JPS62143289A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JPS62143289A
JPS62143289A JP60282872A JP28287285A JPS62143289A JP S62143289 A JPS62143289 A JP S62143289A JP 60282872 A JP60282872 A JP 60282872A JP 28287285 A JP28287285 A JP 28287285A JP S62143289 A JPS62143289 A JP S62143289A
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Abstract

PURPOSE:To form all the non-selection states of a word line by combining an output signal of an address input circuit bringing a specific internal complementary address signal to a non-selection level with an output signal of an address decoder circuit to form a selection signal. CONSTITUTION:A timing signal phi goes to an L level when a chip selection signal CE reaches the L level, an address decoder DCR brings all word lines to the non-selecting state to precharge complementary data lines D0, the inverse of D0. After the memory state for a long time, a dummy cycle control signal DUM is brought to the L level synchronously with the rising of the signal CE, then an output dum of an inverter circuit N1 goes to an H and when the address signal A0 is at H, a transfer (TR) Q15 is turned on via a TR Q13. When the signal A0 is at the L level, the TR Q15 is turned on via a TR Q12. As a result, the output signal of inverter circuits N2, N3, that is, internal complementary address signals a0, the inverse of a0 go to a non-selection level of L. Thus, all word lines W0-Wn go to the non-selecting state.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、半導体記憶回路に関するもので、例えばデ
ィジタル集積回路に内蔵゛されるスタティック型RAM
 (ランダム・アクセス・メモリ)に利用して有効な技
術に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Technical Field] The present invention relates to a semiconductor memory circuit, such as a static RAM built into a digital integrated circuit.
(Random Access Memory).

〔背景技術〕[Background technology]

MOSスタティック型RAMにおけるメモリセルは、例
えばゲート・ドレインが交差結合された一対の駆動MO
3FETとその負荷素子とからなるスタティック型フリ
ップフロップ回路と一対の伝送ゲートMO3FETとか
ら構成される。メモリアレイは、マトリックス配置され
る複数のメモリセルとともに複数対の相補データ線を含
み、それぞれの相補データ線には、それと対応されるべ
きメモリセルの入出力端子が結合される。
A memory cell in a MOS static RAM is, for example, a pair of drive MOs whose gates and drains are cross-coupled.
It is composed of a static flip-flop circuit consisting of a 3FET and its load element, and a pair of transmission gate MO3FETs. The memory array includes a plurality of memory cells arranged in a matrix and a plurality of pairs of complementary data lines, and each complementary data line is coupled to an input/output terminal of a corresponding memory cell.

ところで、ディジタル集積回路にスタティック型RAM
を内蔵させ、レジスタと同様な動作を行わせることが考
えられている。このようなRAMの動作の高速化等のた
め、メモリサイクルの終了時に発生される1シヨツトパ
ルスによってメモリセルの入出力端子が結合された相補
データ線のプリチャージを行うことが考えられる。この
ようなプリチャージ方式の採用によって、メモリアクセ
スと同時にその読み出し/書き込みが行われるものとな
る。
By the way, static type RAM is used in digital integrated circuits.
It is being considered to have a built-in register and perform operations similar to registers. In order to speed up the operation of such a RAM, it is conceivable to precharge the complementary data lines connected to the input/output terminals of the memory cells using a single shot pulse generated at the end of a memory cycle. By adopting such a precharge method, reading/writing of the memory can be performed simultaneously with memory access.

しかしながら、上記プリチャージ方式におていは、RA
Mが比較的長い期間にわたってメモリ保持状態にされる
と、上記相補データ線のプリチャージ電位が、それに結
合されるMOSFETのソース、ドレインリーク電流等
によって自然放電されてしまう。したがって、このよう
な長時間にわたるメモリ保持状態の後のメモリアクセス
に際して、上記プリチャージ動作を行うためのダミーサ
イクルが必要となってしまう。このダミーサイクルにお
ては、通常のメモリサイクルのようにワード線を選択状
態にすると、相補データ線の自然放電によるロウレベル
によって、メモリセルの記憶情報が破壊されてしまう虞
れがある。
However, in the above precharge method, the RA
If M is kept in the memory holding state for a relatively long period of time, the precharge potential of the complementary data line will be spontaneously discharged due to source and drain leakage currents of the MOSFETs connected thereto. Therefore, when accessing the memory after such a long memory retention state, a dummy cycle is required to perform the precharge operation. In this dummy cycle, if the word line is set to a selected state as in a normal memory cycle, there is a risk that the information stored in the memory cell will be destroyed by the low level caused by the natural discharge of the complementary data line.

なお、スタティック型RAMに関しては、例えば特開昭
57−198594号公報参照。
Regarding the static type RAM, see, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 198594/1983.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

この発明の1つの目的は、簡単な構成によりワード線の
全非選択状態を作り出すこのできる半導体記憶装置を提
供することにある。
One object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that can create all non-selected states of word lines with a simple configuration.

この発明の他の目的は、高速動作化を実現したスタティ
ック型RAMを提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a static RAM that realizes high-speed operation.

