JPS6040942A - 水熱反応用x線回折アタツチメント - Google Patents
水熱反応用x線回折アタツチメントInfo
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- JPS6040942A JPS6040942A JP58149379A JP14937983A JPS6040942A JP S6040942 A JPS6040942 A JP S6040942A JP 58149379 A JP58149379 A JP 58149379A JP 14937983 A JP14937983 A JP 14937983A JP S6040942 A JPS6040942 A JP S6040942A
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- JP
- Japan
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- sample
- chamber
- sample chamber
- flexible film
- ray diffraction
- Prior art date
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/20008—Constructional details of analysers, e.g. characterised by X-ray source, detector or optical system; Accessories therefor; Preparing specimens therefor
- G01N23/20025—Sample holders or supports therefor
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、水熱条件下にある結晶性物質のX線回折バ
クーンを得るために用いられるX線回折゛アタッチメン
トに関する。
クーンを得るために用いられるX線回折゛アタッチメン
トに関する。
ある釉の結晶性物質は、室温条件下と水熱条件下とでは
異なっπ結晶構造をもつことが知らnている。したがっ
て、このような物質の水熱条件下における結晶構造を知
るためには、水熱条件下でX線回折バクーンを得ること
が必要となるが、従来のX線回折計では水熱条件下でX
線回折ケ行うことは不1」能であった。
異なっπ結晶構造をもつことが知らnている。したがっ
て、このような物質の水熱条件下における結晶構造を知
るためには、水熱条件下でX線回折バクーンを得ること
が必要となるが、従来のX線回折計では水熱条件下でX
線回折ケ行うことは不1」能であった。
この発明の目的は1通常のX線回折計に取付けることに
より、水熱条件下でX線回折バクーンを容易に得ること
ができる水熱反応用X線回折アタッチメントを提供する
ことを目的としている。
より、水熱条件下でX線回折バクーンを容易に得ること
ができる水熱反応用X線回折アタッチメントを提供する
ことを目的としている。
つぎKこの発明の一実施例について図面を参照して説明
する。第1図において符号1はX線照射用セル部、2は
ホ熱反応用オートクレータ部をそれぞ扛示し、セル部1
の下端に設けた接続部3の下方KX線回折計のゴニオメ
ータ部(図示せず)が接続さnる工うになっている。
する。第1図において符号1はX線照射用セル部、2は
ホ熱反応用オートクレータ部をそれぞ扛示し、セル部1
の下端に設けた接続部3の下方KX線回折計のゴニオメ
ータ部(図示せず)が接続さnる工うになっている。
セル部1は、可撓性フィルム(たとえば厚さ20〜40
ミクロンのテフロン薄膜)からなる窓材4をはさんで加
圧室5に隣接する試料室6と、この試料室6内に光填さ
n’tt試料乞所足の温度に保持する加熱器7と、加圧
室5と外部とを区画し、外部からのX線が試料室6に向
けて透過するのを許容する窓材8とを有する。この窓材
8は、好1しくは。
ミクロンのテフロン薄膜)からなる窓材4をはさんで加
圧室5に隣接する試料室6と、この試料室6内に光填さ
n’tt試料乞所足の温度に保持する加熱器7と、加圧
室5と外部とを区画し、外部からのX線が試料室6に向
けて透過するのを許容する窓材8とを有する。この窓材
8は、好1しくは。
X線透過性と強度にすぐt″LkLk焼結 IJウムシ
リンダからなる。すなわちセル部1は、試料室6を有す
る内部セルと、圧力室5ケ有する外部セルとからなる二
重構造の耐圧容器を構成している。1に押え板9は、板
の試料字側の平面がX線反射面になるように設計さ扛て
おl)窓材4の外側(加圧室側)で試料室6の怒を開閉
するように上下動可能である。窓を閉じた状態で上部の
オートクレーブエリ試料を試料室6に送入して、試料が
押え板に密着した状態に光填さnるように操作する。そ
t’1.に工って試料の加圧室側の曲を常に正しくX線
を反射する位置ににめる重要な働きを有している。測足
時にはX線の入射を妨けないkめに上へ引き上げる。
