JPS6038796A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JPS6038796A
JPS6038796A JP58146340A JP14634083A JPS6038796A JP S6038796 A JPS6038796 A JP S6038796A JP 58146340 A JP58146340 A JP 58146340A JP 14634083 A JP14634083 A JP 14634083A JP S6038796 A JPS6038796 A JP S6038796A
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JP
Japan
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write
integrated circuit
channel
memory cell
circuit device
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Application number
JP58146340A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenzo Masuda
増田 健三
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors

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  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

PURPOSE:To make write easy to make high integration, operations with a low voltage, and high-speed write possible by providing a power switch MOSFET for a CMOS flip flop of a memory cell and turning off the power switch at a write time. CONSTITUTION:The memory cell consists of a CMOSFF where inputs and outputs of CMOS inverters consisting of n type MOSFETs and p type MOSFETs Q1, Q2, Q3, and Q4 are cross-connected. The power switch consisting of p type MOSFETs Q7 and Q8 is provided between FETs Q2 and Q4 and a power source voltage VDD, and FETs Q7 and Q8 are turned off by a write control signal we which is set to the high level at a write time. Thus, the input impedance of the memory cell is high, and inverting write is performed easily and surely with a low voltage through transmitting gate MOSFETs Q5 and Q6 having low conductance characteristics and a column switch MOSFET, etc. As the result, high integration, operations with a low voltage, and high-speed write are possible in this semiconductor integrated circuit device.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、半導体集積回路装置に関するもので、例え
ば、0MO3(相補形MO3)回路で構成されたRAM
 (ランダム・アクセス・メモリ)を含み、1.5ボル
ト系の電池電圧で動作する半導体集積回路装置に有効な
技術に関するものである。
Detailed Description of the Invention [Technical Field] The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, and for example, a RAM configured with an 0MO3 (complementary MO3) circuit.
The present invention relates to a technology effective for semiconductor integrated circuit devices including random access memory (random access memory) and operating with a battery voltage of 1.5 volts.

〔背景技術〕[Background technology]

pチャンネルMO3FET (絶縁ゲート形電界効果ト
ランジスタ)とnチャンネルMO3FETとで構成され
、入力と出力とを互いに交差結線された一対のCMOS
インバータと、その一対の入出力端子と一対の相補デー
タ線との間にそれぞれ設けられた伝送ゲートMO3FE
Tとからなるメモリセルを用いたCMOSスタティック
型RAMが公知である(1977年5月2日号の日経エ
レクトロニクス誌の頁48〜頁64参ff1)。
A pair of CMOS devices consisting of a p-channel MO3FET (insulated gate field effect transistor) and an n-channel MO3FET, whose inputs and outputs are cross-wired to each other.
A transmission gate MO3FE is provided between the inverter, its pair of input/output terminals, and its pair of complementary data lines.
A CMOS static type RAM using a memory cell consisting of T is well known (see May 2, 1977 issue of Nikkei Electronics magazine, pages 48 to 64 ff1).

このCMOSスタティック型RAMを含む半導体集積回
路装置を1.5ボルト系の電池電圧で動作させるとき、
次のような問題の生じることが本願発明者によって明ら
かにされた。すなわち、上記のような低電圧のもとでは
、上記メモリセルを構成するCMOSフリップフロップ
の反転書込みが不能になる場合がある。なぜなら、上記
フリップフロップを反転させるためには、オン状態とな
っているフリップフロップ回路のMOSFETのコンダ
クタンス特性に比べて、伝送ゲートMOS FETと反
転書込み信号を形成する駆動MO3FE′rの直列コン
ダクタンス特性を大きくする必要がある。しかし、伝送
ゲー)MOSFETのソース側は上記駆動MO3FET
のオン抵抗により浮き上がるので、基板効果によって実
質的なしきい値電圧が大きくなる。したがって、伝送ゲ
ー)MOSFETのコンダクタンス特性を大きくするた
めにはそのセルサイズを大きくしなければならないが、
このためにはメモリセルのサイズが大きくなって集積度
が極端に低下するため到底実用に供しえなくなってしま
うからである。
When operating a semiconductor integrated circuit device including this CMOS static type RAM with a battery voltage of 1.5 volts,
The inventor of the present application has revealed that the following problem occurs. That is, under such a low voltage as described above, inversion writing of the CMOS flip-flop constituting the memory cell may become impossible. This is because, in order to invert the above-mentioned flip-flop, the series conductance characteristic of the transmission gate MOS FET and the drive MO3FE'r that forms the inverted write signal must be changed compared to the conductance characteristic of the MOSFET of the flip-flop circuit that is in the on state. It needs to be bigger. However, the source side of the transmission game) MOSFET is the drive MO3FET mentioned above.
The on-resistance causes the substrate effect to increase the actual threshold voltage. Therefore, in order to increase the conductance characteristics of a transmission MOSFET, the cell size must be increased.
This is because the size of the memory cell becomes large and the degree of integration is extremely reduced, making it impossible to put it to practical use.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

