JPS6041070B2 - Ｎ−テトラヒドロフルフリル−２−メトキシベンズアミド類 - Google Patents
Ｎ−テトラヒドロフルフリル−２−メトキシベンズアミド類Info
- Publication number
- JPS6041070B2 JPS6041070B2 JP13091082A JP13091082A JPS6041070B2 JP S6041070 B2 JPS6041070 B2 JP S6041070B2 JP 13091082 A JP13091082 A JP 13091082A JP 13091082 A JP13091082 A JP 13091082A JP S6041070 B2 JPS6041070 B2 JP S6041070B2
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- JP
- Japan
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- methylene chloride
- group
- tetrahydrofurfuryl
- methoxy
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式
〔式中
ＲＩは水素、メチル基または塩素；
Ｒ２はアミノ基、ニトロ基または
Ｒ３は水素またはメチル基：
Ｒ４はメチル基またはジメチルアミノ基
をそれぞれ表わす。
〕で示される化合物に関する。
上記目的物質（１）は、医薬とりわけ抗消化器濃蕩剤ま
たは向精神薬として有用なべンズアミド議導体（ｍ）（
椿関昭５３−９２７６３号公報）の合成中間体として有
用である。
たは向精神薬として有用なべンズアミド議導体（ｍ）（
椿関昭５３−９２７６３号公報）の合成中間体として有
用である。
本発明化合物（１）は一般式
〔式中、
Ａはヒドロキシ基または反応性基を表わし、ＲＩおよび
Ｒ２は前記と同意義を有する。
Ｒ２は前記と同意義を有する。
〕で示される安息香酸類にテトラヒドロフルフリルアミ
ンを縮合させて得られる。〔式中Ａ，ＲＩおよびＲ２は
前記と同意義を有する。
ンを縮合させて得られる。〔式中Ａ，ＲＩおよびＲ２は
前記と同意義を有する。
〕反応性基としては、塩素、臭素などのハロゲン、トシ
ルオキシなどが例示される。本反応は原料カルボン酸（
０）にＤＣＣ（ジシクロヘキシルカルボジィミド）など
の縮合剤の存在下に適当な溶媒（例えば、塩化メチレン
、ピリジン）中テトラヒドロフルフリルアミンを反応さ
せてもよいが、原料カルボン酸に塩化チオニルなどのハ
ロゲン化剤を反応させて酸ハロゲニド‘こするかトシル
化して一旦反応性議導体に導いたのち、本反応に付せば
よい。
ルオキシなどが例示される。本反応は原料カルボン酸（
０）にＤＣＣ（ジシクロヘキシルカルボジィミド）など
の縮合剤の存在下に適当な溶媒（例えば、塩化メチレン
、ピリジン）中テトラヒドロフルフリルアミンを反応さ
せてもよいが、原料カルボン酸に塩化チオニルなどのハ
ロゲン化剤を反応させて酸ハロゲニド‘こするかトシル
化して一旦反応性議導体に導いたのち、本反応に付せば
よい。
本反応は常法により溶媒（例えば、ベンゼン、トルェン
、塩化メチレン、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロ
フラン）中室温下または加熱下に実施される。ここで得
られたテトラヒドロフルフリル体（１）について、必要
により、ベンゼン環上のニトロ基のアミノ基への還元、
アミノ基のメタンスルホンアミド化、ジメチルスルホン
アミド化など化学修飾を常法によって施してもよい。
、塩化メチレン、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロ
フラン）中室温下または加熱下に実施される。ここで得
られたテトラヒドロフルフリル体（１）について、必要
により、ベンゼン環上のニトロ基のアミノ基への還元、
アミノ基のメタンスルホンアミド化、ジメチルスルホン
アミド化など化学修飾を常法によって施してもよい。
かくして得られる目的物質（１）は、例えば、下記の反
応工程に付して最終ペンズアミド誘導体（ｍ）に誘導さ
れる。
応工程に付して最終ペンズアミド誘導体（ｍ）に誘導さ
れる。
〔式中、ＲＩおよびＲ２は前記と同意義を有する。
〕以下に本発明の実施例を挙げて説明する。
実施例 １
２−メトキシ−４−メチル−５一メタンスルホンアミド
安息香酸２Ｍおよび塩化チオニル２０の【からなる混合
液を２．虫時間還流し、反応液から塩化チオニルを減圧
