JPS6042245Y2 - 燃焼装置 - Google Patents
燃焼装置Info
- Publication number
- JPS6042245Y2 JPS6042245Y2 JP1981055572U JP5557281U JPS6042245Y2 JP S6042245 Y2 JPS6042245 Y2 JP S6042245Y2 JP 1981055572 U JP1981055572 U JP 1981055572U JP 5557281 U JP5557281 U JP 5557281U JP S6042245 Y2 JPS6042245 Y2 JP S6042245Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flame
- combustion
- flame hole
- primary
- nox
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Description
【考案の詳細な説明】
本考案は２段燃焼に保炎帯による接触効果を付与するこ
とにより窒素酸化物（以後ＮＯｘと称す）の発生を抑制
する家庭用の燃焼装置を提供することを目的とする。
とにより窒素酸化物（以後ＮＯｘと称す）の発生を抑制
する家庭用の燃焼装置を提供することを目的とする。
従来、ガスによる家庭用燃焼器具においては予混合燃焼
技術に依存する割合が高いが、これら予混合燃焼器具の
中でもブンゼンバーナ型のものが多い。
技術に依存する割合が高いが、これら予混合燃焼器具の
中でもブンゼンバーナ型のものが多い。
このブンゼンバーナによる燃焼器具から発生されるＮＯ
ｘ量は１１００ｐｐを越えるものが多く、室内開放型燃
焼器具では発生したＮＯｘは室内に蓄積され室内環境を
汚染するという問題を生ずる。
ｘ量は１１００ｐｐを越えるものが多く、室内開放型燃
焼器具では発生したＮＯｘは室内に蓄積され室内環境を
汚染するという問題を生ずる。
近年、ＮＯｘの環境汚染と合せて人体に与える影響から
室内に於るＮＯｘ濃度が注目されてきている中で、開放
型燃焼器具からの高濃度ＮＯｘの排出は重大な問題であ
る。
室内に於るＮＯｘ濃度が注目されてきている中で、開放
型燃焼器具からの高濃度ＮＯｘの排出は重大な問題であ
る。
こうした背景から、本考案では２段燃焼と保炎帯による
接触効果により、ＮＯｘの発生を抑制腰従来の問題点で
ある高濃度のＮＯｘ排出を解消するものである。
接触効果により、ＮＯｘの発生を抑制腰従来の問題点で
ある高濃度のＮＯｘ排出を解消するものである。
以下に本考案の一実施例について、第１図、第２図に基
づいて説明する。
づいて説明する。
気体燃料を噴出するノズル１はバーナ２の混合管人口３
に対向する位置に設け、その際ノズルから噴出される気
体燃料のジェットにより吸引され１次空気量を空気過剰
率ｍが０．６〜０．９になるように混合管入口３の口径
をダンパ等により調整する。
に対向する位置に設け、その際ノズルから噴出される気
体燃料のジェットにより吸引され１次空気量を空気過剰
率ｍが０．６〜０．９になるように混合管入口３の口径
をダンパ等により調整する。
バーナ２の１次炎孔は燃焼室５並びに２次炎孔６を形成
する容器７にて覆われている。
する容器７にて覆われている。
前記容器７内に、保炎用コイル８を１次炎孔４直上の適
当な位置にバーナ２の長手方向に沿い設ける。
当な位置にバーナ２の長手方向に沿い設ける。
上記の如く構成された燃焼装置に於て、混合管内の可燃
性ガスは燃料過濃の状態で１次炎孔４上に流出し、１次
火炎９を形成する。
性ガスは燃料過濃の状態で１次炎孔４上に流出し、１次
火炎９を形成する。
１次火炎９は保炎用コイル８と接触してこれを包み、安
定した火炎が生ずる。
定した火炎が生ずる。
一方、２次空気は２次炎孔６上で供給されるために、燃
焼室５内の未燃ガスは２次炎孔上６で火炎を形威し、２
段燃焼が完結する。
焼室５内の未燃ガスは２次炎孔上６で火炎を形威し、２
段燃焼が完結する。
この結果、１次炎孔４上に形成される１次火炎９中の０
２濃度は従来の火炎に比較して低下し、加えて保炎用コ
イル８の接触効果により還元炎における触媒効果が働（
。
２濃度は従来の火炎に比較して低下し、加えて保炎用コ
イル８の接触効果により還元炎における触媒効果が働（
。
前者の０２濃度低下によりＮｏ発生は抑制され、後者で
は触媒効果にて、火炎中のＮＯとＣＯが反応するため、
Ｎ２とＣＯ２に変化し、Ｎｏの発生は軽減される。
は触媒効果にて、火炎中のＮＯとＣＯが反応するため、
Ｎ２とＣＯ２に変化し、Ｎｏの発生は軽減される。
第３図に具体的効果を示す。
横軸はインプットであり、縦軸はＮＯｘ濃度で、０２＝
０％換算した値を示す。
０％換算した値を示す。
本考案の他の効果として、酸素濃度低下時の１次火炎９
のリフト現象が発生しにくいことが挙げられる。
のリフト現象が発生しにくいことが挙げられる。
２段燃焼単独の場合、１次火炎は燃料過濃状態であるた
めに酸素濃度低下と共にリフトしやすくなり、この状態