この発明の目的は、高集積度と低電圧動作とを実現した
CMOSスタティック型RAMを含む半導体集積回路装
置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device including a CMOS static RAM that achieves high integration and low voltage operation.

この発明の他の目的は、高速書込みを実現したCMOS
スタティック型RAMを含む半導体集積回路装置を提供
するこ−とにある。
Another object of the invention is to provide a CMOS that realizes high-speed writing.
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device including a static type RAM.

この発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
この明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。
The above and other objects and novel features of this invention include:
It will become clear from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、メモリセルを構成するCMOSフリップフロ
ップに選択的に電圧供給を行うパワースイッチMOS 
F ETを設けて、このパワースイッチMOS F E
Tを書込み動作のときにオフ状態にすることによって、
メモリセルへの書込みを容易にするものである。
In other words, a power switch MOS that selectively supplies voltage to a CMOS flip-flop that constitutes a memory cell.
FET is provided, and this power switch MOS FET
By turning T off during a write operation,
This facilitates writing into memory cells.

〔実施例〕〔Example〕

第1図には、特に制限されないが、1チツプのマイクロ
コンピュータ等の情報処理装置に内蔵さ場合の一実施例
の回路図が示されている。特に制限されないが、同図の
RAMは、公知のCMOS(相補型MO3)集積回路(
IC)の製造技術によって1個のシリコン単結晶のよう
な半導体基板上にマイクロコンピュータ等を構成する他
の回路とともに形成される。
FIG. 1 shows a circuit diagram of an embodiment in which the present invention is incorporated in an information processing device such as a one-chip microcomputer, although the present invention is not particularly limited thereto. Although not particularly limited, the RAM in the figure may be a known CMOS (complementary MO3) integrated circuit (
It is formed along with other circuits constituting a microcomputer or the like on a single semiconductor substrate such as a silicon single crystal using the manufacturing technology of IC.

メモリセルMCは、第2図に示すようにnチャンネルM
O3FETQI (Q3)とpチャンネルMO3FET
Q2 (Q4)とで構成されたCMOSインバータの入
力と出力とが互いに交差結線されたフリップフロップ回
路と、その一対の入出力端子とデータ線(又はディジッ
ト線) D、 Dとの間に設けられたnチャンネル間O
8FETで構成された伝送ゲートMO3FETQ5.Q
6とで構成される。また、この実施例では、低電圧であ
っても書込みが容易にできるようにするため、上記pチ
ャンネルMO3FETQ、2.Q4と電源電圧VDDと
の間にpチャンネルMO3FETQ7.Q8で構成され
たパワースイッチが設けられる。特に制限されないが、
これら(7)MO3FETQ7゜Q8のゲートは、後述
する同一の行に配置されたメモリセルMC間で一体的に
形成されたポリシリコン層が利用される。
The memory cell MC is an n-channel M as shown in FIG.
O3FETQI (Q3) and p-channel MO3FET
Q2 (Q4) is provided between a flip-flop circuit in which the input and output of a CMOS inverter are cross-wired to each other, and its pair of input/output terminals and data lines (or digit lines) D and D. between channels
Transmission gate MO3FETQ5 composed of 8FETs. Q
It consists of 6. Further, in this embodiment, in order to easily perform writing even at a low voltage, the p-channel MO3FETQ, 2. A p-channel MO3FET Q7.Q4 is connected between Q4 and the power supply voltage VDD. A power switch consisting of Q8 is provided. Although not particularly limited,
For the gates of these (7) MO3FETs Q7°Q8, a polysilicon layer integrally formed between memory cells MC arranged in the same row, which will be described later, is used.

