃の温度に加熱したと
き、金属表面上に残滓を形成する傾向がある。或る用途
では、銅のような金属に親和性をもつ化合物を使用する
ことが望まれる。含硫化合物は銅のような金属に親和性
をもつから、この化合物が高温に加熱されたときも金属
表面上に残滓を形成する不利益なしに使用できたら有利
なことである。従来は、離型剤としてオルガノポリシロ
キサンのような他の物質も使用されているが、これらは
銅などの金属に対し含硫化合物ほどの親和性をもたない
。
従つて本発明の目的は改良された離型性をもつ且成物
を提供することてある。
を提供することてある。
他の目的は金属表酊に腐蝕防止性を与える組成物を提供
することでもる。さらに他の目的は金属表面に対し改良
され） た親和性をもつ組成物を提供することである
。その他の目的は高温に加熱されたとき金属表面上に浅
滓を残さない組成物を提供することである。さらにその
他の目的は１５０〜２５０とＣの温度で長時間安定な組
成物を提供することである。 以上の目的および以下の
記載から明らかになるその他の目的は、本発明に従い、
一般的にオルガノポリシロキサン流体と少なくとも１個
のメルカプタン基をもつチオ官能性ポリシロキサンとか
ら成る組成物を提供することにより達成される。
することでもる。さらに他の目的は金属表面に対し改良
され） た親和性をもつ組成物を提供することである
。その他の目的は高温に加熱されたとき金属表面上に浅
滓を残さない組成物を提供することである。さらにその
他の目的は１５０〜２５０とＣの温度で長時間安定な組
成物を提供することである。 以上の目的および以下の
記載から明らかになるその他の目的は、本発明に従い、
一般的にオルガノポリシロキサン流体と少なくとも１個
のメルカプタン基をもつチオ官能性ポリシロキサンとか
ら成る組成物を提供することにより達成される。
本発明組成物に使用されるオルガノポリシロキサンは
次の一般式で示される。 ここでＲは、同じものまたは
異なつたものでありうるが、一価炭化水素基またはハロ
ゲン化一価水素基（炭素原子数１〜１８）を表わし、Ｘ
は８より大きい数である。
次の一般式で示される。 ここでＲは、同じものまたは
異なつたものでありうるが、一価炭化水素基またはハロ
ゲン化一価水素基（炭素原子数１〜１８）を表わし、Ｘ
は８より大きい数である。
上記Ｒにより表わされる基は、アルキル基たとえばメ
チル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、ドデシル
およびオクタデシル；アリール基たとえばフェニル、ジ
フェニルおよびナフチル基；アルケニル基たとえばビニ
ルおよびアリル基；シクロアルキル基たとえばシクロブ
チル、シクロペンチルおよびシクロヘキシル；アルカリ
ール基たとえばトリル、キシリル、エチルフェニル；ア
ラルキル基たとえばベンジル、α−フエニルエチＬル、
β−フェニルエチルおよびα−フェニルブチル；ならび
に上記のもののハロ置換基である。
チル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、ドデシル
およびオクタデシル；アリール基たとえばフェニル、ジ
フェニルおよびナフチル基；アルケニル基たとえばビニ
ルおよびアリル基；シクロアルキル基たとえばシクロブ
チル、シクロペンチルおよびシクロヘキシル；アルカリ
ール基たとえばトリル、キシリル、エチルフェニル；ア
ラルキル基たとえばベンジル、α−フエニルエチＬル、
β−フェニルエチルおよびα−フェニルブチル；ならび
に上記のもののハロ置換基である。
オルガノポリシロキサンは直鎖状または分枝鎖状化合
物でよく、ケイ素原子当り平均１．７５から２．２５の
有機基をもつ、好適に流動体のものがよフい。一般に、
オルガノポリシロキサンは末端水酸基のないものが好ま
しいが、少数の末端水酸基は組成物の離型性に著しく影
響を与えない。オルガノポリシロキサンは１個だけの水
酸基をもつ分子少量を有してもよく、または２個以上の
水酸基をもつ分子少量があつてもよいが、上述のように
ァルガノポリシロキサンは実質的に水酸基を含まｔいこ
とが好ましい。ポリシロキサンの粘度は約５〜１，００
０，００■Ｓの間が好ましく、より好適にＣＯ約５０〜
３００，０００ＣＳ（２５℃）の間である。同様に轡粘
度の流体を混合して望ましい粘度の流体を形肱してもよ
い。高分子量ガムも使用しうるが、こわらガムは有機溶
剤に溶解してからチオ官能性ポリシロキサンと混合する
ことが好適である。本発明の組成物中に使用されるチオ
官能性ポリシロキサンは、ジシロキサンおよび（または
）ヒドロキシもしくはハイドロカーボンオキシ含有シラ
ンまたはシロキサンを酸触媒の存在下で環式トリシロキ
サンと反応させることにより調製されうる（上記有機ケ
イ素化合物の少なくとも１つはメルカプタン基１個を含
有している）。本発明で使用しうるジシロキサンは次式
で示されうる。
物でよく、ケイ素原子当り平均１．７５から２．２５の
有機基をもつ、好適に流動体のものがよフい。一般に、
オルガノポリシロキサンは末端水酸基のないものが好ま
しいが、少数の末端水酸基は組成物の離型性に著しく影
響を与えない。オルガノポリシロキサンは１個だけの水
酸基をもつ分子少量を有してもよく、または２個以上の
水酸基をもつ分子少量があつてもよいが、上述のように
ァルガノポリシロキサンは実質的に水酸基を含まｔいこ
とが好ましい。ポリシロキサンの粘度は約５〜１，００
０，００■Ｓの間が好ましく、より好適にＣＯ約５０〜
３００，０００ＣＳ（２５℃）の間である。同様に轡粘
度の流体を混合して望ましい粘度の流体を形肱してもよ
い。高分子量ガムも使用しうるが、こわらガムは有機溶
剤に溶解してからチオ官能性ポリシロキサンと混合する
ことが好適である。本発明の組成物中に使用されるチオ
官能性ポリシロキサンは、ジシロキサンおよび（または
）ヒドロキシもしくはハイドロカーボンオキシ含有シラ
ンまたはシロキサンを酸触媒の存在下で環式トリシロキ
サンと反応させることにより調製されうる（上記有機ケ
イ素化合物の少なくとも１つはメルカプタン基１個を含
有している）。本発明で使用しうるジシロキサンは次式
で示されうる。
他方環式シロキサンは次式で示される。ここでＲは同じ
ものでも異なつたものでもよいが、一価炭化水素基また
はノ田ゲン化一価炭化水素基（炭素原子数１８まで）を
表わし、Ｍは式Ｒ″（ＳＲ″″″）ｙ（ここで少なくと
も１個のＲ″″″は水素である）て示される基であり、
ａはＯ〜６の数、ｙは１〜３の数である。
ものでも異なつたものでもよいが、一価炭化水素基また
はノ田ゲン化一価炭化水素基（炭素原子数１８まで）を
表わし、Ｍは式Ｒ″（ＳＲ″″″）ｙ（ここで少なくと
も１個のＲ″″″は水素である）て示される基であり、
ａはＯ〜６の数、ｙは１〜３の数である。
ジシロキサンおよび（または）環式トリシロキサンと反
応させうる有機ケイ素化合物の適当な例は次の一般式の
シランまたは次の一般式のシロキサン であり、ここでＲは炭素原子数１〜１８の一価炭化水素
基またはハロゲン化炭化水素基であり、Ｍは式Ｒ″（Ｓ
Ｒ″″″）ｙ（ここで少なくとも１個のＲ″″″は水素
である）で表わされる基、およびであり、Ｒ″は置換ま
たは未置換の二価、三価まノたは四価の炭化水素基て脂
肪族不飽和結合を含まず炭素原子数１〜１８のもの、炭
化水素エーテル、炭化水素チオエーテル、炭化水素エス
テルまたは炭化水素チオエステル基であり、ここでＲ″
はケイ素一炭素結合を通じてケイ素原子に結合しており
、Ｒ“は水素または炭素原子数１〜１８の一価炭化水素
基であり、Ｒ″″″はＲ″と同じか、または式Ｒ１″′
Ｘにより表わされる基であつて、ｘは
Ｉまたはシアノアルキル基であり、ＲＨは脂肪族不飽和
結合を含まず炭素原子数１〜１８の二価炭化水素基であ
り、Ｙは式Ｒ３ＳｉＯ寺およびの基であり（ここでＲお
よびＲ″は前述と同じ）、ｂはＯ〜３の数、ｃはＯ〜２
の数でｂ＋ｃの和は１〜２、ｄはＯ〜２の数、ｅは１〜
３の数、ｍおよびｎは各々０〜９９９の数に等しく、ｍ
＋ｎの和は少なくとも１である。
応させうる有機ケイ素化合物の適当な例は次の一般式の
シランまたは次の一般式のシロキサン であり、ここでＲは炭素原子数１〜１８の一価炭化水素
基またはハロゲン化炭化水素基であり、Ｍは式Ｒ″（Ｓ