ではＣＯが多く発生する可能性がある。
めに酸素濃度低下と共にリフトしやすくなり、この状態
ではＣＯが多く発生する可能性がある。
一方、保炎用コイル８を１次炎孔４上に設けることによ
り１法要のリフトが抑制され、ＣＯの急激な発生を抑え
ることになる。
り１法要のリフトが抑制され、ＣＯの急激な発生を抑え
ることになる。
以上のように本考案の燃焼装置によれば従来の予混合燃
焼用バーナの１次炎孔を燃焼室と２次炎孔とからなる容
器にて覆い、保炎帯を前記１次炎孔上に設けるという簡
単な構成により、ＮＯｘの発生を抑制する効果がある。
焼用バーナの１次炎孔を燃焼室と２次炎孔とからなる容
器にて覆い、保炎帯を前記１次炎孔上に設けるという簡
単な構成により、ＮＯｘの発生を抑制する効果がある。
第１図は本考案の一実施例による燃焼装置の正面図、第
２図は同装置の第１図のＡ −Ａ’線線断断面図第３図
は同装置と従来のバーナによる排出ＮＯｘ濃度の比較図
である。 １・・・・・・ノズル、２・・・・・・バーナ、３・・
・・・・混合管入口、４・・・・・・１次炎孔、５・・
・・・・燃焼室、６・・・・・・２次炎孔、７・・・・
・・容器、訃・・・・・コイル等の保炎体、９・・・・
・・１次火炎、１０・・・・・・２次火炎。
２図は同装置の第１図のＡ −Ａ’線線断断面図第３図
は同装置と従来のバーナによる排出ＮＯｘ濃度の比較図
である。 １・・・・・・ノズル、２・・・・・・バーナ、３・・
・・・・混合管入口、４・・・・・・１次炎孔、５・・
・・・・燃焼室、６・・・・・・２次炎孔、７・・・・
・・容器、訃・・・・・コイル等の保炎体、９・・・・
・・１次火炎、１０・・・・・・２次火炎。
Claims (1)
- 予混合燃焼させるバーナの１次炎孔を燃焼室と２次炎孔
とからなる容器で覆うと共に、前記容器内の１次炎孔の
直上の適当なる高さにコイル等の保炎体をバーナ長手方
向に設けたことを特徴とする燃焼装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1981055572U JPS6042245Y2 (ja) | 1981-04-16 | 1981-04-16 | 燃焼装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1981055572U JPS6042245Y2 (ja) | 1981-04-16 | 1981-04-16 | 燃焼装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57172210U JPS57172210U (ja) | 1982-10-29 |
| JPS6042245Y2 true JPS6042245Y2 (ja) | 1985-12-25 |
Family
ID=29852125
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1981055572U Expired JPS6042245Y2 (ja) | 1981-04-16 | 1981-04-16 | 燃焼装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6042245Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5877225U (ja) * | 1981-11-19 | 1983-05-25 | 三洋電機株式会社 | ガスバ−ナ |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS532969B2 (ja) * | 1974-08-27 | 1978-02-02 | ||
| JPS5321584A (en) * | 1976-08-12 | 1978-02-28 | Toshiba Corp | Wiring system of semiconductor device |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS532969U (ja) * | 1976-06-26 | 1978-01-12 |
-
1981
- 1981-04-16 JP JP1981055572U patent/JPS6042245Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS532969B2 (ja) * | 1974-08-27 | 1978-02-02 | ||
| JPS5321584A (en) * | 1976-08-12 | 1978-02-28 | Toshiba Corp | Wiring system of semiconductor device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57172210U (ja) | 1982-10-29 |
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