JPS6039172A - ライニング層形成方法及びその装置 - Google Patents

ライニング層形成方法及びその装置

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JPS6039172A
JPS6039172A JP14658783A JP14658783A JPS6039172A JP S6039172 A JPS6039172 A JP S6039172A JP 14658783 A JP14658783 A JP 14658783A JP 14658783 A JP14658783 A JP 14658783A JP S6039172 A JPS6039172 A JP S6039172A
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JP
Japan
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lining layer
processed
lining
gap
frequency coil
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JP14658783A
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JPS6324071B2 (ja
Inventor
Zenichi Mochizuki
望月 善一
Naotaka Kawaguchi
川口 直孝
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Shibaura Machine Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Machine Co Ltd
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Publication date
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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C6/00Coating by casting molten material on the substrate

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明はシリンダ、軸受なとの各種部材の表面にライニ
ング層を形成する方法及びその装置に関する。
〔発明の技術的背景〕
従来から各S部材の内面或いは外面にライニング層を形
成することにより耐食性、耐摩耗性をもたせるようにし
ている。例えは、クラッチ、ブレーキ、軸受などは常に
その摩擦面が高熱にさらされ、またプラスチック成形機
のスクリュー、シリンダーなどはプラスチック中に含ま
れる腐食性ガス又はセラミックファイバーなどのフィラ
ーにより損傷し易い。このため従来からその用途に応じ
て各種部材の表面に耐食性、耐雄耗性に優れた材料をラ
イニングしている。そして斯るライニング層を形成する
方法として一般に溶射法或いは遠心鋳造法を用いている
〔背景技術の問題点〕
しかしながら、溶射法は長尺部材の内径部にライニング
層を形成するのが困難であり、また遠心鋳造法にあって
は、先ずライニングl−を形成する面が円形となってい
ることが盛装であり、また部材とライニング材との温度
差が大きいと割れが発生するため部材を加熱しなければ
ならず、更にVa造時にガスを巻き込み易く且つ冷却が
緩潰なため巣が発生し易い等の問題がある。
〔発明の目的〕
本発明は上述した従来の問題点を改善すべく成したもの
であり、その目的とするところは、あらゆる形状の部材
に容易にライニングを施すことができ、しかもライニン
グ層自体が巣などの発生のない健全なものとすることが
できるライニング層の形成方法及びその装置を提供する
にある。
〔発明の概要〕
上記目的を達成するために、本発明に保るライニング層
形成方法は、ライニング層を形成しようとする被処理体
表面と型部材との間の隙間に、粉体状のライニング材を
充填せしめ、このライニング材を高周波コイルによって
下方から上方へ向って徐々lこ溶融せしめ、更に浴融し
たライニング材を下方から順に冷却せしめてライニング
層とするようにしたことをその概要とする。
また、ライニング層形成装置は被処理体を載置する支持
台と、被処理体のライニング層を形成しようとする面々
隙間をもって配設される型部材と、この隙間にライニン
グ材を供給する装置と、隙r#iI内のライニング材を
溶融すべく被処理体に沿って昇降動する高周波コイルと
からなることをその概要とする。
〔発明の実施例〕
以下に本発明の実施例を添付図面に基いて説明する◇ 第1図はライニング層形成装置の縦断面図であり、基台
1上にはスプリング2によって支持板3が支持され、こ
の支持板3下面には振動装置4が取付けられるとともに
上面には有底筒状の支持台5が固着されている。そして
支持台5上には回転テーブル6が設けられ、この回転テ
ーブル6を支持台5内のモータ7によって回転するよう
にして(5) いる。前記振動装置4は装置全体に振動を与えて処理さ
れる溶融体の温度の均一化とガス抜きを図るとともに後
述する粉体供給口15をヘッド8の上面周囲に設けたプ
ロジェクションPで振動サ−1# テ粉体の強制散布を
行なうものである。また、モータ7は被処理体17を回
転させてそれと扮体供給部の供給口15との相対的位置
を変化させて隙間19に入る粉体の洛F位置を変えて粉
体の均一散布を図るとともに隙間19内の溶融体の温度
の均一化を図る。前記回転テーブル6の上方ζこは図示
しない支柱によって支持されたヘッド8を設け、このヘ
ッド8には捕り林状の孔9及びこの檜り林状の孔の底部
から二股に分れた孔】0を形成している。そしてヘッド
8と回転テーブル6との間には環状をなす高周波コイル
が昇降動自在に配設されている。
一方、基台1の一側部には支柱12が立設され、この支
柱12の頂部に粉体状ライニング材13を収容した容器
14が取付けられ、この容器14から斜め下方にライニ
ング材13の供給管15が延出され、この供給管J5の
先端部が前記ヘッド8の孔9に臨んで(6) いる。また供給管15の途中にはライニング材の供給調
整弁16を設けている。
以上において、回転テーブル6上に被処理体17を載せ
る。この被処理体17としては例えばプラスチックの射
出成形機或いは押出機のシリンダとする。そして、被処
理体17の内部に型部材][本実施例にあってはインナ
ースリーブ)をセットし、被処理体17の内周面つまり
ライニング層を形成しようとする面と型部材18との間
に隙間19を形成する。尚、被処理体17を回転テーブ
ル6上にtLl’ritするにあたっては、被処理体1