Ｒ″″″）ｙ（ここで少なくとも１個のＲ″″″は水素
である）で表わされる基、およびであり、Ｒ″は置換ま
たは未置換の二価、三価まノたは四価の炭化水素基て脂
肪族不飽和結合を含まず炭素原子数１〜１８のもの、炭
化水素エーテル、炭化水素チオエーテル、炭化水素エス
テルまたは炭化水素チオエステル基であり、ここでＲ″
はケイ素一炭素結合を通じてケイ素原子に結合しており
、Ｒ“は水素または炭素原子数１〜１８の一価炭化水素
基であり、Ｒ″″″はＲ″と同じか、または式Ｒ１″′
Ｘにより表わされる基であつて、ｘは
Ｉまたはシアノアルキル基であり、ＲＨは脂肪族不飽和
結合を含まず炭素原子数１〜１８の二価炭化水素基であ
り、Ｙは式Ｒ３ＳｉＯ寺およびの基であり（ここでＲお
よびＲ″は前述と同じ）、ｂはＯ〜３の数、ｃはＯ〜２
の数でｂ＋ｃの和は１〜２、ｄはＯ〜２の数、ｅは１〜
３の数、ｍおよびｎは各々０〜９９９の数に等しく、ｍ
＋ｎの和は少なくとも１である。
Ｒにより表わされる一価炭化水素基の適当な例はアルキ
ル基たとえばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペン
チル、ヘキシル、オクチル、デシル、オクタデシル；ア
リール基たとえばフェニル、ジフェニルおよびナフチル
；アルカリール基たとえばトリル、キシルおよびエチル
フェニル；アラルキル基たとえばベンジル、α−フェニ
ルエチル、β−フェニルエチル、α−フェニルブチルお
よびシクロアルキル基たとえばシクロブチル、シクロペ
ンチルおよびシクロヘキシル基；ハロゲン化炭化水素基
たとえばクロロメチル、ブロモエチル、フルオロエチル
、テトラフルオロエチル、トリフルオロトリル、ヘキサ
フルオロキシル等々である。
ル基たとえばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペン
チル、ヘキシル、オクチル、デシル、オクタデシル；ア
リール基たとえばフェニル、ジフェニルおよびナフチル
；アルカリール基たとえばトリル、キシルおよびエチル
フェニル；アラルキル基たとえばベンジル、α−フェニ
ルエチル、β−フェニルエチル、α−フェニルブチルお
よびシクロアルキル基たとえばシクロブチル、シクロペ
ンチルおよびシクロヘキシル基；ハロゲン化炭化水素基
たとえばクロロメチル、ブロモエチル、フルオロエチル
、テトラフルオロエチル、トリフルオロトリル、ヘキサ
フルオロキシル等々である。
Ｒ″とＲ″″″″により表わされる二価炭化水素基の適
当な例はエチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ヘ
キサメチレン、オクタメチレン等々である。
当な例はエチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ヘ
キサメチレン、オクタメチレン等々である。
三価および四価炭化水素基の適当な例は式＝される。Ｒ
″により表わされる一価炭化水素基の適当な例はアルキ
ル基たとえばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペン
チル、ヘキシル、オクチル、デシル、オクタデシル；ア
リール基たとえばフェニル、ジフェニルおよびナフチル
；アルカリール基たとえばトリル、キシリルおよびエチ
ルフェニル；アラル基たとえばベンジル、α−フェニル
エチル、β−フェニルエチル、α−フェニルブチルなら
びにシクロアルキル基たとえばシクロブチル、シクロペ
ンチルおよびシクロヘキシル基である。
″により表わされる一価炭化水素基の適当な例はアルキ
ル基たとえばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペン
チル、ヘキシル、オクチル、デシル、オクタデシル；ア
リール基たとえばフェニル、ジフェニルおよびナフチル
；アルカリール基たとえばトリル、キシリルおよびエチ
ルフェニル；アラル基たとえばベンジル、α−フェニル
エチル、β−フェニルエチル、α−フェニルブチルなら
びにシクロアルキル基たとえばシクロブチル、シクロペ
ンチルおよびシクロヘキシル基である。
Ｒ″（ＳＲ″″″）ｙ基の適当な例は、−ＣＨ２ＳＨ、
−Ｃ２ｌｌｉＳＨｌ−Ｃ３Ｈ６ＳＨｌ（ＨＳＣＨ２）２
ＣＨＣＨ２ＣＨ２−、（ＨＳＣＨ２ＣＨ２）（ＨＳＣｌ
Ｉ２）ＣＨ（ＣＨ２）４−、（ＨＳＣＨ２ＣＨ２）３Ｃ
ＣＨ２ＣＨ２−、（ＨＳＣＨ２ＣＨ２）（ＨＳＣＨ２）
ＣＨＣＨ（ＣＨ２ＳＨ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、ＨＳ（
ＣＨ２）５ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＳＨ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ
（ＣＨ２ＣＨ３）−、（ＨＳＣＦＩ２ＣＨ２）２ＣＨＣ
Ｈ２ＣＨ２−、（ＨＳＣＨ２）２ＣＨＳＣＨ２ＣＨ２Ｃ
Ｈ２−、（ＨＳＣＨ２）２（Ｃ２Ｈ５） ＣＣＨ２ＳＣ
Ｈ２ＣＨ２ＣＨ３−（ＨＳＣＨ２）３ＣＣＨ２ＳＣＨ２
ＣＨ２Ｃ［−１２− （ＨＳＣＨ２）（ＨＳＣＨ２Ｃ
Ｈ２ＣＨ２ＣＨ２）ＣＨＳＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、（Ｈ
ＳＣＨ２ＣＨ２）２ＣＨＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２ＣＩ］２
一（ＨＳＣＦ［２）２ （Ｃ２Ｈ５）ＣＣＨ２ＳＣＨ
２ＣＨ２Ｓ（ＣＨ２）３−、（ＨＳＣＨ２）３ＣＣＨ２
Ｓ（ＣＨ２）３Ｓ（ＣＨ２）３−、使用しうるヒドロキ
シおよびハイドロカーボンオキシ含有シランは、３−メ
ルカプトプロピルトリメトキシシラン、２−メルカプト
エチルトリエトキシシラン、ω−メルカプトデシルトリ
エトキシシラン、２−メルカプトヘキシルトリプロポキ
シシラン、ω−メルカプトアミルトリエトキシシラン、
２−（トリエトキシシリル）エチルブチルチオエーテル
、３−（トリエトキシシリル）プロピルブチルチオエー
テル、４−（トリエトキシシリル）ブチルメチルチオエ
ーテル、２−（メチルジエトキシシリル）エチルメチル
チオエーテル、２−（メチルジエトキシシリル）エチル
フェニルチオエーテル、２−（メチルジエトキシシリル
）エチルドデシルチオエーテル、６−（トリメトキシシ
リル）ヘキシルエチルチオエーテル、メチルトリエトキ
シシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエト
キシシラン、ジメチルシランジオール、ジフェニルシラ
ンジオール等々のようなシランである。
−Ｃ２ｌｌｉＳＨｌ−Ｃ３Ｈ６ＳＨｌ（ＨＳＣＨ２）２
ＣＨＣＨ２ＣＨ２−、（ＨＳＣＨ２ＣＨ２）（ＨＳＣｌ
Ｉ２）ＣＨ（ＣＨ２）４−、（ＨＳＣＨ２ＣＨ２）３Ｃ
ＣＨ２ＣＨ２−、（ＨＳＣＨ２ＣＨ２）（ＨＳＣＨ２）
ＣＨＣＨ（ＣＨ２ＳＨ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、ＨＳ（
ＣＨ２）５ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＳＨ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ
（ＣＨ２ＣＨ３）−、（ＨＳＣＦＩ２ＣＨ２）２ＣＨＣ
Ｈ２ＣＨ２−、（ＨＳＣＨ２）２ＣＨＳＣＨ２ＣＨ２Ｃ
Ｈ２−、（ＨＳＣＨ２）２（Ｃ２Ｈ５） ＣＣＨ２ＳＣ
Ｈ２ＣＨ２ＣＨ３−（ＨＳＣＨ２）３ＣＣＨ２ＳＣＨ２
ＣＨ２Ｃ［−１２− （ＨＳＣＨ２）（ＨＳＣＨ２Ｃ
Ｈ２ＣＨ２ＣＨ２）ＣＨＳＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、（Ｈ
ＳＣＨ２ＣＨ２）２ＣＨＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２ＣＩ］２
一（ＨＳＣＦ［２）２ （Ｃ２Ｈ５）ＣＣＨ２ＳＣＨ
２ＣＨ２Ｓ（ＣＨ２）３−、（ＨＳＣＨ２）３ＣＣＨ２
Ｓ（ＣＨ２）３Ｓ（ＣＨ２）３−、使用しうるヒドロキ
シおよびハイドロカーボンオキシ含有シランは、３−メ
ルカプトプロピルトリメトキシシラン、２−メルカプト