この発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
この明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。
The above and other objects and novel features of this invention include:
It will become clear from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、所定の制御信号により特定の1ないし複数ビ
ットの内部相補アドレス信号を共に非選択レベルとする
アドレス入力回路の出力信号と、残りのアドレス信号を
受けるアドレスデコーダ回路の出力信号との組み合わせ
により1つのワード線の選択信号を形成するものとし、
上記所定の制御信号によって全ワード線を非選択状態に
するものである。
In other words, the combination of the output signal of the address input circuit which sets a specific one or more bits of internal complementary address signals to non-selection level by a predetermined control signal, and the output signal of the address decoder circuit which receives the remaining address signals shall form a selection signal for one word line,
All word lines are rendered unselected by the predetermined control signal.

〔実施例〕〔Example〕

第1図には、この発明が適用されたスタティック型RA
Mの一実施例の回路図が示されている。
FIG. 1 shows a static type RA to which this invention is applied.
A circuit diagram of one embodiment of M is shown.

特に制限されないが、同図のRAMは、公知の0MO3
(相補型MO3)集積回路技術によって単結晶シリコン
からなるような1個の半導体基板上に形成される。
Although not particularly limited, the RAM in the figure is a well-known 0MO3
(Complementary MO3) is formed on a single semiconductor substrate made of single crystal silicon using integrated circuit technology.

各MOS F ETは、ポリシリコンからなるようなゲ
ート電極を一種の不純物導入マスクとするいわゆるセル
ファライン技術によって製造される。
Each MOS FET is manufactured by the so-called self-line technology using a gate electrode made of polysilicon as a kind of impurity introduction mask.

メモリセルを構成するMOS F ETは、Nチャンネ
ル型とされ、N型半導体基板上に形成されたP型つェル
領域上に形成される。PチャンネルMO3FETは、N
型半導体基板上に形成される。Nチャンネル型MOS 
F ETの基板ゲートとしてのP型ウェル領域は、回路
の接地端子に結合され、Pチャンネル型MO3FETの
共通の基板ゲートとしてのN型半導体基板は、回路の電
源端子に結合される。なお、メモリセルを構成するM 
OS FETをウェル領域に形成する構成は1.α線等
によって引き起こされるメモリセルの蓄積情報の誤った
反転を防止する上で効果的である。
The MOS FET constituting the memory cell is an N-channel type, and is formed on a P-type well region formed on an N-type semiconductor substrate. P channel MO3FET is N
type formed on a semiconductor substrate. N-channel MOS
The P-type well region as the substrate gate of the FET is coupled to the ground terminal of the circuit, and the N-type semiconductor substrate as the common substrate gate of the P-channel MO3FET is coupled to the power supply terminal of the circuit. Note that M constituting the memory cell
The configuration in which the OS FET is formed in the well region is 1. This is effective in preventing erroneous inversion of stored information in memory cells caused by α rays and the like.

メモリアレイM −A RYは、代表として例示的に示
されているマトリックス配置された複数のメモリセルM
C,ポリシリコン層からなるワード線wo、wiないし
Wn及び相補データ線Do、 DOから構成されている
The memory array M-ARY includes a plurality of memory cells M arranged in a matrix as a representative example.
The word lines wo, wi to Wn made of C and polysilicon layers, and complementary data lines Do and DO.

メモリセルMCのそれぞれは、互いに同じ構成にされ、
その1つの具体的回路が代表として示されているように
、ゲートとドレインが互いに交差結線されかつソースが
回路の接地点に結合された記憶MO3FETQI、Q2
と、上記MO3FETQI、Q2のドレインと電源端子
Vccとの間に設けられたポリ (多結晶)シリコン層
からなる高抵抗R1,R2とを含んでいる。そして、上
記MO3FETQ1.Q2の共通接続点と相補データ線
DO,Doとの間に伝送ゲー)MO3FETQ3、Q4
が設けられている。同じ行に配置されたメモリセルの伝
送ゲートMO3FETQ3.Q4等のゲートは、それぞ
れ例示的に示された対応するワード線WO1W1及びW
n等に共通に接続され、同じ列に配置されたメモリセル
の入出力端子は、それぞれ例示的に示された対応する一
対の相補データ線(ビット線又はディジット線)DO。
Each of the memory cells MC has the same configuration as each other,
One specific circuit is shown as a representative of a storage MO3FET QI, Q2 with its gate and drain cross-wired together and its source coupled to circuit ground.
and high resistance R1, R2 made of a polysilicon layer provided between the drains of the MO3FETs QI, Q2 and the power supply terminal Vcc. And the above MO3FETQ1. Transmission gate) MO3FETQ3, Q4 is connected between the common connection point of Q2 and the complementary data lines DO, Do.
is provided. Transmission gate MO3FETQ3 of memory cells arranged in the same row. Gates such as Q4 are connected to corresponding word lines WO1W1 and W
Input/output terminals of memory cells arranged in the same column and commonly connected to a pair of corresponding complementary data lines (bit lines or digit lines) DO, respectively, are exemplarily shown.

Doに接続される。Connected to Do.