第1図に示すように、上記構成の複数のメモリセルMC
は、マトリックス状に配置される。すなわち、同じ行に
配置されたメモリセルの伝送ゲート型MO3FETQ5
.Q6等のゲートは、それぞれ対応するワード線wl及
びw2に共通に接続され、同じ列に配置されたメモリセ
ルの入出力端子は、それぞれ対応する一対の相補データ
線(又はビット線)DO,DO及びDI、DIに接続さ
れる。
As shown in FIG. 1, a plurality of memory cells MC with the above configuration
are arranged in a matrix. In other words, the transmission gate type MO3FETQ5 of the memory cells arranged in the same row
.. Gates such as Q6 are commonly connected to corresponding word lines wl and w2, and input/output terminals of memory cells arranged in the same column are connected to a pair of corresponding complementary data lines (or bit lines) DO, DO, respectively. and DI, connected to DI.

第1図において、ワード線w1は、Xアドレスデコーダ
X−DCRで形成された選択信号を受ける駆動回路とし
てのインバータDVによって選択される。他のワード線
w2についても同様である。
In FIG. 1, word line w1 is selected by an inverter DV serving as a drive circuit that receives a selection signal generated by an X address decoder X-DCR. The same applies to the other word line w2.

上記XアドレスデコーダX−DCRは、特に制限されな
いが、縦型ROM (リード・オンリー・メそり)によ
って構成される。すなわち、同図の縦方向に走る入力線
と横方向に走る出力線との交点に0印で示した箇所にメ
モリセルとしてのエンハンスメント型MO3FETが形
成され、O印のない箇所にはディプレッション型MO3
FETが形成される。これらのメモリセルを構成するM
O3F E Tは、nチャンネルMO3FETによって
構成される。このようなMOS F ETが横方向に直
列形態に接続され、その一端と電源電圧VDDとの間に
プリチャージ手段としてのpチャンネル間O5FETが
接続され、上記直列形態の他端と回路の接地電位との間
にディスチャージ手段としてのnチャンネルMO3FE
Tが接続されている。
The X-address decoder X-DCR is configured by a vertical ROM (read-only memory), although it is not particularly limited. That is, an enhancement type MO3FET as a memory cell is formed at the intersection of an input line running in the vertical direction and an output line running in the horizontal direction as a memory cell, and a depletion type MO3FET is formed at a place without an O mark.
A FET is formed. M that constitutes these memory cells
O3FET is constituted by an n-channel MO3FET. Such MOS FETs are connected in series in the horizontal direction, and a p-channel inter-channel O5FET as a precharging means is connected between one end of the MOS FET and the power supply voltage VDD, and the other end of the series structure is connected to the ground potential of the circuit. n-channel MO3FE as a discharge means between
T is connected.

そして、上記プリチャージMO3FETとの接続端から
出力信号(ワード線選択信号)を送出するものである。
Then, an output signal (word line selection signal) is sent out from the connection end with the precharge MO3FET.

このXアドレスデコーダX−DCHニハ、アドレス信号
xO2χ1と、インバータIVで反転されたアドレス信
号;0. ;tとの相補アドレス信号が供給される。
This X address decoder ;A complementary address signal with t is supplied.

上記メモリアレイにおける一対のデータ線DO。A pair of data lines DO in the memory array.

DO及びDl、Diは、それぞれデータ線選択のための
伝送ゲートMO3FETQ9.QIO及びQll、Q1
2から構成されたカラムスイッチ回路を介してコモンデ
ータ線CD、CDに接続される。このコモンデータ線C
D、CDには、読み出し回路RAの入力端子と、書込み
回路WAの出力端子が接続される。書込み回路WAは、
特に制限されないが、書込みデータと制御信号iとを受
ける組合せ論理回路LOGにより制御されるpチャンネ
ルMO3FETQ17とnチャンネルMO5FETQ1
8とで構成された3状態出力MO3FETが利用される
。すなわち、上記組合せ論理回路LOGにより、書込み
動作以外のとき、その制御信号1がハイレベルによって
上記M OS FETQ17.QlBが共にオフ状態に
される。そして、書込み動作時に、上記制御信号石がロ
ウレベルになることにより、書込みデータに従ってMO
3FETQ17又はQlBがオン状態になって、コモン
データ線CDをハイレベル又はロウレベルとする。他の
コモンデータ線5についても、上記同様な3状態出力M
O5FETが設けられ、書込み動作のとき、上記コモン
データ線CDとは逆位相の書込み信号を出力する。
DO, Dl, and Di are transmission gates MO3FETQ9. for data line selection, respectively. QIO and Qll, Q1
It is connected to the common data lines CD, CD through a column switch circuit composed of two. This common data line C
The input terminal of the read circuit RA and the output terminal of the write circuit WA are connected to D and CD. The write circuit WA is
Although not particularly limited, p-channel MO3FETQ17 and n-channel MO5FETQ1 are controlled by a combinational logic circuit LOG that receives write data and control signal i.
A three-state output MO3FET configured with 8 is utilized. That is, the combinational logic circuit LOG causes the control signal 1 to be at a high level when the write operation is not performed, so that the MOS FETQ17. Both QIBs are turned off. Then, during a write operation, the control signal stone becomes low level, so that the MO is activated according to the write data.
3FET Q17 or QlB is turned on and the common data line CD is set to high level or low level. For other common data lines 5, the same 3-state output M
An O5FET is provided and outputs a write signal having a phase opposite to that of the common data line CD during a write operation.