7の外周向と高周波コイル11との間に所定の間隔が保
たれるようにする。
そして被処理体17内に型部材18をセットしたならば
、被処理体17の上端部を前記ヘッド8によって固定す
る。この場合ヘッド8の二股状の孔10を隙間19の上
y@部と一致せしめる。次いで、ヘッド8の上方から孔
9.IOを介して型部材18内にガス導入パイプ加の下
端部を挿入する。
而る後、高周波コイルIJを被処理体17の下部近傍に
位置せしめ、被処理体17の肉厚等に応じて高周波コイ
ルに1〜100KHzの周波数をかけ被処理体17を加
熱する。
そして被処理体17の温度を光温度計によって測定し、
その温度が1100〜1250°Cになったならば、前
記ガス4人パイプ20カら隙間内にCO2、Ar1N2
等の不活性ガスを導入し、隙間】9内を無敵化雰囲気と
するとともに、モータ7によつ゛C回転テーブル6を毎
分Fi−〜200回転の速度で回転し被処理体17の温
度を一屋とする。
また、上記と併行して振動装置4を駆動せしめて被処理
体17を振動させつつ調聚7P16を開とし、隙間19
内に粉体状ライニング材13を一定値づつ連続的に格下
せしめる。ここでライニング材としては、例えばNi 
糸の自溶合金(Ni ; Ba4 Cr13%、Si4
%、84%入Co 糸の自溶合金(Co ; Ba1l
Cr19%、Si8%、B4%)又はこれらの自溶合金
にWC粉体を10〜70襲 の割合で含有せしめてなる
混&粉体等を用いる。
このようにして、啄1用19円に2&Fl、たライニン
グ材13のうち、隙間19の下部まで落下したライニン
グ材13か高周波コイル1]によって加熱せしめられ、
隙間下部にライニング材の溶融帯21を形成する。そし
て、隙間19の下部に溶融帯21が形成されたならば高
周波コイルを徐々に上昇せしめる。すると、溶融帯21
が形成される位置が徐々に上方に移動するとともに、高
周波コイル」1が通過した部分の溶融帯21は冷却凝固
してそこにライニング層が形成される。このようにして
被処理体17の内周面にライニング1flを形成した後
、型部材18を切削加工或いは溶融法により除去するこ
とで製品を得る。
第2図及び第3図は別実施例を示すものCあり、第2図
に示した実施例は被処理体17が円筒状でなく、ライニ
ング層を形成する向が円筒を2つ連ねた如き形状をなし
、内部に2本の型部刷18 、18をセットしている。
また第3図に示す実施例にあっては被処理体17のライ
ニング層を形成する面が、3個の円筒を連ねた如き形状
をなし、内部に3本の型部材18.18 、18をセッ
トしている。また高周波コイル11もそれぞれの被処理
体17の外周部形状(9) に倣った形状となっている。このように本発明方法は、
ライニング層が形成される面の形状及び被処理体17の
形状に左右されず、いかなる形状であっても対応できる
尚、図示例にあっては被処理体の内周面にライニングを
施す場合について説明したが、本発明方法及び装置によ
れば被処理体の外周面にライニングを施すことができる
〔発明の効果〕
以上に説明した如く本発明によれば、被処理体の形状に
左右されず、複雑な形状の部材にもライニングを施すこ
とができ、また形成されるライニング層は、粉体を原料
としているため短時間に溶融し、しかも溶融帯の巾が小
さいため溶融帯中のガスの放出が効果的になされ、結果
として果などの欠陥のないライニング層が得られ、更に
、ライニング層の厚みも任意に設定できる等多くの効果
を奏する。
【図面の簡単な説明】
(10) 第1図は本発明に係るライニング層形成装置の縦断面図
、第2図及び第3図は別実施例を示す横断面図である。 1・・・基台、4・・・振動装置、6・・・回転テーブ
ル、8・・・ヘッド、11・・・高周波コイル、13・
・・粉体状ライニング材、17・・・被処理体、18・
・・型部材、19・・・隙間、21・・・溶融金。 出願人代理人 猪 股 清 (11) 泡2図 章3図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、ライニング層が形成される被処理体表面とこの被処
    理体表面に倣って型部材を配設し、この型部材と被処理
    体表面との間に隙間を形成し、この隙間に上方から粉体
    状ライニング材を落下させ被処理体の周囲に高周波コイ
    ルを配設し、この尚周波コイルによって該隙間のf部か
    ら充填されたライニング材を溶融せしめて溶融帯とし、
    高周波コイルを漸いに上昇させることにより該溶融帯を
    上方へ移動せしめるとともに、高周波コイルが通過した
    部分の溶融帯を冷却してライニング層を形成し、この後
    前記型部材を除去するようにしたことを特徴とするライ
    ニング層形成方法。 2、前記高周波コイルによってライニング材を溶融する
    間、被処理体を振動せしめるようにしたことを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項記載のライニング層形成方法。 3、前記ライニング層の形成は無酸化雰囲気において行
    なうことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のライ
    ニング層形成方法。 4、被処理体を載置する支持台と、この被処理体のライ
    ニング層を形成する面とこの面と隙間を配して配設され
    る型部材と、該隙間に粉体状のライニング材を供給すべ
    く被処理体の上方に配設されるライニング材供給装置と
    、被処理体に沿って昇降動する高周波コイルとを備えた
    ことを特徴とするライニング層形成装置。 5、前記支持台には撮動装置が設けられていることを特
    徴とする特許請求の範囲第4項記載のライニング層形成
    装置。 6、前記隙間内にはガス導入管を介して不活性ガスが充
    填されるようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第
    4項記載のライニング層形成装置。
JP14658783A 1983-08-12 1983-08-12 ライニング層形成方法及びその装置 Granted JPS6039172A (ja)

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JPS6039172A true JPS6039172A (ja) 1985-02-28
JPS6324071B2 JPS6324071B2 (ja) 1988-05-19

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JPH09279362A (ja) * 1996-04-11 1997-10-28 Tokushu Denkyoku Kk 金属部材の表面処理法

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