メモリセルにおいて、MO3FETQI、Q2及び抵抗
R1,R2は、一種のフリップフロップ回路を構成して
いるが、情報保持状態における動作点は、普通の意味で
のフリップフロップ回路のそれと随分異なる。すなわち
、上記メモリセルMCにおいて、それを低消費電力にさ
せるため、その抵抗R1は、MO3FETQIがオフ状
態にされているときのMO3FETQ2のゲート電圧を
そのしきい値電圧よりも若干高い電圧に維持させること
ができる程度の著しく高い抵抗値にされる。
In the memory cell, MO3FETs QI and Q2 and resistors R1 and R2 constitute a kind of flip-flop circuit, but the operating point in the information retention state is quite different from that of a flip-flop circuit in the ordinary sense. That is, in the memory cell MC, in order to reduce power consumption, the resistor R1 maintains the gate voltage of MO3FETQ2 at a voltage slightly higher than its threshold voltage when MO3FETQI is turned off. The resistance value is set to a significantly high value to the extent that it can be used.

同様に抵抗R2も高抵抗値にされる。言い換えると、上
記抵抗R1R2は、MO3FETQI。
Similarly, the resistor R2 is also made to have a high resistance value. In other words, the resistor R1R2 is MO3FETQI.

Q2のドレインリーク電流を補償できる程度の高抵抗に
される。抵抗R’ L、R2は、MOS F ETQ2
のゲート容量(図示しない)にM積されている情叩電荷
がTIl、電させられてしまうのを防ぐ程度の電流供給
能力を持つ。
The resistance is made high enough to compensate for the drain leakage current of Q2. Resistors R'L and R2 are MOS FETQ2
It has a current supply capacity sufficient to prevent the charge charge accumulated on the gate capacitance (not shown) from being charged.

この実施例に従うと、RAMがCMO3−IC技術によ
って製造されるにもかかわらず、上記のようにメモリセ
ルMCはNチャンネルMO3FETとポリシリコン抵抗
素子とから構成される。
According to this embodiment, although the RAM is manufactured by CMO3-IC technology, the memory cell MC is composed of an N-channel MO3FET and a polysilicon resistance element as described above.

この実施例のメモリセル及びメモリアレイは、上記ポリ
シリコン抵抗素子に代えてPチャンネルM OS FE
 Tを用いる場合に比べ、その大きさを小さくできる。
The memory cell and memory array of this embodiment are made of P-channel MOS FE instead of the polysilicon resistor element described above.
Compared to the case where T is used, the size can be made smaller.

丁なわち、ポリシリコン抵抗を用いた場合、駆動MO9
FETQI又はQ2のゲート電極と積み重ねて形成でき
るとともに、それ自体のサイズを小型化できる。そして
、PチャンネルM OS F ETを用いたときのよう
に、駆動MO3F E T Q 1 、 Q ’lから
比較的大きな距離を持つで離さなければならないことが
ないので無駄な空白部分が生じない。
In other words, if a polysilicon resistor is used, the drive MO9
It can be formed stacked with the gate electrode of FET QI or Q2, and its size can be reduced. Unlike when a P-channel MOSFET is used, there is no need to separate the drive MO3FET Q1, Q'l from a relatively large distance, so no wasted blank space is generated.

同図において、ワードIWO,WlないしWnは、全非
選択状態を作り出すために、次のアドレス選択回路が用
いられる。この実施例では、全ツー・ド線の非選択状態
を作り出すために、アドレス信号AOを受ける7ドL・
ス入力回路が利用される。
In the figure, the following address selection circuit is used for words IWO, Wl to Wn to create an all-unselected state. In this embodiment, in order to create a non-selected state for all two lines, the seven lines receive the address signal AO.
input circuit is utilized.

すなわち、)″ドレス信号AOは、PチャンネルMO3
FETQ12とNチャンネルMO3FETQ13からな
;’、) ’CM OSインバータ回路の入力端子に供
給される。このCMOSインバータ回路(Q12、Q1
3)の出力信号は、PチャンネルMO3FETQ14と
NチャンネルMO3FETQ15からなるC M OS
インバータ回路に入力される。
That is, )''dress signal AO is P channel MO3
FETQ12 and N-channel MO3FETQ13 ;',) 'It is supplied to the input terminal of the CMOS inverter circuit. This CMOS inverter circuit (Q12, Q1
The output signal of 3) is a CMOS signal consisting of a P-channel MO3FETQ14 and an N-channel MO3FETQ15.
Input to the inverter circuit.

上記2つのCMOSインバータ回路の出力信号は、それ
ぞれc Mo sインバーク回路N3とN2に供給され
、それぞれの出力端子から非5.耘の内部アドレス信号
aOと反転°の内部アドレス1言号aOが出力される。
The output signals of the two CMOS inverter circuits are supplied to cMos inverter circuits N3 and N2, respectively, and the non-5. The internal address signal aO of 1 and the inverted internal address 1 word aO are output.

