JPS6039183A - テレフタルアルデヒドの製造方法 - Google Patents

テレフタルアルデヒドの製造方法

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JPS6039183A
JPS6039183A JP58147327A JP14732783A JPS6039183A JP S6039183 A JPS6039183 A JP S6039183A JP 58147327 A JP58147327 A JP 58147327A JP 14732783 A JP14732783 A JP 14732783A JP S6039183 A JPS6039183 A JP S6039183A
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JP
Japan
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terephthalaldehyde
lower aliphatic
supporting electrolyte
solvent
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Pending
Application number
JP58147327A
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English (en)
Inventor
Tsunesuke Hirashima
平島 恒亮
Ikuzo Nishiguchi
西口 郁三
Yukifumi Goto
後藤 幸文
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
OOSAKASHI
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Osaka City
Original Assignee
OOSAKASHI
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Osaka City
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Publication date
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  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はテレフタルアルデヒドの製造方法に関し、さら
に詳しくは、p−トルアルデヒドジアルキルアセタール
の霜、&[化(二より高収率でテレフタルアルデヒドを
製造する方法シニ関する。
テレフタルアルデヒドは各柚のポリマー、染料。
農薬、医薬およびその他のファインケミカルズや工業薬
品の中間原料として有用であり、広汎な用途と大きな需
要をもっている。
従来のテレフタルアルデヒドの製造方法には多くの方法
が知られているが、−いずれも重大々欠点があり、工業
的には必ずしも有利な方法とは云い難い。従来の方法と
I7ては例えば次のような方法がある。(1)p−キシ
レンの側鎖を直接酸化してテレフタルアルデヒドを得る
方法(米国特許第3,597、485号等)。これは液
相酸化法および接触酸化法のいずれの場合も、選択率お
よび収率が低く、実用性が乏しい。(2)テレフタル酸
ジクロライドをパラジウム系の触媒で還元する方法。こ
れは塵、料および触媒が島価な上に収率も必ずしも冒く
ないので、経済的に廟利な方法とけいえない。(81p
−キシレンと臭累との反応により一旦α、α、α′。
α′−テトラブロムp−キシレンを得た後、硫にで加水
分解する方法(Organic 5ynthesis、
Co11.vo13 、788 (1955) )。こ
れは、最初の臭素化の収率が低い上に、両工程の操作は
煩雑であり、大規模な製造には不適である。同様にp−
キシレンを光塩素化して生成する塩素化キシレンを五酸
化バナジウムを触媒に用いて硝酸酸化する方法(特開昭
56−12332 、特開昭56−34653.特開昭
57−24321 )がある。こtl、け泥1工程の光
塩素化に高圧水鋏灯が必要であり、かつ有毒なcl2を
大量に用いなければ斤らない。また生成物の塩素化キシ
レン混合物は人体に極めて有害と考えられている。
その上、第2工程の硝酸酸化も一般に反応のコントロー
ルが難しく、ときには反応が暴走するなど、工業的規模
での製造には安全性の問題で好ましくない面がある。
本発明者らはこれら従来の製造方法の問題点を改善すべ
く種々検討の結果、無公害な電極反応により高収率でテ
レフタルアルデヒドを得ることに成功し、本発明をなす
に到った。
すなわち、本発明ij電極酸化反応を二よってp −ト
ルアルデヒドジアルキルアセタールがらテレフタルアル
デヒドを製造するものであって、該%L電極酸化反応炭
素1〜4の低級脂肪族アルコールからなる溶媒中、また
Fi該脂肪族アルコールに水または低級脂肪族カルボン
酸(脂肪族基の炭素数1〜4)を加えた混合溶媒中で、