上記カラムスイッチ回路を構成するMO3FETQ9.
QIO及びQll、Q12のゲートには、それぞれYア
ドレスデコーダY−DCRから選択信号が供給される。
MO3FETQ9 that constitutes the above column switch circuit.
A selection signal is supplied to the gates of QIO, Qll, and Q12 from a Y address decoder Y-DCR, respectively.

このYアドレスデコーダY−DCRは、上記同様な縦型
ROMによって構成され、上記同様に相補アドレス信号
VO+ if及び3’01y1が供給されている。
This Y address decoder Y-DCR is constituted by a vertical ROM similar to that described above, and is supplied with complementary address signals VO+if and 3'01y1 as described above.

また、各データ線には、特に制限されないが、pチャン
ネルMO3FETで構成されたプリチャージMO3FE
TQ! 3〜Q16が設けられる。
In addition, each data line is provided with a precharge MO3FE configured with a p-channel MO3FET, although this is not particularly limited.
TQ! 3 to Q16 are provided.

上記構成のメモリアレイにおいて、メモリセルMCに設
けられたパワースイッチMOS F ETのゲー]・に
は、特に制限されないが、書込み制御信号W!が共通に
供給される。すなわち、書込み動作の時にハイレベルに
される書込み制御信号weによって、上記pチャンネル
MO3FETで構成されたパワースイッチMO3FET
Q?、Q8等はすべてオフ状態にされる。
In the memory array having the above configuration, the write control signal W! is not particularly limited to the gate of the power switch MOS FET provided in the memory cell MC. is commonly supplied. That is, the power switch MO3FET configured with the above-mentioned p-channel MO3FET is
Q? , Q8, etc. are all turned off.

この実施例の書込み動作を次に説明する。The write operation of this embodiment will be explained next.

書込み動作のときには、上記X及びYアドレスデコーダ
X、Y−DCHによって1つのメモリセルMCが選択状
態にされる。また、コモンデータ線CD、CDは、書込
ウデータに従ったハイレベルとロウレベルにされる。こ
のとき、書込み制御信号w6がハイレベルにされるので
、メモリセルMCのパワースイッチMO3FETはオフ
状態にされる。したがって、全メモリセルMCは、その
ゲート容量に記憶情報を保持するものとなる。言い換え
れば、全メモリセルMCの入力インピーダンスは、高イ
ンピーダンス状態にされる。この状態において、選択さ
れたメモリセルに上記コモンデータ1lcD、cDのハ
イレベルとロウレベルが書込まれる。したがって、比較
的小さなコンダクタンス特性の書込み駆動MO3FET
と伝送ゲートMO3FETとを用いても、簡単に記憶情
報の反転書込みを行うことができる。
During a write operation, one memory cell MC is brought into a selected state by the X and Y address decoders X and Y-DCH. Further, the common data lines CD and CD are set to high level and low level according to the write data. At this time, since the write control signal w6 is set to high level, the power switch MO3FET of the memory cell MC is turned off. Therefore, all memory cells MC hold stored information in their gate capacitances. In other words, the input impedance of all memory cells MC is brought into a high impedance state. In this state, the high level and low level of the common data 1lcD and cD are written into the selected memory cell. Therefore, write drive MO3FET with relatively small conductance characteristics
Even by using a transmission gate MO3FET and a transmission gate MO3FET, inversion writing of stored information can be easily performed.

