JPS6041199A - 光制御方式半導体集積化センサ - Google Patents

光制御方式半導体集積化センサ

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Publication number
JPS6041199A
JPS6041199A JP58148830A JP14883083A JPS6041199A JP S6041199 A JPS6041199 A JP S6041199A JP 58148830 A JP58148830 A JP 58148830A JP 14883083 A JP14883083 A JP 14883083A JP S6041199 A JPS6041199 A JP S6041199A
Authority
JP
Japan
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signal
semiconductor integrated
integrated sensor
sensor
optical
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Pending
Application number
JP58148830A
Other languages
English (en)
Inventor
雄二郎 成瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPS6041199A publication Critical patent/JPS6041199A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の属する技術分野〕 この発明は半導体集積化センサに係り、特に信号の送信
や動作制御を光によって行うことのできる。光tjlJ
御方式生方式半導体集積化センサる。
〔従来技術とその問題点〕
ダイオードやトランジスタにはじまった半導体デバイス
開発の歴史は、今やVLSI(大規模集積回路)に到達
し、一つの究極的段階を迎えようとしている。VLSI
は電子計算機で代表されるエレクトロニクスの分野で大
きなインパクトを与えたことは熱論であるが、一方でセ
ンサ技術の分野へも影響を与えつつある。具体的な例と
してはスマートセンサと呼ばれる半導体センサをあげる
ことができる。このセンサは、Siなどの半導体基板上
に、温度あるいは圧力を検出する領域だけでな(、信号
処理部や増幅部が一体化して集積化されているものであ
る。スマートセンサは従来のセンサと比較して、測定能
力が向上するだけでなく、測定システム全体が簡素化さ
イするなどの特長を有するため、研究開発が盛んに行な
われている現状である。
第1図に、スマートセンナと光伝送系を組み合せた温度
測定システムを示す。このシステムは、温度の測定をス
マートセンサ1で行なう一方で。
計測信号は外部からの電磁誘導雑音を受けに(い光ファ
イバ6によって伝送する方式を採用している。スマート
センサ]には、温度検知部分28.信号処理部分27.
および増幅部2.が集積化されている。電気信号は、増
幅部23で増幅された後に、信号ケーブル3により発光
素子駆動回路4に入力さ41.発光素子5を変調駆動す
る。発光素子5から発せられる光信号は、光ファイバ6
を経て受光素子7により電気信号に変換さ孔、信号処理
回路8により温度信号が再生する。このようにして得ら
れた温度信号は、表示装置9に送られて温度表上述の従
来技術例に示されるように、スマートセンサからの出力
信号は電気信号であるため、光伝送系との接続が容易で
なく発光素子駆動回路の仲介が必要である。また、信号
ケーブル3がらは、電磁誘導雑音が入りやすい。今後の
通信伝送体系の大半を占めると予想されている光伝送系
との接続に際し、このような問題患が存在することは。
現在のスマートセンサの大きな欠点である。
〔発明の目的〕
この発明は上述した従来のスマートセンサ(半導体集積
化センサ)の欠点を改良したもので、光伝送系との接続
が容易である光制御方式半導体集積化センナを提供する
ことを目的とする。
〔発明の概要〕
本鏑明の半導体集積化センサは半導体基板上に測定対象
を検出する領域と信号処理回路を形成しさらに同一基板
上に電気信号を光信号に変換する部分あるいは光信号を
電気信号に変換する部分を形成する。このような基板構
成により、センサとの光による情報交換が可能になる。
〔発明の実施例〕
本発明の実施例を第2図を参照して説明する。
このセンサは、Si基板10上に二つの温度検知部分1
1と12が形成されていて、外部からの倍信号18によ
りどちらも一方の信号を選択して、外部へ元信号エフと
して温度情報を送信することができる。13は信号処理
部分、14は発光素子部分、15は受光素子部分、16
.〜2は光ファイバ、19は受光素子、20は発光素子
、21は増幅器、22は発光素子駆動回路、23はデー
タ処理装置、24はセンサ制御および温度表示装置をそ
孔ぞれ示す。11と12の温度検知部分は、PNP接合
を利用した温度測定部分である。発光素子部分14は、
Siと格子整合のよいZnS をMBE法によりSi基
板10上に形成したもので、電界発光現象により光信号
を送信する。受光素子部分工5はPN接合を利用してフ
ォトダイオードである。受光素子19と発光素子20は
5通常のフォトダイオードとLEDをそれぞイを使用す
ることができる。センサ制御および温度表示装置24は
、温度検知部分の選択を行ったり、データ処理装置23
から得られる信号をもとにして、温度表示をする役割を
有している。
〔発明の効果〕
本発明の半導体集積化センサは、外部との情報交換を光
によって直接的に実行できる。したがって電磁誘導によ
る雑音を受けに(く、信号のS/N比が向上する。また
、将来のブ0ネットワークシステムとの結合が容易であ
って、来るべき光情報化社会に適するセンサである。
〔発明の他の実施例〕
尚、上記実施例において、センサの基板である半導体と
してSiを用いだが、si以外にG a A S基板を
利用することもできる。また半導体基板上に発光素子を
形成する方法さしては、MBE法(Mo1ecular
 Beam Bp:taxy ) ’″:Lり1こ、 
MOCVI)法(Metal Organic Che
mical Vapor Deposition ) 
X−用いることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来例を示した図で、第2図は本発明の実施例
を示した図である。 10・・・Si基板、11.12・・・温度検知部分、
13・・・信号処理部分、14・・・発光素子部分、1
5・・・受光素子部分、16□〜2・・・光ファイバ、
17゜18・・・光信号、19・・・受光素子、20・
・・発光素子、21・・・増11ぶ器、22・・・発光
素子駆動回路、23・・・データ処理装置、24・・・
センサ制御および温度表示装置。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)半導体基板上に測定対象を検知する領域を設ける
    とともに、この検知領域から得られる電気信号を増幅し
    たり信号処理する集積化さ孔た回路部分を設け、さちに
    前記半導体基板の内部あるいは表面に、電気信号を光信
    号に変換する部分あるいは元信号を’4気信号に変換す
    る部分を配設することにより、検知信号を元信号として
    外部に送信したり、もしくは外部からの光信号によって
    センサの動作そ制[面するなどの、光による情報の変換
    が可能であることを特徴とする光tttlJ御方式半導
    体集積化センサ。
  2. (2)半導体基板は、Si単結晶である特許請求の範囲
    第1項記載の光制御方式半導体集積化センサ。
  3. (3)半導体基板は、QaAs単結晶である特許請求の
    範囲第1項記載の光制御方式半導体集積化センサ。
  4. (4)電気信号を光信号に変換する部分は、半導体基板
    上にMBE法あるいはMOCVD法によって形成される
    発光素子である特許請求の範囲第1項記載の光制御方式
    半導体集積化センサ。
JP58148830A 1983-08-16 1983-08-16 光制御方式半導体集積化センサ Pending JPS6041199A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0229990U (ja) * 1988-08-19 1990-02-26
JPH03183825A (ja) * 1989-12-13 1991-08-09 Tobishima Corp 立坑ズリ出し装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5850409B2 (ja) * 1976-04-20 1983-11-10 日本電気株式会社 砒化ガリウムエピタキシヤル薄層の製造方法

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