上記非反転のアドレス信号aOと反転のアドレス信号a
O力)らなる相補アドレス信号を共に非選択レベルにす
るため、上記CM OSインパーク回路を構成するNチ
ャンネルMO5FETQ13及びQ15には、通常のC
MOSインバータ回路N2、N3等とは異なり、ダミー
サイクル制御信号DUMを受けるCMOSイン八°−へ
回路N1の出力信号が供給される。すなわち、通常の動
作状態においてソースtiとして作用する上記Nチャン
ネルMO3FETQ13及びQ15の電極には、上記ダ
ミーサイクル制御信号DUMを受けるCMOSインバー
タ回路Nlによって形成される電源電圧Vccのような
ハイレベル又は回路の接地電位のようなロウレベルの信
号dumが供給される。
The non-inverted address signal aO and the inverted address signal a
In order to make both the complementary address signals consisting of
Unlike the MOS inverter circuits N2, N3, etc., the output signal of the circuit N1 is supplied to the CMOS input 8°- which receives the dummy cycle control signal DUM. That is, the electrodes of the N-channel MO3FETs Q13 and Q15, which act as sources ti in the normal operating state, are supplied with a high level voltage such as the power supply voltage Vcc formed by the CMOS inverter circuit Nl receiving the dummy cycle control signal DUM or the circuit voltage. A low level signal dum, such as a ground potential, is supplied.

上記インバータ回路N2出力から得られる反転のアドレ
ス(言号丁0は、PチャンネルMO3FETQ16とN
−7−ヤンネルMOS F E’r” Q 17とから
なるCMOSインバータ回路の動作電圧端子に供給され
る。このCMOSインバータ回路の出力端子は、ワード
線WOに結合される。また、上記インバータ回路N3出
力から得られる非反転のアドレス信号aOは、Pチャン
ネルMO3FETQ18とさTチャンネルMOS F 
ETQ 19とからなるC M OSインバータ回路の
動作電圧端子に供給される。このCMOSインパーク回
路の出力端子は、ワード線Wlに結合される。これらの
0MO8・インパーク回路の入力には、残りのアドレス
信号A1ないしAmを受けるアドレスデコーダ回路DC
Hにより形成された1つの選択信号diが共湧に供給さ
れる。
The inverted address obtained from the above inverter circuit N2 output (word 0 is the P-channel MO3FET Q16 and N
-7-Jannel MOS F E'r" Q17. The output terminal of this CMOS inverter circuit is coupled to the word line WO. The non-inverted address signal aO obtained from the output is connected to the P-channel MO3FET Q18 and the T-channel MOS F
It is supplied to the operating voltage terminal of a CMOS inverter circuit consisting of ETQ19. The output terminal of this CMOS impark circuit is coupled to word line Wl. At the input of these 0MO8 impark circuits, there is an address decoder circuit DC that receives the remaining address signals A1 to Am.
One selection signal di formed by H is supplied to the common source.

他のワード線に対しても、上記インバータ回路N2.N
:1と同)pなインパーク回路N4−等によって形成さ
れる相補アトL・ス悟号aQ、aQを動作電圧とし、そ
の入力にアドレス、デコーダ回路DCRの出力信号di
等を張けるPチャンオルMO8FETQ20とNチャン
ネルMOSF2TQ21等からなる選IR九区動回路が
設けられる。
Also for other word lines, the inverter circuit N2. N
:Same as 1) Complementary atto L and Sgo numbers aQ and aQ formed by p impark circuit N4- etc. are used as operating voltages, and the inputs are address and output signal di of decoder circuit DCR.
A selection IR nine-way circuit is provided, which includes a P-channel MOSFETQ20, an N-channel MOSF2TQ21, etc.

上記メモリアレイにおける一対の相補データ線Do、D
Oは、特に制限されないが、差動型のセンスアンプの入
力端子に直接結合される。すなわち、相補データ線DO
,Doは、Nチャンネル型の差動増幅MO3FETQ?
、QBのゲートにそれぞれ結合される。これらの差動M
OS F ETQ7、Q8のドレインには、電流ミラー
形態にされたPチャンヱル型のMO3FETQ9.QI
Oからなるアクティブ負荷回路が設けられる。上記差動
増幅MO3FETQ7.QBは、その共通ソースと回路
の接地電位点との間に設けられ、センスアンプ動作タイ
ミング信号SaCによってオン状態にされるNチャンネ
ル型のパワースイッチMO5FETQ11によって動作
状態にされる。図示しない他の相補データ線にも上記同
様なセンスアンプが設けられる。上記センスアンプの増
幅出力信号は、制御信号Rによってその増幅出力信号を
出力する読み出し回路RAOに伝えるられる。この読み
出し回路1?AOは、メモリ保持状態又は書き込み状態
のときにその一対の出力端子を高インピーダンス状態も
しくはフローティング状態にする。
A pair of complementary data lines Do, D in the memory array
Although not particularly limited, O is directly coupled to the input terminal of the differential sense amplifier. That is, the complementary data line DO
, Do is an N-channel differential amplifier MO3FETQ?
, QB, respectively. These differential M
The drains of the OS FETs Q7 and Q8 are connected to P-channel type MO3FETs Q9. QI
An active load circuit consisting of O is provided. The above differential amplification MO3FETQ7. QB is placed between its common source and the ground potential point of the circuit, and is activated by an N-channel power switch MO5FETQ11 that is turned on by a sense amplifier operation timing signal SaC. Sense amplifiers similar to those described above are also provided on other complementary data lines (not shown). The amplified output signal of the sense amplifier is transmitted by a control signal R to a readout circuit RAO which outputs the amplified output signal. This readout circuit 1? The AO puts its pair of output terminals into a high impedance state or a floating state when in a memory holding state or writing state.