なお、上記書込みに要する時間、言い換えれば、上記パ
ワースイッチMO3FETがオフ状態にされる時間は極
めて短いので、上記非選択のメモリセルMCの記憶情報
が上記一時的なパワースイッチMO3FETのオフ状態
により失われてしまうことはない。
Note that since the time required for the above writing, in other words, the time during which the power switch MO3FET is turned off, is extremely short, the information stored in the unselected memory cell MC may be lost due to the temporary off state of the power switch MO3FET. You won't get lost.

〔効 果〕〔effect〕

(1)メモリセルを構成するCMOSフリップフロップ
旧路にパワースイッチMO3FETを設けるとともに、
書込み時にそれをオフ状態にすることによって、その入
力インピーダンスを高くできるから小さなコンダクタン
ス特性の伝送ゲートMO3FET及びカラムスイッチM
OS F ET等を介しても簡単に反転書込みを行うこ
とができるという効果が得られる。
(1) In addition to providing a power switch MO3FET in the old path of the CMOS flip-flop that constitutes the memory cell,
By turning it off during writing, the input impedance can be increased, so transmission gate MO3FET and column switch M with small conductance characteristics are used.
The effect that inversion writing can be easily performed even through OS FET or the like can be obtained.

(2)上記(1)によりこの発明に係るスタティック型
RAMは1.5ボルト系の電池(光電池も含む)電圧に
より動作する半導体集積回路装置に内蔵することができ
る。すなわち、CMOSゲート回路は1ボルト程度の低
電圧でも十分動作するものであり、この発明に係るスタ
ティック型RAMは上記コンダクタンス特性のレシオに
よらないでスタティック型RAMの反転書込みが行える
から、電池の寿命又は受光量の低下により上記のような
低電圧となってもその情tu処理動作を行うことができ
る。
(2) According to the above (1), the static RAM according to the present invention can be built into a semiconductor integrated circuit device that operates on a 1.5 volt battery (including photovoltaic) voltage. In other words, the CMOS gate circuit can operate satisfactorily even at a low voltage of about 1 volt, and the static RAM according to the present invention can perform inversion writing to the static RAM without depending on the ratio of the conductance characteristics, so the battery life can be reduced. Alternatively, even if the voltage becomes low as described above due to a decrease in the amount of received light, the information processing operation can be performed.

これにより、電源マージンの大きなスタティック型RA
Mを含む半導体集積回路装置を得ることができるという
効果が得られる。
This allows static type RA with large power margin.
The effect is that a semiconductor integrated circuit device containing M can be obtained.

(3)メモリセルの書込みがコンダクタンス特性のレシ
オによらないで、フリップフロップ回路の入力容量の充
電/放電により行うことができるので、その書込み速度
の高速化を図ることができる。
(3) Since writing to the memory cell can be performed by charging/discharging the input capacitance of the flip-flop circuit without depending on the ratio of conductance characteristics, the writing speed can be increased.

(4)パワースイッチMO3FETがオフ状態とされて
いるので、反転書込み時にフリップフロップ回路の入カ
レベルが中間レベルとなってもCMOSインバータにお
ける貰通電流が発生しないので、その低消費電力化を図
ることができるという’JJ果が得られる。
(4) Since the power switch MO3FET is in the off state, no current is generated in the CMOS inverter even if the input level of the flip-flop circuit becomes an intermediate level during inversion writing, thereby reducing power consumption. You can get the 'JJ result of being able to do it.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えば、上記パワース
イッチMO3FETは、各メモリセルに対して1個設け
るものであってもよい。すなわち、fJS2図において
フリップフロップ回路を構成するpチャンネルMO3F
ETQ2.Q4又はnチャンネルMO3FETQI。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that this invention is not limited to the above Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor. For example, one power switch MO3FET may be provided for each memory cell. That is, in the fJS2 diagram, the p-channel MO3F constituting the flip-flop circuit
ETQ2. Q4 or n-channel MO3FETQI.

Q3の共通接続したソース電源電圧vDD又は回路の接
地電位点との間に1個のpチャンネルMO3FET又は
nチャンネルMO3FETによるパワースイッチを設け
るものであってもよい。
A power switch including one p-channel MO3FET or n-channel MO3FET may be provided between the commonly connected source power supply voltage vDD of Q3 or the ground potential point of the circuit.

また、パワースイッチMOS F ETは、列方向に共
通化するものであってもよい。そして、書込み動作にお
いて選択された行又は列のメモリセルのパワースイッチ
MOS F ETのみをオフ状態にするものであっても
よい。
Further, the power switch MOS FET may be shared in the column direction. Then, only the power switch MOS FET of the memory cell in the row or column selected in the write operation may be turned off.