エチルトリエトキシシラン、ω−メルカプトデシルトリ
エトキシシラン、２−メルカプトヘキシルトリプロポキ
シシラン、ω−メルカプトアミルトリエトキシシラン、
２−（トリエトキシシリル）エチルブチルチオエーテル
、３−（トリエトキシシリル）プロピルブチルチオエー
テル、４−（トリエトキシシリル）ブチルメチルチオエ
ーテル、２−（メチルジエトキシシリル）エチルメチル
チオエーテル、２−（メチルジエトキシシリル）エチル
フェニルチオエーテル、２−（メチルジエトキシシリル
）エチルドデシルチオエーテル、６−（トリメトキシシ
リル）ヘキシルエチルチオエーテル、メチルトリエトキ
シシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエト
キシシラン、ジメチルシランジオール、ジフェニルシラ
ンジオール等々のようなシランである。
少なくとも１個もしくはそれ以上のアルコキシまたはヒ
ドロキシ基を含有する相当するシロキサンまたはその共
重合体も使用しうる。
ドロキシ基を含有する相当するシロキサンまたはその共
重合体も使用しうる。
これらポリシロキサンの適当な例はモノエトキシ末端ブ
ロックβ−メルカプトエチルプロピルポリシロキサンま
たはメチルジエトキシシリル末端ブロックβーメルカプ
トブチルメチルポリシロキサン、モノヒドロキシ末端ブ
ロックβ−メルカプトエチルメチルポリシロキサン、ジ
ヒドロキシ末端ブロックジメチルポリシロキサン、ジエ
トキシ末端ブロックジメチルポリシロキサン等々である
。ジシロキサンおよび（または）環式トリシロキサンと
共に最初の反応材料の１つとして使用しうるその他のヒ
ドロキシおよび（または）ハイドロカーボンオキシ・ケ
イ素化合物は米国特許第３６５５７１３号に開示されて
いるシラシクロペンタンチオール化合物である。
ロックβ−メルカプトエチルプロピルポリシロキサンま
たはメチルジエトキシシリル末端ブロックβーメルカプ
トブチルメチルポリシロキサン、モノヒドロキシ末端ブ
ロックβ−メルカプトエチルメチルポリシロキサン、ジ
ヒドロキシ末端ブロックジメチルポリシロキサン、ジエ
トキシ末端ブロックジメチルポリシロキサン等々である
。ジシロキサンおよび（または）環式トリシロキサンと
共に最初の反応材料の１つとして使用しうるその他のヒ
ドロキシおよび（または）ハイドロカーボンオキシ・ケ
イ素化合物は米国特許第３６５５７１３号に開示されて
いるシラシクロペンタンチオール化合物である。
適当なジシロキサンの例はヘキサメチルジシロキサン、
ヘキサエチルジシロキサン、ヘキサプロピルジシロキサ
ン、ヘキサオクチルジシロキサ，ン、ジー（３−メルカ
プトプロピル）テトラメチルジシロキサン等々である。
ヘキサエチルジシロキサン、ヘキサプロピルジシロキサ
ン、ヘキサオクチルジシロキサ，ン、ジー（３−メルカ
プトプロピル）テトラメチルジシロキサン等々である。
適当な環式シロキサンの例はヘキサメチルシクロトリシ
ロキサン、ヘキサエチルトリシロキサン、ヘキサフェニ
ルトリシロキサン、ヘキサプチルトリシロキサン、ヘキ
５サオクチルトリシロキサン、１，２，３−トリメチル
ー１，２，３−トリフェニルシクロトリシロキサン等々
である。ジシロキサンおよび（または）ヒドロキシおよ
びもしくは）ハイドロカーボンオキシ含有シラン３もし
くはシロキサンと環式トリシロキサンとの間の反応（こ
こで少なくとも１つの反応材料はメルカプタン基を含有
する）に影響を与えるのに使用されうる触媒は酸性白土
ならびに有機および無機酸で、ＰＫ価１．０以下、より
好適には水溶液中で４，０．７以下のものである。
ロキサン、ヘキサエチルトリシロキサン、ヘキサフェニ
ルトリシロキサン、ヘキサプチルトリシロキサン、ヘキ
５サオクチルトリシロキサン、１，２，３−トリメチル
ー１，２，３−トリフェニルシクロトリシロキサン等々
である。ジシロキサンおよび（または）ヒドロキシおよ
びもしくは）ハイドロカーボンオキシ含有シラン３もし
くはシロキサンと環式トリシロキサンとの間の反応（こ
こで少なくとも１つの反応材料はメルカプタン基を含有
する）に影響を与えるのに使用されうる触媒は酸性白土
ならびに有機および無機酸で、ＰＫ価１．０以下、より
好適には水溶液中で４，０．７以下のものである。
使用しうる適当な酸触媒はベンゾスルホン酸、バラ−ト
ルエンスルホン酸、硫酸、亜硫酸、硝酸、過塩素酸、塩
化水素およびフイルトロール（ＦｌｌｔｒＯｌ）ＮＯ．
ｌ３およびＮＯ．２４（フイルトロール◆コーポレーシ
ョン発売）などの酸性白土である。触媒量は臨界的では
ないが、反応材料、すなわちチオ官能性ポリシロキサン
の製造に使用されるケイ素含有化合物の総重量に対し約
０．００３％から約１０％までの触媒を使用するのが好
適てある。
ルエンスルホン酸、硫酸、亜硫酸、硝酸、過塩素酸、塩
化水素およびフイルトロール（ＦｌｌｔｒＯｌ）ＮＯ．
ｌ３およびＮＯ．２４（フイルトロール◆コーポレーシ
ョン発売）などの酸性白土である。触媒量は臨界的では
ないが、反応材料、すなわちチオ官能性ポリシロキサン
の製造に使用されるケイ素含有化合物の総重量に対し約
０．００３％から約１０％までの触媒を使用するのが好
適てある。
これより多量を使用してもよいが、本発明の意図は生成
する組成物の官能性を変えない触媒系お提供することに
ある。一般的に、反応は完了した後は、触媒の存在が生
成する組成物の物性に悪影響を与えるから、除去するか
破壊することが望ましい。
する組成物の官能性を変えない触媒系お提供することに
ある。一般的に、反応は完了した後は、触媒の存在が生
成する組成物の物性に悪影響を与えるから、除去するか
破壊することが望ましい。
たとえば触媒は水で洗うことにより除去されうるし、ま
た塩基性試薬で中和することにより破壊されうる。さら
門に、酸性白土などの触媒は反応混合物をろ過すること
により除去されうる。反応は約２５℃から約２００℃ま
での範囲の温度で０．時間から数日間の時間にわたり、
また所望により炭化水素溶剤の存在下で導かれうる。
た塩基性試薬で中和することにより破壊されうる。さら
門に、酸性白土などの触媒は反応混合物をろ過すること
により除去されうる。反応は約２５℃から約２００℃ま
での範囲の温度で０．時間から数日間の時間にわたり、
また所望により炭化水素溶剤の存在下で導かれうる。
或る状゛況下で、たとえば無水酸触媒が使用されるとき
は、反応を行うために触媒量のプロトン化合物が要求さ
れる。プロトン化合物という語は活性水素をもつ化合物
、たとえばメタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノールなどのアルコールおよび水を指す。プロトン化
合物の量は臨界的でなく、ケイ素含有反応材の総重量に
基づいて約０．０００１〜１０％の範囲でよい。反応は
大気圧、大気圧以下または大気圧以上で溶剤の存在なし
に行ないうる。
は、反応を行うために触媒量のプロトン化合物が要求さ
れる。プロトン化合物という語は活性水素をもつ化合物
、たとえばメタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノールなどのアルコールおよび水を指す。プロトン化
合物の量は臨界的でなく、ケイ素含有反応材の総重量に
基づいて約０．０００１〜１０％の範囲でよい。反応は
大気圧、大気圧以下または大気圧以上で溶剤の存在なし
に行ないうる。
しかし溶剤を用いるときはケイ素含有反応材の重量に対
し約１〜５０％の量で用いることができる。適当な炭化
水素溶剤の例はヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等々である。しかし、反応は不活性雰囲気内で行なう
のが好ましい。本発明の離型剤組成物に使用しうるその
他のチオ官能性ポリシロキサンは、式で示乃．千干停０
．１〜９９．９モル％と、式（ここでＲとＭは前記と同
じ、ｆは０．１または２、ｇは０．１または２、ｈは１
から２までである）で示される少なくとも１つの他のシ
ロキサン単位９９．９〜０．１モル％とを含有するシロ
キサン共重合体である。
し約１〜５０％の量で用いることができる。適当な炭化
水素溶剤の例はヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等々である。しかし、反応は不活性雰囲気内で行なう