また、上記相補データ線DO,Doには、書き込み回路
WAOの出力端子が結合される。この書き込み回路WA
Oは、制御信号Wによってその動作が制御され、動作状
態にされているとき、言い換えるならば、書き込み動作
のときにその書き込み信号と対応する相補データ信号を
相補データ線DO,DOに出力する。書き込み回路WA
Oは、それが非動作状態、言い換えれば、メモリ保持状
態又は読み出し状態にされているときにその一対の出力
端子を高インピーダンス状態もしくはフローティング状
態にする。
Further, an output terminal of a write circuit WAO is coupled to the complementary data lines DO, Do. This write circuit WA
The operation of O is controlled by the control signal W, and when it is in the operating state, in other words, during a write operation, it outputs a complementary data signal corresponding to the write signal to the complementary data lines DO, DO. Write circuit WA
O puts its pair of output terminals in a high impedance state or floating state when it is in an inactive state, in other words, in a memory holding state or a reading state.

この実施例においては、相補データ線DO,DOには、
次のようなプリチャージ回路が設けられる。一対の相補
データ線DOと万0は、特に制限されないが、プリチャ
ージ信号φpによって制御されるNチャンネルMO3F
ETQ5とQ6を介してそれぞれ電源電圧Vccが供給
される。図示しない他の相補データ線にも上記同様のプ
リチャージMOS F ETが設けられる。なお、プリ
チャージMOS F ETは、上記NチャンネルMO3
FETQ5.Q6等に代えて、PチャンネルMO8FE
Tを用いるものとしてもよい。この場合には、反転のプ
リチャージ1言号φpを供給するものとすればよい。
In this embodiment, the complementary data lines DO, DO include:
The following precharge circuit is provided. A pair of complementary data lines DO and 10,000, although not particularly limited, are N-channel MO3F controlled by a precharge signal φp.
Power supply voltage Vcc is supplied via ETQ5 and Q6, respectively. Other complementary data lines (not shown) are also provided with precharge MOSFETs similar to those described above. Note that the precharge MOS FET is the N-channel MO3 mentioned above.
FETQ5. P channel MO8FE instead of Q6 etc.
T may also be used. In this case, an inverted precharge 1 word φp may be supplied.

制in回路C0NTは、チッフ゛選択信号GE、読み出
し/書き込みTj;御信号R/W、及び上記インバータ
回路Nlの出力信号dumを受けて、上記プリチャージ
偽゛号φp1センスアンプ動作タイミング信号s a 
c、’書き込み信号W、読み出し信号R及びアドレスデ
コーダDCRの動作タイミング信号φ等を形成する。
The control circuit C0NT receives the chip selection signal GE, the read/write Tj; control signal R/W, and the output signal dum of the inverter circuit Nl, and outputs the precharge false signal φp1 as the sense amplifier operation timing signal sa.
c, 'A write signal W, a read signal R, an operation timing signal φ of the address decoder DCR, etc. are formed.

次に、第2図に示したタイミング図を参照して、上記ス
タティック型RAMの動作の一例を説明する。
Next, an example of the operation of the static RAM will be described with reference to the timing chart shown in FIG.

図示しないが、ナツプ選択(A号CBがロウレベルにさ
れると、タ、1′ミング信号φがロウレベルにされ、ア
ドレスデコーダDCRは、全出力をハイレベルにして全
ワード線を非選択状態にする。それに同期して1シヨツ
トのプリチャージIJ号ψp力発生され、プ’J−1−
+−ジMO3FETQ5.Q6等がオン状態にされ、相
補データ線Do、D。
Although not shown in the figure, when the nap selection signal A (CB) is set to low level, the timing signal φ is set to low level, and the address decoder DCR sets all outputs to high level to unselect all word lines. .Synchronized with this, one shot of precharge IJ ψp force is generated, and P'J-1-
+-di MO3FETQ5. Q6 etc. are turned on, and the complementary data lines Do, D.

等をハイレベル(Vcc −Vth)にプリチャージす
る。ここで、vthはMO3FETQ5.Q6等のしき
い値電圧である。
etc. are precharged to high level (Vcc - Vth). Here, vth is MO3FETQ5. This is the threshold voltage of Q6, etc.

上記チップ選択信号CEが比較的長時間にわたってロウ
レベルのままにされると、言い換えるならば、メモリ保
持状態が比較的長時間にわたって′m続させられると、
上記相補データ線DO,D。
If the chip selection signal CE is kept at a low level for a relatively long time, in other words, if the memory retention state continues for a relatively long time,
The complementary data lines DO, D.

等のプリチャージ電位が、その自然放電によって徐々に
低下してしまう。
The precharge potential of , etc. gradually decreases due to its natural discharge.