蟹去する。
安息香酸２Ｍおよび塩化チオニル２０の【からなる混合
液を２．虫時間還流し、反応液から塩化チオニルを減圧
蟹去する。
残簿に乾燥ベンゼン１０の【、トリエチルアミン１．５
夕を加え、さらにテトラヒドロフルフリルアミン８７０
肌および乾燥ベンゼン２ｍ‘からなる混合液を氷冷損梓
下に加え、室温下に１５分間櫨拝する。反応液を炭酸水
素ナトリウムアルカリ性とし、塩化メチレンにて抽出す
る。有機層を水洗し、苦硝で乾燥し、塩化メチレンを蟹
去する。残澄を酢酸エチル／ィソプロピルェーテルで洗
浄し、融点２０７〜２０８．５ｏｏの結晶としてＮ−テ
トラヒドロフルフリルー２−メトキシ−４−メチル−５
−メタンスルホンアミドベンズアミド２．２１夕を得る
。実施例 ２ 実施例１と同様に反応を行い、融点１３９〜１４０ｑＣ
の結晶としてＮーテトラヒドロフルフリルー２−メトキ
シ−５−ニトロベンズアミドを得る。
夕を加え、さらにテトラヒドロフルフリルアミン８７０
肌および乾燥ベンゼン２ｍ‘からなる混合液を氷冷損梓
下に加え、室温下に１５分間櫨拝する。反応液を炭酸水
素ナトリウムアルカリ性とし、塩化メチレンにて抽出す
る。有機層を水洗し、苦硝で乾燥し、塩化メチレンを蟹
去する。残澄を酢酸エチル／ィソプロピルェーテルで洗
浄し、融点２０７〜２０８．５ｏｏの結晶としてＮ−テ
トラヒドロフルフリルー２−メトキシ−４−メチル−５
−メタンスルホンアミドベンズアミド２．２１夕を得る
。実施例 ２ 実施例１と同様に反応を行い、融点１３９〜１４０ｑＣ
の結晶としてＮーテトラヒドロフルフリルー２−メトキ
シ−５−ニトロベンズアミドを得る。
実施例 ３２−メトキシー４ークロルー５ーニトロ安息
香酸を使用して実施例１と同様に反応を行い、融点１６
４〜１６５ｄｏの結晶としてＮ−テトラヒドロフルフリ
ル−２−メトキシー４ークロル−５ーニトロベンズアミ
ド３．８５夕を得る。
香酸を使用して実施例１と同様に反応を行い、融点１６
４〜１６５ｄｏの結晶としてＮ−テトラヒドロフルフリ
ル−２−メトキシー４ークロル−５ーニトロベンズアミ
ド３．８５夕を得る。
上記生成物３．６５夕、濃塩酸３６．５の‘、水１８の
‘、テトラヒドロフラン３６．５の‘およびすず４．１
３夕からなる溶液を５０こ○で２時間加温する。
‘、テトラヒドロフラン３６．５の‘およびすず４．１
３夕からなる溶液を５０こ○で２時間加温する。
反応液から溶媒を蜜去後、氷水を加え水酸化ナトリウム
にて強アルカリ性として塩化メチレンで抽出する。有機
層から不溶物を炉去した後、水洗し、苧硝にて乾燥する
。溶媒を蟹去し、酢酸エチル／エーテルから再結晶して
融点１０９〜１１００○の結晶としてＮーテトラヒドロ
フルフリル−２ーメトキシー４−クロル−５−アミノベ
ンズアミドを得る。上記生成物３．６夕を塩化メチレン
３６の‘、およびトリェチルアミン２．８５のこ溶解し
、これに塩化メシル３．０８夕、塩化メチレン７．２の
‘を氷冷下に加え、３０分間溶媒の沸点程度の温度で加
熱鷹拝する。
にて強アルカリ性として塩化メチレンで抽出する。有機
層から不溶物を炉去した後、水洗し、苧硝にて乾燥する
。溶媒を蟹去し、酢酸エチル／エーテルから再結晶して
融点１０９〜１１００○の結晶としてＮーテトラヒドロ
フルフリル−２ーメトキシー４−クロル−５−アミノベ
ンズアミドを得る。上記生成物３．６夕を塩化メチレン
３６の‘、およびトリェチルアミン２．８５のこ溶解し
、これに塩化メシル３．０８夕、塩化メチレン７．２の
‘を氷冷下に加え、３０分間溶媒の沸点程度の温度で加
熱鷹拝する。
反応液を炭酸水素ナトリウム溶液にて抽出し、塩化メチ
レン層を水洗し、き硝で乾燥後、溶媒を蟹去し、残槍に
１０％水酸化ナトリウム溶液６１奴およびテトラヒドロ
フラン１０机を加えて、５０ｑ０にて１時間１５分櫨拝
する。濃塩酸で酸性として、塩化メチレンで抽出し、水
洗し、苧硝で乾燥後溶媒を留去する。残澄を酢酸エーテ
ル／エーテルで洗浄し、塩化メチレン／酢酸エチルから
再結晶して、融点１５９〜１６００○の結晶としてＮー
テトラヒドロフルフリルー２−メトキシ−４−クロル−
５ーメタンスルホンアミドベンズアミド２．８２夕を得
る。実施例 ４ ２ーメトキシ−４ーメチルー５ーニトロベンゾィルクロ
リド７．０夕、塩化メチレン３５の【およびトリェチル
アミン７．６８夕からなる溶液にテトラヒドロフルフリ
ルアミン４．２３夕、乾燥ベンゼン１１の‘の混合液を
氷冷燈梓下に加える。
レン層を水洗し、き硝で乾燥後、溶媒を蟹去し、残槍に
１０％水酸化ナトリウム溶液６１奴およびテトラヒドロ
フラン１０机を加えて、５０ｑ０にて１時間１５分櫨拝