のが好ましい。本発明の離型剤組成物に使用しうるその
他のチオ官能性ポリシロキサンは、式で示乃．千干停０
．１〜９９．９モル％と、式（ここでＲとＭは前記と同
じ、ｆは０．１または２、ｇは０．１または２、ｈは１
から２までである）で示される少なくとも１つの他のシ
ロキサン単位９９．９〜０．１モル％とを含有するシロ
キサン共重合体である。
これら共重合体はＲ″″ＯおよびＲ３ＳｉＯ単位（Ｒ（
５Ｒ″は前記と同じ）をも含有しうる。これらのチオ官
能性ポリシロキサンは、水酸基含有ポリシロキサンをメ
ルカプタン基を含有するシランと反応させることにより
、またはクロロアルキルクロロシラン、ジアルキルクロ
ロシランおよびトリメチルクロロシランを共加水分解さ
せ、ついでクロロアルキル基を含硫化合物と反応させノ
てメルカプタン官能性を有するポリシロキサンを生成さ
せることにより調整されうる。米国特許第３３４６４０
５号に記載されているチオ官能性ポリシロキサンは、ω
−クロロアルキル含有ポリシロキサンがジメチルホルム
アミドの存在下でナトリウムノスルホハイドライドと反
応させられたものであるが、これも本発明の組成物で使
用されうる。本発明の組成物に使用しうるその他のチオ
官能性ポリシロキサンは米国特許第２９６０４９鏝に従
つて調整されたものである。本発明の組成物は、０．１
％から９０％（重量）までのチオ官能性ポリシロキサン
と１０％から約９９．９％（重量）までのオルガノポリ
シロキサンを含有しうる。
５Ｒ″は前記と同じ）をも含有しうる。これらのチオ官
能性ポリシロキサンは、水酸基含有ポリシロキサンをメ
ルカプタン基を含有するシランと反応させることにより
、またはクロロアルキルクロロシラン、ジアルキルクロ
ロシランおよびトリメチルクロロシランを共加水分解さ
せ、ついでクロロアルキル基を含硫化合物と反応させノ
てメルカプタン官能性を有するポリシロキサンを生成さ
せることにより調整されうる。米国特許第３３４６４０
５号に記載されているチオ官能性ポリシロキサンは、ω
−クロロアルキル含有ポリシロキサンがジメチルホルム
アミドの存在下でナトリウムノスルホハイドライドと反
応させられたものであるが、これも本発明の組成物で使
用されうる。本発明の組成物に使用しうるその他のチオ
官能性ポリシロキサンは米国特許第２９６０４９鏝に従
つて調整されたものである。本発明の組成物は、０．１
％から９０％（重量）までのチオ官能性ポリシロキサン
と１０％から約９９．９％（重量）までのオルガノポリ
シロキサンを含有しうる。
好適には、チオ官能性ポリシロキサン約１．０から約３
０％（重量）までとオルガノポリシロキサン７０から９
９％（重量）まで（チオ官能性ポリシロキサンとオルガ
ノポリシロキサンとの重量に対し）を含有する。必須条
件ではないが、本発明の組成物は有機溶剤で希釈して、
０．１〜９９％、より好適には１．０〜２０％（組成物
、すなわち溶剤とシロキサンの重量に対し）を含有する
溶液となしうる。
０％（重量）までとオルガノポリシロキサン７０から９
９％（重量）まで（チオ官能性ポリシロキサンとオルガ
ノポリシロキサンとの重量に対し）を含有する。必須条
件ではないが、本発明の組成物は有機溶剤で希釈して、
０．１〜９９％、より好適には１．０〜２０％（組成物
、すなわち溶剤とシロキサンの重量に対し）を含有する
溶液となしうる。
有機溶剤の適当な例は、脂肪族炭化水素たとえばヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン；芳香族炭化水素たとえばベン
ゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ナフサニ
ハロゲン化炭化水素たとえば塩化メチレン、パークロロ
エチレン、トリクロロエチレン、四塩化炭素；エーテル
およびポリエーテルたとえばジエチルエーテル、ジメチ
ルエーテル、ジブチルエーテル、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエー
テル等々である。好適に、本発明て使用される溶剤は塩
化メチレンまたはパークロロエチレンである。本発明の
組成物で処理しうる金属および合金１ｊド記のもので電
化列のマグネシウムを含む。この合属および合金にはア
ルミニウム、黄銅、青銅、洞、クロム、鉄、マグネシウ
ム、ニッケル、鉛、銀、銀メッキ、純銀、錫、ベリリウ
ム、および亜５ 鉛がある。 本発明の組成物を金属表
面へ適用するのには、連続フィルムの付着をもたらす限
り、業界で公知の方法が使用されうる。
ン、ヘプタン、オクタン；芳香族炭化水素たとえばベン
ゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ナフサニ
ハロゲン化炭化水素たとえば塩化メチレン、パークロロ
エチレン、トリクロロエチレン、四塩化炭素；エーテル
およびポリエーテルたとえばジエチルエーテル、ジメチ
ルエーテル、ジブチルエーテル、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエー
テル等々である。好適に、本発明て使用される溶剤は塩
化メチレンまたはパークロロエチレンである。本発明の
組成物で処理しうる金属および合金１ｊド記のもので電
化列のマグネシウムを含む。この合属および合金にはア
ルミニウム、黄銅、青銅、洞、クロム、鉄、マグネシウ
ム、ニッケル、鉛、銀、銀メッキ、純銀、錫、ベリリウ
ム、および亜５ 鉛がある。 本発明の組成物を金属表
面へ適用するのには、連続フィルムの付着をもたらす限
り、業界で公知の方法が使用されうる。
組成物は浸漬、スプレー、塗布または刷毛塗で金属表面
に適用されうｒ る。被覆された金属は直ちに使用し
てもよく、あるいはたとえば１０００〜約３００′Ｃの
高温に加熱してもよい。加熱工程は離型剤被覆と金属表
面との反応を促進し、或る用途における被覆の不動効果
を改善する。 金属表面に適用される被覆の厚さは臨界
的てなく、非常に薄い皮膜から比較的重厚な被覆、たと
えば０．１インチ（２．５？）まで変化しうる。
に適用されうｒ る。被覆された金属は直ちに使用し
てもよく、あるいはたとえば１０００〜約３００′Ｃの
高温に加熱してもよい。加熱工程は離型剤被覆と金属表
面との反応を促進し、或る用途における被覆の不動効果
を改善する。 金属表面に適用される被覆の厚さは臨界
的てなく、非常に薄い皮膜から比較的重厚な被覆、たと
えば０．１インチ（２．５？）まで変化しうる。
約０．０１〜０．１０インチ（４）．２５〜２．５噸）
の範囲の被覆厚が好適であるが、経済的観点からは僅か
数オングストローム厚の薄い皮膜が使用されうる。一般
に被覆の厚みは適用法により調整されうる。 本発明の
組成物は、熱可塑性プラスチックおよび熱硬化性材料、
たとえばポリウレタン、ポリエチレン、エポキシ樹脂等
々の成型に使用される金．属基材に適用されうる。
の範囲の被覆厚が好適であるが、経済的観点からは僅か
数オングストローム厚の薄い皮膜が使用されうる。一般
に被覆の厚みは適用法により調整されうる。 本発明の
組成物は、熱可塑性プラスチックおよび熱硬化性材料、
たとえばポリウレタン、ポリエチレン、エポキシ樹脂等
々の成型に使用される金．属基材に適用されうる。
周知のポリウレタンは、ゼアウイツチノフ法により測
定される活性水素原子少なくとも２個を有する有機化合
物をポリイソシアネートと反応させることにより製造さ
れる。
定される活性水素原子少なくとも２個を有する有機化合
物をポリイソシアネートと反応させることにより製造さ
れる。
望まれる特定のポリウフレタン製品に応じて、その他の
反応材料、たとえば連鎖延長剤およびガス発生剤も使用
される。たとえば気泡状物質の生成には、水などのガス
発生剤が一般に組成物に混入される。 ポリイソシアネ
ートの適当な例は、アルキレン５ジイソシアネートなど
のジイソシアネートたとえばヘキサメチレンジイソシア
ネートおよびデカメチレンジイソシアネート、ならびに
アリレンジイソシアネートたとえばフエニレンジイソシ
アネート、トルエンジイソシアネートおよびこれらの混
ＦＯ合物である。
反応材料、たとえば連鎖延長剤およびガス発生剤も使用