このような比較的長時間にわたるメモリ保持状態の後の
メモリアクセスにあたっては、チップ選択信号CEのハ
イレベルへの立ち上がりとほり同期して、ダミーサイク
ル制御信号DUMをロウレベルにする。これによって、
インバータ回路N1の出力信号dumがハイレベルにさ
れるため、アドレス信号AOがハイレベルなら、それを
受ける初段回路は、そのNチャンネルMO3FETQI
3を介したインバータ回路N1の出力信号dunのハイ
レベルがその出力ノードに伝えられる。この出力ノード
のハイレベルによって次段回路のNチャンネルMO3F
ETQI 5がオン状態にされるンこめ、上記出力信号
dumのハイレベルによりその出力/゛−ドもハイレベ
ルにされる。また、アドレスイδ号へ〇がロウレベルな
ら、初段回路のPチャンネルMO3FETQ12を介し
てその出力ノードがハイレベルにされる。この出力ノー
ドのハイレベルによって次段回路のNチャンネルMO3
FETQi5がオン状態にされるため、上記信号dum
のハイレベルによりその出力ノードもハイし・ベルにさ
れる。この結果、インバータ回路N2、N3の出カイ8
号、言い換えるならば、内部相補アドレス信号aO,丁
Oは、アドレス信号AOのレベルに無関係に上記ダミー
サ・イクル制御信号DUM+7)ロウレベルに従って共
にロウレベルの非選択レベルにされる。
When accessing the memory after such a relatively long memory holding state, the dummy cycle control signal DUM is set to a low level in synchronization with the rise of the chip selection signal CE to a high level. by this,
Since the output signal dum of the inverter circuit N1 is set to high level, if the address signal AO is high level, the first stage circuit receiving it
The high level of the output signal dun of the inverter circuit N1 via the inverter circuit N1 is transmitted to its output node. The high level of this output node causes the N-channel MO3F of the next stage circuit to
When the ETQI 5 is turned on, the high level of the output signal dum causes its output/code to go high. Further, when address I δ is at a low level, its output node is set at a high level via the P-channel MO3FETQ12 of the first stage circuit. Due to the high level of this output node, the N-channel MO3 of the next stage circuit
Since FETQi5 is turned on, the above signal dum
A high level causes its output node to also go high/bell. As a result, the output of inverter circuits N2 and N3 is 8
In other words, internal complementary address signals aO and dO are both brought to a low non-selection level in accordance with the low level of the dummy cycle control signal DUM+7), regardless of the level of the address signal AO.

このため1.ワード線駆動用のCM OSインバータ回
路には、動作電圧が供給されないため、全てのワード線
WOないしWnはロウレベルシ非選択レベルとされる。
For this reason, 1. Since no operating voltage is supplied to the word line driving CMOS inverter circuit, all word lines WO to Wn are set to low level and non-selection level.

制御回路C0NTは、上記内部ダミーサイクル制御信号
dumのハイレベルに従って、ハイレベルのプリチャー
ジ信号φpを形成する。これにより、上記リーク電流に
よって自然放電された相補データ線DO,DO等は、上
記ハイレベ、ルにプリチャージにされる。
The control circuit C0NT forms a high level precharge signal φp in accordance with the high level of the internal dummy cycle control signal dum. As a result, the complementary data lines DO, DO, etc., which have been naturally discharged due to the leakage current, are precharged to the high level.

以上のプリチャージ動作と並行して、言い換えるならば
、チップ選択信号CEのハイレベルによって形成される
動作タイミング信号φによりアドレスデコーダ回路DC
Rは、その時に入力されたアドレス信号AIないしAm
を解読を行い、その動作時間Tdの後に例えば1つの選
択信号d1を形成する。これらのアドレス信号AIない
しAmの解読に要する動作時間Tdの経過の前に、上記
ダミーサイクル制御信号DUMはハイレベルにされる。
In parallel with the above precharge operation, in other words, the address decoder circuit DC is activated by the operation timing signal φ generated by the high level of the chip selection signal CE.
R is the address signal AI or Am input at that time.
is decoded, and after the operation time Td, one selection signal d1 is formed, for example. Before the operating time Td required for decoding these address signals AI to Am has elapsed, the dummy cycle control signal DUM is set to a high level.

これによって、アドレス信号AOを受ける2つのCMO
Sインバータ回路には、内部信号dumのロウレベルが
与えられるため、内部相補アドレス信号aO9τOは、
上記アドレス信号A0のレベルに従ったハイレベルとロ
ウレベルにされる。上記アドレス信号AOがハイレベル
なら、非反転の内部アドレス信号aOがハイレベルにさ
れ、上記アドレスデコーダ回路DCRの出力信号d1の
ロウレベルによってオン状態にされるPチャンネルMO
3FETQ16を通してワード線WOがハイレベルの選
択レベルにされる。なお、ワード線W1は、上記デコー
ド出力信号d1のロウレベルによってPチャンネルMO
3FETQ1 Bがオン状態にされるが、反転の内部ア
ドレス信号aOのロウレベルによってロウレベルの非選
択レベルのままに維持される。
As a result, two CMOs receiving the address signal AO
Since the S inverter circuit is given the low level of the internal signal dum, the internal complementary address signal aO9τO is
The level is set to high and low according to the level of the address signal A0. When the address signal AO is at a high level, the non-inverted internal address signal aO is set at a high level, and the P-channel MO is turned on by the low level of the output signal d1 of the address decoder circuit DCR.
The word line WO is set to a high selection level through the 3FET Q16. Note that the word line W1 is connected to the P channel MO by the low level of the decode output signal d1.
The 3FET Q1B is turned on, but is maintained at a low non-selection level by the low level of the inverted internal address signal aO.