リンダからなる。すなわちセル部1は、試料室6を有す
る内部セルと、圧力室5ケ有する外部セルとからなる二
重構造の耐圧容器を構成している。1に押え板9は、板
の試料字側の平面がX線反射面になるように設計さ扛て
おl)窓材4の外側(加圧室側)で試料室6の怒を開閉
するように上下動可能である。窓を閉じた状態で上部の
オートクレーブエリ試料を試料室6に送入して、試料が
押え板に密着した状態に光填さnるように操作する。そ
t’1.に工って試料の加圧室側の曲を常に正しくX線
を反射する位置ににめる重要な働きを有している。測足
時にはX線の入射を妨けないkめに上へ引き上げる。
1にオートクレーブ部2は、ヒータ10を備えた加熱炉
11と、この加熱炉11内に収容さ庇π71<熱反応専
用のオートクレーブ12と’a?!し、このオートクレ
ーブ12には外部から操作門徒なパルプVOお工び撹拌
機13が設けらnている。試料は、オートクレーブ12
内における加圧、加熱条件下で水熱反応し、X線測足時
にパルプ■0お工び■1を経て試料室6に送り込′!F
nる。この試料はフィルタ14で濾過さ扛ることで試料
室6内に圧密光項さn、フィルタ14に:通過した液体
はパルプV3Y経て気液セパレータ15に送られ。
11と、この加熱炉11内に収容さ庇π71<熱反応専
用のオートクレーブ12と’a?!し、このオートクレ
ーブ12には外部から操作門徒なパルプVOお工び撹拌
機13が設けらnている。試料は、オートクレーブ12
内における加圧、加熱条件下で水熱反応し、X線測足時
にパルプ■0お工び■1を経て試料室6に送り込′!F
nる。この試料はフィルタ14で濾過さ扛ることで試料
室6内に圧密光項さn、フィルタ14に:通過した液体
はパルプV3Y経て気液セパレータ15に送られ。
液体はパルプv4?:経て排出され、気体はつぎの%
’1にセパレーク16に送られたのち、気体はノくルグ
V10?:、’F′rc液体はV11&それぞれ弁して
外部に排出さ扛る工うになっている。
’1にセパレーク16に送られたのち、気体はノくルグ
V10?:、’F′rc液体はV11&それぞれ弁して
外部に排出さ扛る工うになっている。
−力、不活性ガス(この例ではヘリラムノが)(ルグV
5Y経てオートクレーブ12内に供給さ扛。
5Y経てオートクレーブ12内に供給さ扛。
1にパルプ■6お工び予熱器17ケ経てセル部1の加圧
室5円に供給さfLる工うにたつ“Cいる。加圧室5の
内部は、抵抗管18と)くルプV7t*はV8Yブヤし
て気液セパレータ15に接続さ扛ており、またパルプ1
9をブrして外部に開放できるようになっている。
室5円に供給さfLる工うにたつ“Cいる。加圧室5の
内部は、抵抗管18と)くルプV7t*はV8Yブヤし
て気液セパレータ15に接続さ扛ており、またパルプ1
9をブrして外部に開放できるようになっている。
実際のX線測足の操作工程は、1.ti応ススタート2
、試料室と加圧室の圧力調整、3.試料導入、4.試料
水切り、5.テフロン膜露出、6.テフロン膜押えつけ
、7.X線照射、8.内部セル取外し 9. 、(ルグ
vo、viの経路の洗浄の各工程からなる。名工程にお
けるパルプ■口〜V13の開閉状態を第1表に示す。な
お押え板9は、テフロン膜露出の工程で引上げら扛る。
、試料室と加圧室の圧力調整、3.試料導入、4.試料
水切り、5.テフロン膜露出、6.テフロン膜押えつけ
、7.X線照射、8.内部セル取外し 9. 、(ルグ
vo、viの経路の洗浄の各工程からなる。名工程にお
けるパルプ■口〜V13の開閉状態を第1表に示す。な
お押え板9は、テフロン膜露出の工程で引上げら扛る。
(11反応スタードラ
ヘリウムガスで加圧されたオートクレーブ12内で試料
は加熱され水熱反応を行う。
は加熱され水熱反応を行う。
(2,圧力調整)
パルプV3 、V6 、VOを開き、試料篩6と加圧室
5の圧力をオートクレーブ内圧と等しくする。
5の圧力をオートクレーブ内圧と等しくする。
(3,試料導入)
パルプvo 、viが開か扛、オートクレーブ12内の
試料が試料室6内に導入さ扛、前述の工うf圧密光填さ
扛る。
試料が試料室6内に導入さ扛、前述の工うf圧密光填さ
扛る。
(4,試料水切リノ
パルプVOが閉じ1代IJにパルプv2が開くことにエ
リ、オートクレーブ12内の飽和水蒸気ケ含むヘリウム
カスが試料W6fJ!:通して流扛、こ扛によって試料
室6内の試料の水切りがなさnる。
リ、オートクレーブ12内の飽和水蒸気ケ含むヘリウム
カスが試料W6fJ!:通して流扛、こ扛によって試料
室6内の試料の水切りがなさnる。
(5,テフロン膜露出)
この段階でパルプV4Yとじ押え板9が引上げら扛、テ
フロン膜の窓材4が霧出する。
フロン膜の窓材4が霧出する。
(6,テフロン換弁えつけラ
パルプV2が閉じ、パルプV7 、Vl 0が開きヘリ
ウムガスを流すと抵抗管18の効果によって加圧室5内
の圧力が試料室6内の圧力エリや\上昇し、テフロン膜
の窓材4が試料室6円の試料に押しつけられ、試料をゴ
ニオメータの回転中心に保持する。
ウムガスを流すと抵抗管18の効果によって加圧室5内