される。たとえば気泡状物質の生成には、水などのガス
発生剤が一般に組成物に混入される。 ポリイソシアネ
ートの適当な例は、アルキレン５ジイソシアネートなど
のジイソシアネートたとえばヘキサメチレンジイソシア
ネートおよびデカメチレンジイソシアネート、ならびに
アリレンジイソシアネートたとえばフエニレンジイソシ
アネート、トルエンジイソシアネートおよびこれらの混
ＦＯ合物である。
ゼアウイツチノフ法て測定して２つまたはそれ以上の
活性水素をもつ化合物はポリアルキレンポリオールたと
えばポリエステル、ポリエーテル、アルキレングリコー
ル、ポリメルカプタン、ポリアミン等々である。
活性水素をもつ化合物はポリアルキレンポリオールたと
えばポリエステル、ポリエーテル、アルキレングリコー
ル、ポリメルカプタン、ポリアミン等々である。
本発明の組成物はエポキシ樹脂成型の離型剤として使用
しうる。
しうる。
この樹脂は１より大きいオキシラン・エポキシ等価をも
つ、すなわち分子１個当り平均１個以上のオキシラン・
エポキシ基−Ｃ、−７Ｃ一
υをもつ。
つ、すなわち分子１個当り平均１個以上のオキシラン・
エポキシ基−Ｃ、−７Ｃ一
υをもつ。
エポキシ基の酸素が隣接炭素原子についているエポキシ
含有化合物は、飽和または不飽和、脂肪族、シクロ脂肪
族、または複素環式化合物で２５ることができ、かつハ
ロゲン原子、アルキル基、エーテル基等々のような置換
基で置換されうる。適当なポリエポキシドの例は多価フ
ェノールのポリグリシジルエーテル、ビス（ヒドロキシ
フェニル）アルカンのポリグリシジルエーテル、多価ア
ルコールのポリグリシジルエーテル、ポリカルホン酸の
ポリグリシジルエステル、芳香族アミンのポリグリシジ
ル誘導体およびアミノフェノールである。
含有化合物は、飽和または不飽和、脂肪族、シクロ脂肪
族、または複素環式化合物で２５ることができ、かつハ
ロゲン原子、アルキル基、エーテル基等々のような置換
基で置換されうる。適当なポリエポキシドの例は多価フ
ェノールのポリグリシジルエーテル、ビス（ヒドロキシ
フェニル）アルカンのポリグリシジルエーテル、多価ア
ルコールのポリグリシジルエーテル、ポリカルホン酸の
ポリグリシジルエステル、芳香族アミンのポリグリシジ
ル誘導体およびアミノフェノールである。
これらポリエポキシドは硬化剤と反応して硬い不溶不融
性生成物を形成する。
性生成物を形成する。
この硬化剤には、好適に酸性または塩基性の物質、たと
えば多塩基酸およびその無水物、硫黄、窒素、燐または
ハロゲンを含有する酸、ならびにアミン含有化合物など
のような塩基がある。エポキシ樹脂の硬化に使用されう
るその他の硬化剤は三フッ化ホウ素、および三フッ化ホ
ウ素とアミン、エーテル、フェノール等々との錯塩、フ
リーデルクラフツ金属塩たとえば塩化アルミニウム、塩
化亜鉛、ならびにその他の塩、たとえばフ、ツ化ホウ素
酸亜鉛、過塩素酸マグネシウム、ケイフッ化亜鉛；無機
酸およびリン酸などの部分エステルおよびその部分エス
テルでｎ−ブチルオルトチオホスフェート、ジエチルオ
ルトホスフェートおよびヘキサエチルテトラホスフェー
トならびに３活性アミン（または）カルボキシ基を含有
するポリアミドである。
えば多塩基酸およびその無水物、硫黄、窒素、燐または
ハロゲンを含有する酸、ならびにアミン含有化合物など
のような塩基がある。エポキシ樹脂の硬化に使用されう
るその他の硬化剤は三フッ化ホウ素、および三フッ化ホ
ウ素とアミン、エーテル、フェノール等々との錯塩、フ
リーデルクラフツ金属塩たとえば塩化アルミニウム、塩
化亜鉛、ならびにその他の塩、たとえばフ、ツ化ホウ素
酸亜鉛、過塩素酸マグネシウム、ケイフッ化亜鉛；無機
酸およびリン酸などの部分エステルおよびその部分エス
テルでｎ−ブチルオルトチオホスフェート、ジエチルオ
ルトホスフェートおよびヘキサエチルテトラホスフェー
トならびに３活性アミン（または）カルボキシ基を含有
するポリアミドである。
熱硬化性および熱可塑性プラスチック材料は、本発明の
離型剤組成物て表面を被覆した金型に装入され、室温か
ら約２５０゜Ｃまでの温度て硬化さねる。
離型剤組成物て表面を被覆した金型に装入され、室温か
ら約２５０゜Ｃまでの温度て硬化さねる。
４ポリウレタン部品の成型などの或る用途においては、
チオ官能性ポリシロキサンを単独の離型剤として使用し
ても満足な離型性を与える。
チオ官能性ポリシロキサンを単独の離型剤として使用し
ても満足な離型性を与える。
しかしながら、この離型剤は金属表面に残滓を形成する
という欠点があり、これは除去するか、金型を廃棄する
かしなければならない。従つて本発明の組成物を使用す
ることによつて著しい経済的利益が得られる。さらに、
在来のチオ官能性ポリシロキサンを１５０℃から２００
℃の温度で金属基材上に単独の離型剤として使用すると
、残滓形成の速さが実質的に増大し、この残滓は離型性
を損なうか、または成型品の表面を粗面にする。しかし
本発明の離型剤組成物を用いるならば、残滓の形成は生
じフないし、以後の離型性も実質的に損なわない。例１
３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン２８２部（
重量、以下同じ）、水０．５部および酸性白土（フイル
トロール◆コーポレーションより市・販、ＦｌｌｔｒＯ
ｌＮＯｌ３）２５．５部部をヘキサメチルシクロトリシ
ロキサン１２７６部を含有する７０℃に加熱した反応容
器に添加してチオ官能性ポリシロキサンを製造する。
という欠点があり、これは除去するか、金型を廃棄する
かしなければならない。従つて本発明の組成物を使用す
ることによつて著しい経済的利益が得られる。さらに、
在来のチオ官能性ポリシロキサンを１５０℃から２００
℃の温度で金属基材上に単独の離型剤として使用すると
、残滓形成の速さが実質的に増大し、この残滓は離型性
を損なうか、または成型品の表面を粗面にする。しかし
本発明の離型剤組成物を用いるならば、残滓の形成は生
じフないし、以後の離型性も実質的に損なわない。例１
３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン２８２部（
重量、以下同じ）、水０．５部および酸性白土（フイル
トロール◆コーポレーションより市・販、ＦｌｌｔｒＯ
ｌＮＯｌ３）２５．５部部をヘキサメチルシクロトリシ
ロキサン１２７６部を含有する７０℃に加熱した反応容
器に添加してチオ官能性ポリシロキサンを製造する。
容器を１００℃に加熱して、この温度に３時間維持する
。ついで容器内容物を６０゜Ｃに冷やして沖過する。揮
発物を１トール以下において８時間２００℃で留去する
。澄んだ透明な液が得られ、粘度は２５゜Ｃで１０（Ｓ
である。核磁気共鳴分析（ＮＭＲ）で、生成物のＣＨ３
Ｏ：ＨＳＣ３Ｈ６：Ｓ１（ＣＨ３）２のモル比は３：１
：１００であることが示される。生成物のＳＨ含量は約
０．４３％（重）てある。得られた組成物を金属板に厚
いフィルムとして適用し、ポリウレタンフォーム（ＵＳ
ジプサムより市販のエポキシカル・ウレタンＮＯ．ｌ８
５Ｏ゜“Ｂ゛Ｐａｋ）の層を被覆済金属板に当てる。
。ついで容器内容物を６０゜Ｃに冷やして沖過する。揮
発物を１トール以下において８時間２００℃で留去する
。澄んだ透明な液が得られ、粘度は２５゜Ｃで１０（Ｓ
である。核磁気共鳴分析（ＮＭＲ）で、生成物のＣＨ３
Ｏ：ＨＳＣ３Ｈ６：Ｓ１（ＣＨ３）２のモル比は３：１
：１００であることが示される。生成物のＳＨ含量は約
０．４３％（重）てある。得られた組成物を金属板に厚
いフィルムとして適用し、ポリウレタンフォーム（ＵＳ
ジプサムより市販のエポキシカル・ウレタンＮＯ．ｌ８
５Ｏ゜“Ｂ゛Ｐａｋ）の層を被覆済金属板に当てる。
ついで金属板を１００゜Ｃの強制通風オープン内で２分
間加熱し、取り出して冷やす。ついでウレタンの被覆済
金属板への付着度を測る。結果は第１表に示す。反復使
用の後、金型表面上に残滓の堆積が観察される。例２ ３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン３９２部を
、水酸基末端ジメチルポリシロキサン（粘度２５℃て３
５０ＣＳ１水酸基２．４３％重含量）５９２部を含有し
ている反応容器に添加してメルカプト官能性流体を製造
する。