この実施例では、上記ワード線の選択動作の前に、相補
データ線DO,DO等のプリチャージが行われるため、
必要なら直ちに書き込み/読み出し動作を行うことがで
きる。なお、この動作サイクルをダミーサイクルとする
場合には、センスアンプの動作タイミング信号sac等
の発生が停止される。この場合、ダミーサイクルn間を
短く設定できる。
In this embodiment, since the complementary data lines DO, DO, etc. are precharged before the word line selection operation,
Write/read operations can be performed immediately if necessary. Note that when this operation cycle is used as a dummy cycle, generation of the sense amplifier operation timing signal sac, etc. is stopped. In this case, the interval between dummy cycles n can be set short.

そして、チップ選択信号CEをロウレベルにすると、こ
れに同期して1シヨツトのプリチャージ信号φpが形成
され、相補データ線Do、DO等のプリチャージ動作が
再び行われる。
Then, when the chip selection signal CE is set to a low level, one shot of the precharge signal φp is generated in synchronization with this, and the precharge operation of the complementary data lines Do, DO, etc. is performed again.

この後、短い時間の後にチップ選択信号CEをハイレベ
ルにすると、メモリセルの選択動作が直ちに開始され、
書き込み/又は読み出し動作が行われる。
After this, when the chip selection signal CE is set to high level after a short period of time, the memory cell selection operation is immediately started.
A write/read operation is performed.

〔効 果〕〔effect〕

fil特定の1ないし複数ビットの相補アドレス信号を
共に非選択レベルにするというM単な構成によって、全
ワード線を非選択状態にすることができるという効果が
得られる。
The effect that all the word lines can be brought into a non-selected state can be obtained by a simple configuration in which one or more bits of complementary address signals specified by fil are both set to a non-selected level.

(2)上記(1)により、残りのビットのアドレス信号
のデコード時間を利用して、メモリセルが結合されたデ
ータ線のプリチャージを行うことができる。
(2) According to (1) above, the data line connected to the memory cell can be precharged using the decoding time of the address signal of the remaining bits.

これにより、特別なプリチャージ期間を設けることな(
、メモリセルのアクセスを行うことができるから、メモ
リサイクルを短くできる、言い換えるならば、動作の高
速化を図ることができるという効果が得られる。
This eliminates the need for a special precharge period (
Since the memory cells can be accessed, the memory cycle can be shortened, or in other words, the operation speed can be increased.

(3)データ線のプリチャージ動作をメモリアクセス終
了時に行うとともに、比較的長時間にわたるメモリ保持
状態からメモリアクセスを行う場合、上記(2)により
、短い時間に簡単にデータ線のプリチャージを行うダミ
ーサイクルを挿入できるという効果が得られる。
(3) In addition to precharging the data line at the end of memory access, when accessing the memory after a relatively long memory retention state, the data line can be easily precharged in a short time using (2) above. This provides the advantage of being able to insert a dummy cycle.

(4)アドレス信号を受ける縦列形態のCMOSインバ
ータ回路の一方の動作電圧端子に、制御信号に従ったレ
ベルの電圧を供給するという簡単な構成によって、内部
相補アドレス信号を共に同じレベルの信号とすることが
できる。これによって、全メモリセルの非選択状態を作
り出すことができるという効果が得られる。
(4) Internal complementary address signals are made to have the same level by a simple configuration in which a voltage at a level according to a control signal is supplied to one operating voltage terminal of a cascade-type CMOS inverter circuit that receives an address signal. be able to. This provides the effect of creating a non-selected state for all memory cells.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えば、内部相補アド
レス信号を共に非選択レベルにする回路は、第3図に示
すように、アドレス信号AOを受ける縦列形態の2つの
インバータ回路N5.N6の出力に、ノアゲート回路G
1、G2を設けて、その制御端子に前記内部ダミーサイ
クル制m信号dumを供給するものとしてもよい。また
、ワード線駆動回路は、アンドゲート回路G3.G4を
用いるものであってよい。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that this invention is not limited to the above Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor. For example, as shown in FIG. 3, a circuit that sets both internal complementary address signals to a non-select level includes two inverter circuits N5. NOR gate circuit G is connected to the output of N6.
1 and G2 may be provided, and the internal dummy cycle control m signal dum may be supplied to the control terminal thereof. Further, the word line drive circuit includes an AND gate circuit G3. G4 may be used.