の圧力が試料室6内の圧力エリや\上昇し、テフロン膜
の窓材4が試料室6円の試料に押しつけられ、試料をゴ
ニオメータの回転中心に保持する。
(7,X線朋射〕
上記の状態の11でX線照射を行う。
(8内部セル取外しツ
バ+7’VD、V2.V6.V12.V?3以外のパル
プをすべて開き、内部セルケ取外し、フィルタ14を外
す。
プをすべて開き、内部セルケ取外し、フィルタ14を外
す。
(9,VO,Vlの経路の洗浄ノ
パルプV12&開き、パルプV12%−通して供給さr
しる洗浄水でパルプvg、v1の経路馨洗浄し、その後
パルプV12とVl4閉める。
しる洗浄水でパルプvg、v1の経路馨洗浄し、その後
パルプV12とVl4閉める。
再度のX線測定が必賛な場合には、再び内部セルな取付
け、(2,圧力調整)以下の工程?繰返す。
け、(2,圧力調整)以下の工程?繰返す。
Ifc短時間の反応実験の場合には、最初から試料室6
内に試料を光填し、ここで加圧、 JJO熱することに
よって水熱反応な行わせたのちX線測定することが可能
であり、この場合にはオートクレーブ部2は不要になる
。
内に試料を光填し、ここで加圧、 JJO熱することに
よって水熱反応な行わせたのちX線測定することが可能
であり、この場合にはオートクレーブ部2は不要になる
。
第2図は、第1図に示したこの発明のX線回折アタッチ
メントを用いて得られた。ワイラカイト(CaA12S
i4012”2H20)の水熱処理過程における400
,040.004の温度上昇にともなう回折パターンの
変化を示している。この図から、両温条件では明瞭に単
剰晶形であり、三重線の分離は良好であるが、140℃
を越える付近から分離が悲くなり、200℃以上では1
本の鋭いピークとなり1等軸晶糸に転移したと判断され
る。
メントを用いて得られた。ワイラカイト(CaA12S
i4012”2H20)の水熱処理過程における400
,040.004の温度上昇にともなう回折パターンの
変化を示している。この図から、両温条件では明瞭に単
剰晶形であり、三重線の分離は良好であるが、140℃
を越える付近から分離が悲くなり、200℃以上では1
本の鋭いピークとなり1等軸晶糸に転移したと判断され
る。
冷却過程でも同様の状態を経過し、室温では再び加熱前
の状態に戻る。この反応は、速くそして可逆旧であり、
変移型転移反応の特徴を示す。
の状態に戻る。この反応は、速くそして可逆旧であり、
変移型転移反応の特徴を示す。
以上のようにこの発明に工れば、ホ熱条件の11で結晶
物質を水から分離し、飽和水蒸気の雰囲気中でX線測定
を行う操作を容易に実現できるので、ホ熱条件下での結
晶性物置の状態をその1\観察することが1J能である
。使用の温度限界は。
物質を水から分離し、飽和水蒸気の雰囲気中でX線測定
を行う操作を容易に実現できるので、ホ熱条件下での結
晶性物置の状態をその1\観察することが1J能である
。使用の温度限界は。
試料室の窓材(テフロン)膜の安定性に、そして圧力限
界は、加圧室の窓材(焼結ベリリウムシリンダノの強度
にそれぞれ依存するが、250℃。
界は、加圧室の窓材(焼結ベリリウムシリンダノの強度
にそれぞれ依存するが、250℃。
70気圧程度の条件には耐えられるので、多くの水熱反
応に広く利用できる。又、200〜300℃、 50
Kg/cyn程度の条件で使用さ扛る原子炉の冷却水に
よる構成金属材表面のクラッド発生の状態を観察するた
めの手段としても期待される。
応に広く利用できる。又、200〜300℃、 50
Kg/cyn程度の条件で使用さ扛る原子炉の冷却水に
よる構成金属材表面のクラッド発生の状態を観察するた
めの手段としても期待される。
第1図はこの発明の一実施例によるX線回折アタッチメ
ントの概略的縦断面図、第2図は第1図のX線回折アタ
ッチメンドナ用いて得らf’L7cワイラカイトの名温
度におけるX線回折パターン図である。 1・・・セル部、2・・・オートクレーブ部、4・・・
窓材S、5・・・加圧室、6・・・試料室、T・・・加
熱器、8・・・窓材。 9・・・押え板、10・・・ピーク、11・・・加熱炉
、12・・・オートクレーブ、13・・・攪拌機、14
・・・フィルタ、is、is・・・気液セパレータ、1
7・・・ヘリウム予熱炉、18・・・抵抗管。
ントの概略的縦断面図、第2図は第1図のX線回折アタ
ッチメンドナ用いて得らf’L7cワイラカイトの名温
度におけるX線回折パターン図である。 1・・・セル部、2・・・オートクレーブ部、4・・・
窓材S、5・・・加圧室、6・・・試料室、T・・・加
熱器、8・・・窓材。 9・・・押え板、10・・・ピーク、11・・・加熱炉
、12・・・オートクレーブ、13・・・攪拌機、14
・・・フィルタ、is、is・・・気液セパレータ、1
7・・・ヘリウム予熱炉、18・・・抵抗管。
Claims (1)
- (1)可撓性フィルムをはさんで相互に隣接する加圧室
および試料室と、この試料室内に試料を導入する通路と
、この通路に上記試料室の後方において設けたフィルタ
と、上記加圧室内に加圧ガス流体な導入する手段と、上