間加熱し、取り出して冷やす。ついでウレタンの被覆済
金属板への付着度を測る。結果は第１表に示す。反復使
用の後、金型表面上に残滓の堆積が観察される。例２ ３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン３９２部を
、水酸基末端ジメチルポリシロキサン（粘度２５℃て３
５０ＣＳ１水酸基２．４３％重含量）５９２部を含有し
ている反応容器に添加してメルカプト官能性流体を製造
する。
反応材料を１時間２００℃に加熱してから１メートル以
下において２時間２００゜Ｃで真空蒸留する。２５℃の
粘度７２．１ＣＳ（７）澄んだ生成物が得られ、これは
ＮＭＲによりＣＨ３Ｏ：ＨＳＣ３Ｈ６：Ｓｌｌ（ＣＨ３
）２のモル比１．５８：１．０：３２．４である。
下において２時間２００゜Ｃで真空蒸留する。２５℃の
粘度７２．１ＣＳ（７）澄んだ生成物が得られ、これは
ＮＭＲによりＣＨ３Ｏ：ＨＳＣ３Ｈ６：Ｓｌｌ（ＣＨ３
）２のモル比１．５８：１．０：３２．４である。
ＳＨ％は約０．７９％（重）である。得られた生成物を
金属板に厚いフィルムとして適用し、例１と同じポリウ
レタンフォームをこの被覆済み金属板に適用する。つい
で金属板を１００℃の強制通風オープン内に２分間入れ
、取り出して冷やす。被覆済み金属板へのウレタン付着
度を測定し、結果を第１表に示す。繰返し使用の後、金
属板上に残滓の堆積が観察される。例３
」 例１に従つて製造したメルカプト官能性流体約１（１）
部をトリメチルシリル末端ブロックジメチルポリシロキ
サン（粘度２５℃で３５０：１Ｓ）９（１）部を混合す
る。
金属板に厚いフィルムとして適用し、例１と同じポリウ
レタンフォームをこの被覆済み金属板に適用する。つい
で金属板を１００℃の強制通風オープン内に２分間入れ
、取り出して冷やす。被覆済み金属板へのウレタン付着
度を測定し、結果を第１表に示す。繰返し使用の後、金
属板上に残滓の堆積が観察される。例３
」 例１に従つて製造したメルカプト官能性流体約１（１）
部をトリメチルシリル末端ブロックジメチルポリシロキ
サン（粘度２５℃で３５０：１Ｓ）９（１）部を混合す
る。
この結果の組成物を金属板に厚いフィルムとして適用し
、ここに例１と同じポリウレタンフォームを適用し、つ
いで１００℃の強制通風オープンに２分間入れて取り出
し、冷やす。
、ここに例１と同じポリウレタンフォームを適用し、つ
いで１００℃の強制通風オープンに２分間入れて取り出
し、冷やす。
ウレタンの付着度を測定し、結果を第１表に示す。繰返
し使用後も、金型表面上に残滓形成は認められない。例
４例２に従つて製造したメルカプト官能性流体約１０σ
部を９（４）部のトリメチルシリル末端ブロックジメチ
ルポリシロキサン（粘度２５℃て３５０ｃＳ）と混合す
る。
し使用後も、金型表面上に残滓形成は認められない。例
４例２に従つて製造したメルカプト官能性流体約１０σ
部を９（４）部のトリメチルシリル末端ブロックジメチ
ルポリシロキサン（粘度２５℃て３５０ｃＳ）と混合す
る。
この結果の組成物を厚いフィルムとして金属板に適用し
、ここに例１と同じポリウレタンフォーム層を適用し、
１００′Ｃの強制通風オープンに２分間入れて取り出し
、冷やす。
、ここに例１と同じポリウレタンフォーム層を適用し、
１００′Ｃの強制通風オープンに２分間入れて取り出し
、冷やす。
ウレタンの付着度を測定し、結果を第１表に示す。例５
（ａ）比較試験として、トリメチルシリル末端ブロック
ジメチルポリシロキサン（２５シＣで３５０ＣＳ）を金
属板に適用し、そこへ例１と同じポリウレタンを適用し
、１００′Ｃの強制通風オープンへ２分間入れて取り出
し、冷やす。
ジメチルポリシロキサン（２５シＣで３５０ＣＳ）を金
属板に適用し、そこへ例１と同じポリウレタンを適用し
、１００′Ｃの強制通風オープンへ２分間入れて取り出
し、冷やす。
ウレタン付着度を測定し、結果を第１表に示す。（ｂ）
比較試験において、例１と同じポリウレタンフォームを
被覆してない金属板に適用し、１００゜Ｃの強制通風オ
ープンに２分間入れ、取り出して冷やす。
比較試験において、例１と同じポリウレタンフォームを
被覆してない金属板に適用し、１００゜Ｃの強制通風オ
ープンに２分間入れ、取り出して冷やす。
ウレタンの付着度を測定し、結果を第１表に示す。例６
例１の手続に従つて製造したチオ官能性流体のフィルム
を金属板に適用し、これを２００℃に２時間加熱し、室
温に冷やしてからウレタン層を適用する点を除いて、例
１の手続を繰返す。
を金属板に適用し、これを２００℃に２時間加熱し、室
温に冷やしてからウレタン層を適用する点を除いて、例
１の手続を繰返す。
ウレタンは容易に金属板から離れるが、金属板上への残
滓の堆積が認められる。例７ 例２の手続を繰返すが、例２に従つて製造したチオ官
能性流体のフィルムを金属板に適用し、ついで２００℃
に２時間加熱し、室温に冷やしてからｊ ウレタン層
を適用する点が異なる。
滓の堆積が認められる。例７ 例２の手続を繰返すが、例２に従つて製造したチオ官
能性流体のフィルムを金属板に適用し、ついで２００℃
に２時間加熱し、室温に冷やしてからｊ ウレタン層
を適用する点が異なる。
ウレタンは容易に金属板から離型するが、残滓の堆積が
認められる。例８ 例３の手続を繰返すが、金属板を例３のブレンドのフ
ィルムで被覆し、２００℃に２時間加熱してから冷やし
てウレタン層を適用する点が異なる。
認められる。例８ 例３の手続を繰返すが、金属板を例３のブレンドのフ
ィルムで被覆し、２００℃に２時間加熱してから冷やし
てウレタン層を適用する点が異なる。
すぐれた離型性が認められ、金属板上の残滓の痕跡も認
められない。例９ 例４の手続を繰返すが、金属板を例４のブレンドのフ
ィルムで被覆し、２００℃に２時間加熱しながら冷やし
てウレタン層を適用する点が異なる。
められない。例９ 例４の手続を繰返すが、金属板を例４のブレンドのフ
ィルムで被覆し、２００℃に２時間加熱しながら冷やし
てウレタン層を適用する点が異なる。
すぐれた離型性が認められ、金属板上に残滓の痕跡も認
められない。例１０ 例３の手続を繰返すが、（社）部のチオ官能性流体をｗ
部のトリメチルシリル末端ブロックジメチルポリシロキ
サン流体（２５゜Ｃで１０（′Ｓ）と混合して金属基材
に適用する点が異なる。
められない。例１０ 例３の手続を繰返すが、（社）部のチオ官能性流体をｗ
部のトリメチルシリル末端ブロックジメチルポリシロキ
サン流体（２５゜Ｃで１０（′Ｓ）と混合して金属基材
に適用する点が異なる。
ウレタン層と被ノ覆済みの金属基材との間に、やはりす
ぐれた離型性が認められる。繰返し使用の後も残滓の堆
積は認められない。例１１ 例３に従つて製造した組成物を金型表面に適用５する。
ぐれた離型性が認められる。繰返し使用の後も残滓の堆
積は認められない。例１１ 例３に従つて製造した組成物を金型表面に適用５する。
下記諸成分を含有するエポキシ樹脂を被覆済みの金型に
注入し、１００゜Ｃに約２時間加熱してから６時間１６
０゜Ｃに昇温する。エポキシ樹脂は容易に金型から離型
する。 成分 部Ｏ エ
ポキシ等量１８１の２，２−ビス（ｐ一 ビドロキシフ
エニル）ペンタンのジグリ シジルエーテル
１００．０ピペリジン
２．０メチル−エンドメチレン●テトラヒド
ロフタル酸無水物 ８５．０同じ
金型で追加離型剤の適用なしに数回エポキシ樹脂の成型
を行なつた後も良好な離型性が認められる。
注入し、１００゜Ｃに約２時間加熱してから６時間１６
０゜Ｃに昇温する。エポキシ樹脂は容易に金型から離型
する。 成分 部Ｏ エ
ポキシ等量１８１の２，２−ビス（ｐ一 ビドロキシフ
エニル）ペンタンのジグリ シジルエーテル
１００．０ピペリジン
２．０メチル−エンドメチレン●テトラヒド
ロフタル酸無水物 ８５．０同じ
金型で追加離型剤の適用なしに数回エポキシ樹脂の成型
を行なつた後も良好な離型性が認められる。
やはり金属表面に残滓の堆積は認められない。例１２
例４に従つて製造した組成物を金型表面に適用すること
を除いて例１１の手続を繰返す。
を除いて例１１の手続を繰返す。
下記諸成分から成る組成物を被覆済みの金型に適用し、
１５０℃の温度に２時間加熱する。 成分
部 液体エポキシ樹脂（ユニオン・カーバイ ド●コーポレーションから４′ＥＲＬ一 ２７４４゛ゝとして市販） １００．