また、スタティック型RAMとしてのメモリセルは、P
チャンネルMOS F ETとNチャンネルMOS F
 ETとを組合せて構成されたスタティック型フリップ
フロップ回路を用いるものであってもよい。また、相補
データ線には、カラム選択回路を設けて、複数の相補デ
ータ線の中から一対の相補データ線を選んでセンスアン
プや書き込み回路に結合させるものであってもよい。
In addition, the memory cell as a static type RAM is P
Channel MOS FET and N-channel MOS F
A static flip-flop circuit constructed by combining ET may also be used. Further, the complementary data lines may be provided with a column selection circuit to select a pair of complementary data lines from a plurality of complementary data lines and couple them to the sense amplifier or the write circuit.

また、メモリセルは記憶情報に従ってワード線の選択レ
ベルより高いしきい値電圧か低いしきい値電圧を持つよ
うにされた記憶素子、いわゆるマスクROM (リード
・オンリー・メモリ)又はEPROM (エレクトリカ
リ・プログラムROM)により構成されてもよい。この
ようなROMにおいて、データ線をプリチャージしてそ
の読み出し信号を得る場合、同様なアドレス選択回路を
用いることによって、低消費電力化と高速読み出しが可
能にされる。
A memory cell is a storage element that has a threshold voltage higher or lower than the selected level of a word line according to stored information, and is a so-called mask ROM (read-only memory) or EPROM (electronic memory). (program ROM). In such a ROM, when a data line is precharged to obtain a readout signal, a similar address selection circuit is used to achieve low power consumption and high-speed readout.

〔利用分野〕[Application field]

以上の説明では主として、本願発明者によってなされた
発明をその背景となった技術分野であるディジタル集積
回路に内蔵されるスタティック型RA Mに通用した場
合を例にして説明したが、これに限定されるものではな
く、例えば1チツプマイクロコンピユータに内蔵される
スタティック型RAM、プリチャージ/ディスチャージ
による読み出しが行われるROM或いは外部記憶装置と
しての同様な半導体記憶装置にも利用できるものである
In the above explanation, the invention made by the inventor of the present application has mainly been explained using as an example the case where it is applied to a static RAM built into a digital integrated circuit, which is the technical field behind the invention, but the invention is not limited to this. It can also be used, for example, in a static RAM built into a one-chip microcomputer, a ROM read by precharge/discharge, or a similar semiconductor memory device as an external memory device.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、この発明が適用されたスタティック型RAM
の一実施例を示す回路図、 第2図は、その動作の一例を示すタイミング図、第3図
は、この発明の他の一実施例を示す要部回路図である。 M−ARY・・メモリアレイ、DCR・・アドレスデコ
ーダ回路、MC・・メモリセル、WA・・書込み回路、
RA・・読み出し回路、CON T・・制御回路
Figure 1 shows a static RAM to which this invention is applied.
FIG. 2 is a timing chart showing an example of its operation, and FIG. 3 is a circuit diagram showing a main part of another embodiment of the present invention. M-ARY...Memory array, DCR...Address decoder circuit, MC...Memory cell, WA...Write circuit,
RA...readout circuit, CONT...control circuit

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、所定の制御信号により特定の1ないし複数ビットの
内部相補アドレス信号を共に非選択レベルとするアドレ
ス入力回路と、残りのアドレス信号を受けるアドレスデ
コーダ回路と、このアドレスデコーダ回路の出力信号と
上記アドレス入力回路により形成された1ないし複数ビ
ットの相補アドレス信号の組み合わせにより1つのワー
ド線の選択信号を形成するワード線選択回路とを含むこ
とを特徴とする半導体記憶装置。 2、上記所定の制御信号は、ダミーサイクル制御信号で
あり、メモリサイクル終了時及び上記ダミーサイクル制
御信号により、スタティック型メモリセルの一対の入出
力端子が結合された相補データ線のプリチャージ動作を
行うプリチャージ信号を形成するものであることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の半導体記憶装置。 3、上記ダミーサイクル制御信号により共に非選択レベ
ルにされる内部相補アドレス信号は、そのアドレス信号
を受ける縦列形態にされた2つのCMOSインバータ回
路の一方の電圧端子に、上記制御信号に従ったハイレベ
ルとロウレベルの信号を供給することにより形成される
ものであることを特徴とする特許請求の範囲第1又は第
2項記載の半導体記憶装置。
[Scope of Claims] 1. An address input circuit that sets internal complementary address signals of one or more specific bits to a non-select level by a predetermined control signal, an address decoder circuit that receives the remaining address signals, and this address decoder. A semiconductor memory device comprising: a word line selection circuit that forms a selection signal for one word line by a combination of an output signal of the circuit and one or more bits of complementary address signals formed by the address input circuit. 2. The predetermined control signal is a dummy cycle control signal, and at the end of the memory cycle and by the dummy cycle control signal, the precharge operation of the complementary data line connected to the pair of input/output terminals of the static memory cell is performed. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the semiconductor memory device forms a precharge signal for precharging. 3. The internal complementary address signals, which are both brought to a non-select level by the dummy cycle control signal, are applied to one voltage terminal of two CMOS inverter circuits in a cascade configuration that receive the address signals, and are set to a high level according to the control signal. 3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the semiconductor memory device is formed by supplying level and low level signals.
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