記加圧室と外部との間に設けられ、外部から照射さnた
X線を上記加圧室お工び上記可撓性フィルムを透過して
上記試料室に導く窓材と前記可撓性フィルムの加圧室側
に上下動可能な押え板とを備えに水熱反応用X線回折ア
タッチメント。 +21 Ti3撓性フイルムなはさんで相互に隣接する
加圧室および試料室と、この試料室内に試料を導入する
通路と、この通路に上記試料室の後方において設けたフ
ィルタと、上記加圧室内に那圧ガス流体?:導入する手
段と、上記加圧室と外部との間に設けられ、外部から照
射され7′CX線を上記加圧室お工び上記可撓性フィル
ムを透過して上記試料室に導く窓側と、前記可撓性フィ
ルムの加圧室側に上下動可能な押え板と、内部に収容さ
れた試料を水熱反応させるためのオートクレーブと、こ
のオートクレーブ内の試料を上記試料嘗忙供給するとき
に開かnるバルブとを備えに水熱反応用X線回折装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58149379A JPS6040942A (ja) | 1983-08-16 | 1983-08-16 | 水熱反応用x線回折アタツチメント |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58149379A JPS6040942A (ja) | 1983-08-16 | 1983-08-16 | 水熱反応用x線回折アタツチメント |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6040942A true JPS6040942A (ja) | 1985-03-04 |
Family
ID=15473842
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58149379A Pending JPS6040942A (ja) | 1983-08-16 | 1983-08-16 | 水熱反応用x線回折アタツチメント |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6040942A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01143976A (ja) * | 1987-11-30 | 1989-06-06 | Nikon Corp | ウエハの検査装置 |
US6104132A (en) * | 1996-03-11 | 2000-08-15 | Hitachi, Ltd. | Color cathode ray tube |
US6307311B1 (en) | 1998-06-26 | 2001-10-23 | Hitachi, Ltd. | Color cathode ray tube having a shadow mask structure |
US6307310B1 (en) | 1996-09-17 | 2001-10-23 | Hitachi, Ltd. | Color cathode-ray tube |
-
1983
- 1983-08-16 JP JP58149379A patent/JPS6040942A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01143976A (ja) * | 1987-11-30 | 1989-06-06 | Nikon Corp | ウエハの検査装置 |
US6104132A (en) * | 1996-03-11 | 2000-08-15 | Hitachi, Ltd. | Color cathode ray tube |
US6278232B1 (en) | 1996-03-11 | 2001-08-21 | Hitachi, Ltd. | Color cathode ray tube |
US6518696B2 (en) | 1996-03-11 | 2003-02-11 | Hitachi, Ltd. | Color cathode ray tube with shadow mask and mask frame having round corners |
US6307310B1 (en) | 1996-09-17 | 2001-10-23 | Hitachi, Ltd. | Color cathode-ray tube |
US6307311B1 (en) | 1998-06-26 | 2001-10-23 | Hitachi, Ltd. | Color cathode ray tube having a shadow mask structure |
US6670743B2 (en) | 1998-06-26 | 2003-12-30 | Hitachi, Ltd. | Color cathode ray tube having a shadow mask structure |
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