０テトラプロペニル・コナク酸無水物 １５０．０ジメ
チルベンジルアミン １．５かように形
成された固体樹脂成型品は容易に離型する。
１５０℃の温度に２時間加熱する。 成分
部 液体エポキシ樹脂（ユニオン・カーバイ ド●コーポレーションから４′ＥＲＬ一 ２７４４゛ゝとして市販） １００．
０テトラプロペニル・コナク酸無水物 １５０．０ジメ
チルベンジルアミン １．５かように形
成された固体樹脂成型品は容易に離型する。
上記の手続を数回繰返すと、各回ごとに金型表面に残滓
の痕跡を生じることなく成型品は容易に−離型する。
の痕跡を生じることなく成型品は容易に−離型する。
上記の液体エポキシ樹脂は、エピクロルヒドリンとビス
フェノールから製造された多価フェノールのポリグリシ
ジルエーテルで、デユラン＊８（Ｄｕｒｒａｎｓ）融点
１０℃、エポキシ価は１００ダ当り約０．２５エポキシ
ド当量、水酸基価は１００ｙ当り約０．０ｇ＊酸基当量
である。
フェノールから製造された多価フェノールのポリグリシ
ジルエーテルで、デユラン＊８（Ｄｕｒｒａｎｓ）融点
１０℃、エポキシ価は１００ダ当り約０．２５エポキシ
ド当量、水酸基価は１００ｙ当り約０．０ｇ＊酸基当量
である。
例１３
例１の手続を繰返すが、３１部の２−メルカプトエチル
トリエトキシシランの代りに３−メルカプトプロピルト
リメトキシシランを使う。
トリエトキシシランの代りに３−メルカプトプロピルト
リメトキシシランを使う。
この結果の生成物の粘度は２５℃で約９５ＣＳてある。
ＮＭＲ分析によりＣ２Ｈ５Ｏ：ＨＳＣ２Ｈ５：Ｓｉ（Ｃ
Ｈ３）２のモル比フは３：１：９６であると示される。
生成物中のＳＨ％は約０．４１％である。この生成物は
、銅基材に適用してからポリウレタン層を適用したとき
、すぐれた離型性を示す。
ＮＭＲ分析によりＣ２Ｈ５Ｏ：ＨＳＣ２Ｈ５：Ｓｉ（Ｃ
Ｈ３）２のモル比フは３：１：９６であると示される。
生成物中のＳＨ％は約０．４１％である。この生成物は
、銅基材に適用してからポリウレタン層を適用したとき
、すぐれた離型性を示す。
しかしポリウレタン層を繰返し適用した後は銅基・材上
に残滓が認められる。例１４ ２枚の銅板を市販の研磨化合物で十分に洗浄する。
に残滓が認められる。例１４ ２枚の銅板を市販の研磨化合物で十分に洗浄する。
１枚の銅板には例３の組成物を適用し、過剰分は除去す
る。
る。
未処理の銅板は対照として使う。両方の銅板を、硫化ナ
トリウム水溶液に周期的にギ酸を添加して成る湿潤Ｈ２
Ｓ室に入れる。２紛以内に未処理銅板は悪く変色する。
トリウム水溶液に周期的にギ酸を添加して成る湿潤Ｈ２
Ｓ室に入れる。２紛以内に未処理銅板は悪く変色する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 分子当り少なくとも１個のメルカプタン基をもつチ
オ官能性ポリシロキサン流体と、脂肪族不飽和を含まな
いオルガノポリシロキサン流体とを、前者が０．１〜９
０重量％で、後者が９９．９〜１０重量％の割合で含有
する混合物から成る、金属基質上に連続皮膜を形成する
離型性組成物。 ２ 前記チオ官能性ポリシロキサンが、式▲数式、化学
式、表等があります▼ で示される単位を０．１〜９９．９モル％、および式▲
数式、化学式、表等があります▼で示される少なくとも
１つの他のシロキサン単位を９９．９〜０．１モル％有
するシロキサンコポリマーを含有しており、前２式にお
いてＲは一価炭化水素基とハロゲン化一価炭化水素基（
ともに炭素原子数１〜１８）から成る群から選ばれたも
の、Ｍは式Ｒ′（ＳＲ″′）＿ｙの基を含有するメルカ
プタンであり、Ｒ′は置換および未置換の二価、三価お
よび四価の炭化水素基、炭化水素エーテル、炭化水素チ
オエーテル、炭化水素エステルおよび炭化水素チオエス
テルから成る群から選ばれたもので、Ｒ′はケイ素−炭
素結合を通じてケイ素原子に結合し、Ｒ″′は水素、一
価炭化水素基および式Ｒ″″Ｘで示される基から成る群
から選ばれたもの、Ｘは▲数式、化学式、表等がありま
す▼、▲数式、化学式、表等があります▼、ＯＨおよび
シアノアルキル基から成る群から選ばれたもの、Ｒ″″
は脂肪族不飽和を含まない炭素原子数１〜１８の二価炭
化水素基であり、少なくとも１つのＲ″″は水素であり
、ｆは０．１または２、ｇは０．１または２、そしてｙ
は１〜３の数であるところの特許請求の範囲第１項記載
の組成物。 ３ チオ官能性ポリシロキサン流体が、式▲数式、化学
式、表等があります▼ で示される環式トリシロキサンとケイ素化合物とをｐＫ
ａ値１以下の酸触媒の存在下で反応させて得られるもの
で、前記ケイ素化合物は式▲数式、化学式、表等があり
ます▼ で示されるシランと、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示されるシロキサンとから成る群から選ばれたもので
あり、ここでＲは一価炭化水素基とハロゲン化一価炭化
水素基（ともに炭素原子数１〜１８）とから成る群から
選ばれたもの、Ｒ″は水素と一価炭化水素基（炭素原子
数１〜１８）とから成る群から選ばれたもの、Ｍは式Ｒ
′（ＳＲ″′）＿ｙのメルカプタン基であり、Ｒ′は置
換および未置換の二価、三価および四価の炭化水素基（
炭素原子数１〜１８）、炭化水素エーテル、炭化水素チ
オエーテル、炭化水素エステルおよび炭化水素チオエス
テルから成る群から選ばれたもので、Ｒ′はケイ素−炭
素結合を通じてケイ素原子に結合しており、Ｒ″′は水
素、一価炭化水素基および式Ｒ″″Ｘにより示される基
から成る群から選ばれたもの、Ｘは▲数式、化学式、表
等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼、
ＯＨおよびシアノアルキル基から成る群から選ばれたも
の、Ｒ″″は脂肪族不飽和を含まない炭素原子数１〜１
８の二価炭化水素基であり、Ｙは▲数式、化学式、表等
があります▼および▲数式、化学式、表等があります▼ から成る群から選ばれたもので、このＲおよびＲ″は上
述と同じ、Ｒ″′の少なくとも１つは水素であり、ａは
０〜６の数、ｂは０〜３の数、ｃは０〜２の数、そして
ｂ＋ｃの和は１〜２、ｄは０〜２の数、そしてｄが１ま
たは２の時ａ＋ｂ＋ｍの和は少なくとも１であり、ｄが
ゼロの時ａ＋ｂの和は少なくとも１、ｅは１〜３の数、
ｍとｎはともに０〜２０，０００の数に等しく、ｍ＋ｎ
の和は少なくとも１、ｙは１〜３の数であるところの特
許請求の範囲第１項記載の組成物。 ４ 特許請求の範囲第３項記載の組成物であつて、オル
ガノジシロキサンがチオ官能性ポリシロキサン流体の製
造に含まれ、前記オルガノジシロキサンは式▲数式、化
学式、表等があります▼ で示され、ここでＲは炭素原子数１〜１８の一価炭化水
素基であり、Ｍは式Ｒ′（ＳＲ″′）＿ｙのメルカプタ
ン基であり、Ｒ′は置換および未置換の二基、三価およ
び四価の炭化水素基（炭素原子数１〜１８）、炭化水素
エーテル、炭化水素チオエーテル、炭化水素エステルお
よび炭化水素チオエステルから成る群から選ばれたもの
でＲ′はケイ素−炭素結合を通じてケイ素原子に結合し
ており、Ｒ″′は水素、一価炭化水素基および式Ｒ″″
Ｘにより示される基から成る群から選ばれたもの、Ｘは
▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、ＯＨおよび シアノアルキル基から成る群から選ばれたもの、Ｒ″″
は脂肪族不飽和を含まない炭素原子数１〜１８の二価炭
化水素基であり、少なくとも１つのＲ″′は水素であり
、ａは０〜６の数、ｙは１〜３の数であるところの組成
物。 ５ 特許請求の範囲第３項記載の組成物であつて、チオ
官能性ポリシロキサン流体が炭化水素溶剤の存在下で製
造されるところの組成物。 ６ 特許請求の範囲第５項記載の組成物であつて、溶剤
がヘプタンであるところの組成物。 ７ 特許請求の範囲第３項記載の組成物であつて、チオ
官能性ポリシロキサン流体が２００℃までの温度で製造
されるところの組成物。 ８ 特許請求の範囲第３項記載の組成物であつて、チオ
官能性ポリシロキサン流体がプロトン化合物の存在下で
製造されるところの組成物。 ９ 特許請求の範囲第４項記載の組成物であつて、オル