また、メモリセルを構成する伝送ゲートMO3FE’l
”は、並列形態にされたpチャンネルMO3FETとn
チャンネルMO3FETとで構成することによって、さ
らに低電圧でも反転書込のを行うようにするものであっ
てもよい。なぜなら、上記CM OS伝送ゲート回路を
用いた場合にはしきい値電圧によるレベル損失なく書込
みレベルを伝えることができるからである。
In addition, the transmission gate MO3FE'l that constitutes the memory cell
” is a p-channel MO3FET and n
By configuring it with a channel MO3FET, inversion writing may be performed even at a lower voltage. This is because when the CMOS transmission gate circuit described above is used, the write level can be transmitted without level loss due to threshold voltage.

さらに、アドレスデコーダ、書込c’j/’ iui;
 Jブ出t。
Furthermore, address decoder, write c'j/'iui;
J out.

回路等の周辺回路の具体的構成は、種々の2ηJ、古株
ることができるものである。
The specific configuration of peripheral circuits such as circuits can be of various types.

〔利用分野〕[Application field]

以上の説明では主として本発明、Hによって居された発
明をその背景となった利用分ITであるマイクロコンピ
ユータ等のような半導体集積回路ン装置に内蔵されるス
タティック型I?AMに通用り、た場合について説明し
たが、それに限定されるもの−「−はなく、例えば、上
記実施例のスタティック型IくΔMは、半導体記憶装置
にも同様に逍用するごJができる。
In the above description, the present invention will mainly be based on the invention developed by H., which is based on the static type integrated circuit built into a semiconductor integrated circuit device such as a microcomputer. Although we have explained the case where it is applicable to AM, there is no limitation thereto.For example, the static type I and ΔM of the above embodiment can be similarly applied to semiconductor memory devices. .

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、この発明の一実施例を示す回路E1、第2図
は、そのメモリセルMCの−′j;施例を示ず回路図で
ある。 X−ADB・・Xアドレスバッファ、Y−ADB・・Y
アドレスバッファ、X−DCR・・Xアドレスデコーダ
、Y−DCR・・Yアドレスデコーダ、MC・・メモリ
セル、RA・・読み出し回路、WA・・書込み回路
FIG. 1 is a circuit diagram of a circuit E1 showing one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a circuit diagram of a memory cell MC thereof, without showing the embodiment. X-ADB...X address buffer, Y-ADB...Y
Address buffer, X-DCR...X address decoder, Y-DCR...Y address decoder, MC...memory cell, RA...read circuit, WA...write circuit

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、PチャンネルMO3FETとnチャンネルMo5r
ETとで構成され、その入力と出力とが互いに交差結線
された2つのインバータにより構成されたフリップフロ
ップ回路と、その一対の入出力端子と一対の相補データ
線との間にそれぞれ設けられた伝送ゲー)MOSFET
と、pチャンネルMO3FET又はnチャンネルMO3
FETの一方と電圧端子との間に設けられ書込み時にオ
フ状態にされるパワースイッチMO5FETとからなる
メモリセルを含むメモリアレイを具備することを特徴と
する半導体集積回路装置。 2、上記メモリアレイはRAMを構成し、ROMに書込
まれたプログラムに従った情報処理のためのデータ記憶
手段として用いられるものであることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の半導体集積回路装置。 3、上記半導体集積回路装置は、1.5ボルト系の電池
電圧を電源電圧として動作するものであることを特徴と
する特許請求の範囲第1又は第2項記載の半導体集積回
路装置。
[Claims] 1. P-channel MO3FET and n-channel Mo5r
ET, and a flip-flop circuit composed of two inverters whose inputs and outputs are cross-wired to each other, and a transmission circuit provided between a pair of input/output terminals and a pair of complementary data lines. Game) MOSFET
and p-channel MO3FET or n-channel MO3
1. A semiconductor integrated circuit device comprising a memory array including a memory cell including a power switch MO5FET provided between one of the FETs and a voltage terminal and turned off during writing. 2. The semiconductor according to claim 1, wherein the memory array constitutes a RAM and is used as a data storage means for information processing according to a program written in a ROM. Integrated circuit device. 3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1 or 2, wherein the semiconductor integrated circuit device operates using a battery voltage of 1.5 volts as a power supply voltage.
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