する。濃塩酸で酸性として、塩化メチレンで抽出し、水
洗し、苧硝で乾燥後溶媒を留去する。残澄を酢酸エーテ
ル／エーテルで洗浄し、塩化メチレン／酢酸エチルから
再結晶して、融点１５９〜１６００○の結晶としてＮー
テトラヒドロフルフリルー２−メトキシ−４−クロル−
５ーメタンスルホンアミドベンズアミド２．８２夕を得
る。実施例 ４ ２ーメトキシ−４ーメチルー５ーニトロベンゾィルクロ
リド７．０夕、塩化メチレン３５の【およびトリェチル
アミン７．６８夕からなる溶液にテトラヒドロフルフリ
ルアミン４．２３夕、乾燥ベンゼン１１の‘の混合液を
氷冷燈梓下に加える。
室温下に２０分間放置した後、水を加え塩化メチレンで
抽出する。三硝で乾燥後、溶媒を留去し、残簿を酢酸エ
チル／ィソプロピルヱーテルにて洗浄し、塩化メチレン
／酢酸エチルより再結晶し、融点１７８〜１７９．５℃
の結晶としてＮ−テトラヒドロフルフリル−２−メトキ
シー４ーメチルー５ーニトロベンズアミド７．１夕を得
る。上記生成物８．１夕を酸化白金８１０の９、メタノ
ール１６２のｏにて常法通り還元処理し、油状物質とし
てＮ−テトラヒドロフルフリル−２ーメトキシー４−メ
チル−５−アミノベンズアミド７．８１夕を得る。
抽出する。三硝で乾燥後、溶媒を留去し、残簿を酢酸エ
チル／ィソプロピルヱーテルにて洗浄し、塩化メチレン
／酢酸エチルより再結晶し、融点１７８〜１７９．５℃
の結晶としてＮ−テトラヒドロフルフリル−２−メトキ
シー４ーメチルー５ーニトロベンズアミド７．１夕を得
る。上記生成物８．１夕を酸化白金８１０の９、メタノ
ール１６２のｏにて常法通り還元処理し、油状物質とし
てＮ−テトラヒドロフルフリル−２ーメトキシー４−メ
チル−５−アミノベンズアミド７．８１夕を得る。
上記生成物５００の９をジメチルスルファモィルクロリ
ド５４３犯９、トリェチルアミン３８２の９および乾燥
ベンゼン１０奴と共に１報時間還流する。
ド５４３犯９、トリェチルアミン３８２の９および乾燥
ベンゼン１０奴と共に１報時間還流する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、 Ｒ＾１は水素、メチル基または塩素； Ｒ＾２はアミノ基、ニトロ基または ▲数式、化学式、表等があります▼ Ｒ＾３は水素またはメチル基； Ｒ＾４はメチル基またはジメチルアミノ基をそれぞれ
表わす。 〕で示される化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13091082A JPS6041070B2 (ja) | 1982-07-26 | 1982-07-26 | Ｎ−テトラヒドロフルフリル−２−メトキシベンズアミド類 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13091082A JPS6041070B2 (ja) | 1982-07-26 | 1982-07-26 | Ｎ−テトラヒドロフルフリル−２−メトキシベンズアミド類 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52094884A Division JPS5822110B2 (ja) | 1977-01-27 | 1977-08-08 | ベンズアミド誘導体の合成法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5838278A JPS5838278A (ja) | 1983-03-05 |
| JPS6041070B2 true JPS6041070B2 (ja) | 1985-09-13 |
Family
ID=15045588
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13091082A Expired JPS6041070B2 (ja) | 1982-07-26 | 1982-07-26 | Ｎ−テトラヒドロフルフリル−２−メトキシベンズアミド類 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6041070B2 (ja) |
-
1982
- 1982-07-26 JP JP13091082A patent/JPS6041070B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5838278A (ja) | 1983-03-05 |
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