ガノジシロキサンがヘキサメチルジシロキサンであると
ころの組成物。 １０ 特許請求の範囲第４項記載の組成物であつて、ジ
シロキサンがジ（３−メルカプトプロピル）テトラメチ
ルジシロキサンであるところの組成物。 １１ 特許請求の範囲第３項記載の組成物であつて、環
式トリシロキサンがヘキサメチルシクロトリシロキサン
であるところの組成物。 １２ 特許請求の範囲第３項記載の組成物であつて、ケ
イ素化合物がメルカプトアルキルヒドロカルボンオキシ
シランであるところの組成物。 １３ 特許請求の範囲第３項記載の組成物であつて、ケ
イ素化合物がメルカプトプロピルトリメトキシシランで
あるところの組成物。 １４ 特許請求の範囲第１項記載の組成物であつて、不
活性有機溶剤を含有しているところの組成物。 １５ 特許請求の範囲第１項記載の組成物であつて、オ
ルガノポリシロキサンがポリジメチルシロキサン流体で
あるところの組成物。 １６ 特許請求の範囲第１項記載の組成物であつて、チ
オ官能性ポリシロキサン流体が水酸基含有オルガノポリ
シロキサンと少なくとも１つのメルカプタン基を含有す
るシランとの反応から得られるところの組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US64440475A | 1975-12-29 | 1975-12-29 | |
| US644404 | 1984-08-23 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5282956A JPS5282956A (en) | 1977-07-11 |
| JPS6045222B2 true JPS6045222B2 (ja) | 1985-10-08 |
Family
ID=24584777
Family Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51160966A Expired JPS6045222B2 (ja) | 1975-12-29 | 1976-12-28 | チオ官能性ポリシロキサンを含有する組成物 |
| JP3344477A Pending JPS53102364A (en) | 1975-12-29 | 1977-03-28 | Process for giving mold release properties to metal surface |
| JP3344377A Pending JPS5394518A (en) | 1975-12-29 | 1977-03-28 | Method of preventing metal corrosion |
Family Applications After (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3344477A Pending JPS53102364A (en) | 1975-12-29 | 1977-03-28 | Process for giving mold release properties to metal surface |
| JP3344377A Pending JPS5394518A (en) | 1975-12-29 | 1977-03-28 | Method of preventing metal corrosion |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
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| AT (1) | AT358279B (ja) |
| AU (1) | AU506914B2 (ja) |
| BE (1) | BE849895A (ja) |
| CA (1) | CA1073323A (ja) |
| DE (1) | DE2656828C2 (ja) |
| FR (1) | FR2337180A1 (ja) |
| GB (1) | GB1570780A (ja) |
| IT (1) | IT1066797B (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| JPS5695614A (en) * | 1979-12-28 | 1981-08-03 | Kitsudo:Kk | Manufacture of plastic mold for self separating type plastic molding |
| JPS5827809B2 (ja) * | 1980-01-29 | 1983-06-11 | エス ダブリユ エス シリコンス コ−ポレ−シヨン | チオ官能性ポリシロキサンポリマ−とその製造方法 |
| JPS5959759A (ja) * | 1982-09-30 | 1984-04-05 | Pentel Kk | 固形描画材 |
| JPS62109895A (ja) * | 1985-11-06 | 1987-05-21 | Toray Silicone Co Ltd | ゴム用表面処理剤組成物 |
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| WO2007053051A1 (en) * | 2005-11-03 | 2007-05-10 | Oleg Leonidovich Kulikov | Method of processing of a thermoplastic polymeric material, material by using a coated die |
| JP6034170B2 (ja) * | 2012-12-07 | 2016-11-30 | 東芝電子管デバイス株式会社 | Ｘ線管装置及びｘ線管装置の製造方法 |
| CN112831274B (zh) * | 2021-02-24 | 2022-01-28 | 烟台大学 | 一种端巯基聚硅氧烷水性脱模剂 |
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|---|---|---|---|---|
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-
1976
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- 1976-12-15 DE DE2656828A patent/DE2656828C2/de not_active Expired
- 1976-12-20 CA CA268,219A patent/CA1073323A/en not_active Expired
- 1976-12-21 IT IT52712/76A patent/IT1066797B/it active
- 1976-12-23 AU AU20851/76A patent/AU506914B2/en not_active Expired
- 1976-12-23 GB GB53945/76A patent/GB1570780A/en not_active Expired
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- 1976-12-28 BE BE173667A patent/BE849895A/xx not_active IP Right Cessation
- 1976-12-28 FR FR7639237A patent/FR2337180A1/fr active Granted
- 1976-12-28 JP JP51160966A patent/JPS6045222B2/ja not_active Expired
-
1977
- 1977-03-28 JP JP3344477A patent/JPS53102364A/ja active Pending
- 1977-03-28 JP JP3344377A patent/JPS5394518A/ja active Pending
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