支持電解質の存在下に行ない%該t&酸化反応後加水分
解することを特佑とするものである。
本発明C二おいて、出発物質として用いるp−トルアル
デヒドジアルキルアセタールけ、アルキル基の炭素数1
〜4のものが好ましく、トルアルデヒドをオルトギ酸ア
ルキルまたは対応するアルコールにより酸触媒下でアセ
タール化することによって、はぼ定量的収率で得ること
ができる0また。
p−キシレンを低級脂肪族アルコール−酢酸混合溶媒中
で電極酸化反応させても好収率で得ることができる。
本発明の電極酸化反応I:おいて使用する溶媒は、炭素
数1−4の低級脂肪族アルコールが好ましいが、それに
約20/Iチ以下の水または低級脂肪族カルボン酸(脂
肪族基の炭素数1〜4)を混和した混合溶媒も用いられ
る。低級脂肪族アルコールとしては、例えばメタノール
、エタノール、イソプロパツール、ブタノール等が用い
られ、低級脂肪族カルボン酸としては酢酸、プロピオン
酸等が好適である。これらの溶媒中におけるp−トルア
ルデヒドジアルキルアセタールの濃度は、一般に0.0
5〜0.5モル/lでよく、好ましくは0.1〜0.3
モル/lである。
支持電解質は、カチオン部分がH+、アルカリ金R4は
例えばH9炭素数1〜6のアルキル基など)であり、ア
ニオン部分が過硫酸基5BoB−、スルホ7e基(例え
ばp−)ルエンスルホン酸基Ta0−″。
メタンスルホン酸基MsO−など)、フッ化ホウ素酸基
BF4−、過塩素酸基ClO4″″またはハロゲン基(
例えば、I”’、 Br−、cl−、p−)であるよう
な塩が用いられる。特に好ましいのけ、アニオン部分が
フッ化ホウ素酸基、過塩素酸基、またはフッ素基の場合
である。なかでも収率1反応率、危険性を勘案すると、
フッ化ホウ素酸基が最も好ましい。支持電解質は一般に
0.05〜0.5モル/1.好ましくは0.1〜0.2
モル/lの濃度で用いられる。
電極酸化反応の電檜材料としては、陽極として例えば炭
素(板状または棒状)、白金、または白金で表面被覆し
たもの(例えば白金で表面被偵したチタン)彦どが用い
られ、陰極として例えば炭素(板状または棒状)、銅、
ステンレス、亜鉛。
ニッケル、鉛々どが用いられる。
it極醗化汐応は通常は無隔膜の電1解セル中で行ガわ
れるが、隔膜をもつ電解セル中でも行なわれる。反応温
度は一般≦二5〜45℃の範囲であるが、好ましいのは
15〜35℃である。また電極の電流密度は0.1〜I
QA/dm2の範囲であるが、好ましいのはQ、5〜5
A/dm’である。
上記の名条件で電極酸化反応を行なった後、加水分解を
行なうと、主生成物としてテレフタルアルデヒドが得ら
れ、副生成物としてそのモノアセタールおよびジアセタ
ールが得られる。電極酸化反応の段階ではテレフタルア
ルデヒドは殆んどモノ゛またはジアセタールを形成して
いるが、その後の加水分解処理により遊離のジアルデヒ
ドに移行するものと推定される。加水分解は酸性水溶液
との接触により行なわれる。
本発明の電極酸化反応では、種々の反応条件のうち、特
に溶媒および支持電解質が王生成物の選択率、収率およ
び反応率に大きな影響を及ばずことが明らかになった。
例えば溶媒について述べると、フッ化ホウ素酸ナトリウ
ムを支持電解質として用いた場合、溶媒として氷酢酸を
用いると、通電量が3F1モル(理論量の2倍)に達し
ても電極酸化反応は全く進行せず、原料化合物のトルア
ルデヒドへの加水分解が進行するのみであるが、溶媒と
してメタノールを用いると、反応率80%で反応が進行
し、収率65%でテレ7タルアルデヒド。
収率8チでp−)ルイル酸メチル、収率2%でp−メト
キシメチルベンズアルデヒドがそれぞれ得られた。また
同条件で、溶媒としてメタノール10(チの酢酸を混和
した混合溶媒を用いた場合には、反応率は60q6であ
った。また支持電解質について述べると、溶媒として上
記と同じくメタノールを用い、支持電解質として酢酸ア
ンモン、トリエチルアンモニウムアセテートを用いた場
合、殆んど反応が進行せず、王生成物としてp−)ルイ
ル酸メチルまたは/およびp−メトキシメチルベンズア
ルデヒドが低収率で生成するのみである。
本発明の好ましい態様としては、例えば低級アルコール
、特にメタノールを溶媒として用い、フッ化ホウ素酸塩
、好ましくけフッ化ホウ素酸ナトリウムを支持電解質と
して用いて、p−)ルアルデヒドジアキルアセタール、
好ましくはジメチルアセタールまたはエチレンアセター
ルを炭素陽極およびステンレス陰極で電極酸化するもの
である。
この態様において、テレフタルアルデヒドを60〜65
%の収率で早船することかできる。この際の反応率は8
F1モルの通電量で78〜85チ、消費された原料化合
物を基準にした収率Fi80〜85%であった。
以上述べたように5本発明は入手容易なp−)ルアルデ
ヒドジアルキルアセクールから冒収率でテレフタルアル
デヒドを得ることができ、しかも無公害性でかつ工業的
規模での製造I:適したものである。
次に実施例により本発明を説明する。
実施例1 容愉1507!のビーカー型無隔膜電、解セル内に温度
計と炭素棒(直径7 ta 、長さ150m)4本をと
りつけ、炭素棒のうち3本を陽極に、残り1本を陰極に
する。
メタノール100コ中にフッ化ホウ素酸ナトリウムi、
oty (0,01七ル)とp−)ルアルデヒドジメテ
ルアセタール3.249 (0,02モル)を加え、こ
れを電解セルに入れる。電解セルを水中で冷却して液温
を20〜25℃C保ち、反応液をマグネチツクスクラー
で攪拌しながら、極間電圧5〜15■、定電流値0.2
OA(k流密度1.OA/dm2)の条件下に、8F1
モルの電流量(理論電流1tの200%)を21時間2
4分通電する。
反応終了後、減圧下でメタノールを留去し、残留物を1
O3jiiチ硫酸水溶液約100dH注いで約1時間攪
拌を続ける。生成する白色固体を吸引r過し、冷水で洗
滌した後、呈温にて乾燥する。この固体は殆んどテレフ
タルアルデヒド(純度95〜98%)でおることを標準
品との比較により確認した。
収量1.614(収率60%)。ついでf液を酢酸エチ
ルせたけエチルエーテルで抽1:11 L、 、抽出液
を合一して飽和炭酸水素ナトリウム水でよく洗滌し1ζ
後、硫1汐マグネシウム上で乾燥する。乾燥た1jを沢
別した後、溶媒を留去し、残漬を減圧蒸留する。蒸留留
分をガスクロマトグラフィーおよび各種の分光学的手段
により分析した結果、未反応原料化合物(p−)ルアル
デヒドおよびそのジメチルアセタール:回収率20 %
 ) 、テレフタルアルデヒド(収率5チ)、p−トル
イル醪メチル(1区率8饅)。
p−メトキシメチルベンズアルデヒド(1区率2%)が
含捷れ、その他若干損のテレフタルアルデヒドのジメチ
ルアセタールおよびテトラメチルアセタールが含擾れて
いることが確認さitだ01〜たがってテレフタルアル
デヒドの合計の収率け65%1反応率は80チ、消費さ
ね六原料化合物を基準とするjし率は81チであった。
実施例2 実施例1において、フッ化ホウ素酸ナトリウム0.01
モルの代りに、下記の第1表C:示さil、る化合物を
支持電解質に用いて、他は実施例1と同様な反応条件で
p−)ルアルデヒドジメテルアセタールを′0イ極酸化
し、同様な後処理をして生成物を単離した。反応率およ
び各生成物の収率は下記のとおりである。
第1表 A:テレフタルアルデヒド B:p−)ルイル酸メチル C:p−メトキシメチルベンズアルデヒド実施例3 実施例1において、メタノールの代りにメタノールにi
o%%の酢酸を混合したものを溶媒として用い、それ以
外は同様にして行なった。結果は、反応率60%、テレ
フタルアルデヒドの収率39%。
p−)ルイル酸メチルの収率7%、p−メトキシメチル
ベンズアルデヒドの収率10%であった。
比較例 実施例1において、メタノールの代りに酢酸をM&とし
て用い、それ以外は同様にして行なった。
結果は、反応率0%であり、したがってテレフタルアル
デヒドも副生成物も全く生成しなかった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)p−)ルアルデヒドジアルキルアセタールな、炭
    素数1〜4の低級脂肪族アルコール、−またけ該低級脂
    肪族アルコールおよび水もしくは低級脂肪族カルボンC
    M(脂肪族基の炭素数1〜4)からなる溶媒中で、支持
    電解質の存在下に電極酸化し、ついで加水分解すること
    を特徴とするテレフタルアルデヒドの製造方法。 (2)支持電解質は、カチオン部分が水素、アルカリ金
    用または置換もしくは非置換アンモニウム基であり、ア
    ニオン部分が過硫酸基、スルホン酸基、フッ化ホウ素酸
    基、過塩素酸基またはハロゲン基である化合物である特
    許請求の範囲第1項記載のテレフタルアルデヒドの製造
    方法。 (8) 支持電解質は、カチオン部分がアルカリ金属ま
    たは置換もしくは非置換アンモニウム基であり、アニオ
    ン部分がスルホン酸基、フッ化ホウ素酸基または湿地水
    酸基である化合物である特許請求の範囲第2項記載のテ
    レフタルアルデヒドの製造方法。 (4)混合溶媒中における水もしくは低級脂肪族カルボ
    ン酸の割合は20V/Iチ以下である特許請求の範囲第
    1項記載のテレフタルアルデヒドの製造方法0 (5)溶媒中におけるp−)ルアルデヒドジアルキルア
    セタールの礫度は0.05〜05モル/lである特許請
    求の範囲第1項記載のテレフタルアルデヒドの製造方法
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100657744B1 (ko) 2005-01-26 2006-12-13 주식회사 엘지화학 테레프탈알데히드의 정제방법
WO2008060107A1 (en) * 2006-11-16 2008-05-22 Lg Chem, Ltd. Method for purifying terephthalaldehyde
KR20210122091A (ko) 2020-03-31 2021-10-08 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 가이드 레일 장치, 용접 장치 및 가이드 레일 장치의 분리 방법

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