JPH06195977A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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Publication number
JPH06195977A
JPH06195977A JP4346832A JP34683292A JPH06195977A JP H06195977 A JPH06195977 A JP H06195977A JP 4346832 A JP4346832 A JP 4346832A JP 34683292 A JP34683292 A JP 34683292A JP H06195977 A JPH06195977 A JP H06195977A
Authority
JP
Japan
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circuit
bit line
signal
write
input data
Prior art date
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Pending
Application number
JP4346832A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshimi Kobayashi
利巳 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Kawasaki Steel Corp filed Critical Kawasaki Steel Corp
Priority to JP4346832A priority Critical patent/JPH06195977A/en
Publication of JPH06195977A publication Critical patent/JPH06195977A/en
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Abstract

PURPOSE:To reduce the area of a semiconductor memory chip. CONSTITUTION:A write driver in an I/O circuit 23 is constituted of the series circuit of an FET 27 and an FET 30 and the series circuit of an FET 33 and an FET 35. The B and the inverse of B of a bit wire pair are set to voltage responding to input data with the write driver in the timming of a write-in. Besides, a precharge voltage is impressed to the bit wire pair B and the inverse of B by the write driver in the timming of a precharge.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はデータ読み出し時にビッ
ト線をプリチャージする機能を持つ半導体記憶装置に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device having a function of precharging bit lines when reading data.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種の半導体メモリとして、例
えば、図4に示されるスタティック・ランダム・アクセ
ス・メモリ(SRAM)がある。このようなSRAMに
おいては、情報が記憶されるメモリセル1が行および列
方向にマトリクス状に配置されている。各メモリセル1
は行方向にワード線によって接続されており、列方向に
ビット線対B,バーBによって接続されている。このビ
ット線対は一般的にカラムと呼ばれる。各カラムには直
列にPチャネルMOSFET2が接続されており、読み
出し時にプリチャージ(Pr)端子にローレベル信号が
入力されることにより、各FET2はオンする。各FE
T2がオンすると各ビット線対B,バーBの電圧は電源
電圧レベルにセットされ、プリチャージが行われる。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a semiconductor memory of this type, for example, there is a static random access memory (SRAM) shown in FIG. In such an SRAM, memory cells 1 for storing information are arranged in a matrix in the row and column directions. Each memory cell 1
Are connected in the row direction by word lines, and are connected in the column direction by bit line pairs B and B. This bit line pair is generally called a column. A P-channel MOSFET 2 is connected in series to each column, and when a low level signal is input to the precharge (Pr) terminal during reading, each FET 2 is turned on. Each FE
When T2 is turned on, the voltage of each bit line pair B and bar B is set to the power supply voltage level and precharge is performed.

【0003】入力アドレスに応じてワード線およびビッ
ト線が選択され、選択されたワード線およびビット線に
つながるメモリセル1は、センスアンプ3およびI/O
回路4に接続される。書き込み時には、このI/O回路
4内のPチャネルMOSFET5,6は、NAND回路
9,10によってライトイネーブル(Wr.En)信号
がアクティブの時に入力データDinに応じて駆動され
る。また、NチャネルMOSFET7,8は、NOR回
路11,12およびNOT回路13によってPチャネル
MOSFET5,6と反対のスイッチング状態に制御さ
れる。従って、ビット線対B,バーBは各FET5〜8
によって入力データDinに応じた電圧に設定され、メモ
リセル1に情報が記憶される。一方、読み出し時には、
プリチャージされたビット線対の電位はメモリセル1に
記憶された情報に応じて変化し、この変化がセンスアン
プ3によって増幅される。増幅された読み出しデータD
outはI/O回路4内のバッファ14を介して出力され
る。
A word line and a bit line are selected according to an input address, and the memory cell 1 connected to the selected word line and bit line includes a sense amplifier 3 and an I / O.
Connected to the circuit 4. At the time of writing, the P-channel MOSFETs 5 and 6 in the I / O circuit 4 are driven by the NAND circuits 9 and 10 according to the input data D in when the write enable (Wr.En) signal is active. The N-channel MOSFETs 7 and 8 are controlled by the NOR circuits 11 and 12 and the NOT circuit 13 into a switching state opposite to that of the P-channel MOSFETs 5 and 6. Therefore, the bit line pair B and the bar B are FETs 5 to 8 respectively.
Is set to a voltage according to the input data D in , and information is stored in the memory cell 1. On the other hand, when reading
The potential of the precharged bit line pair changes according to the information stored in the memory cell 1, and this change is amplified by the sense amplifier 3. Amplified read data D
out is output via the buffer 14 in the I / O circuit 4.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の半導体メモリにおいては、読み出しに先立ってビッ
ト線をプリチャージしておく必要から、ビット線対B,
バーBにPチャネルMOSFET2を特に設けている。
従って、従来構成の半導体メモリにおいては、半導体チ
ップにプリチャージ用トランジスタ素子を形成する領域
が必要とされ、チップ面積は削減されなかった。
However, in the above conventional semiconductor memory, since it is necessary to precharge the bit lines before reading, the bit line pair B,
In particular, the bar B is provided with the P-channel MOSFET 2.
Therefore, in the conventional semiconductor memory, a region for forming the precharge transistor element is required in the semiconductor chip, and the chip area has not been reduced.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明はこのような課題
を解消するためになされたもので、情報を記憶する複数
のメモリセルと、これら各メモリセルを行方向に接続す
るワード線と、各メモリセルを列方向に接続するビット
線と、このビット線を介してメモリセルにデータを書き
込む書込回路とを備えた半導体装置において、この書込
回路は、書込入力データおよびプリチャージ信号を入力
して書込タイミングに書込入力データを出力しプリチャ
ージタイミングにプリチャージ信号を出力する信号選択
回路と、この信号選択回路の出力に応じてビット線を所
定電圧に設定するビット線駆動回路とを備えたものであ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve such a problem, and includes a plurality of memory cells for storing information, and a word line connecting these memory cells in the row direction. In a semiconductor device provided with a bit line connecting each memory cell in the column direction and a write circuit for writing data to the memory cell via the bit line, the write circuit is provided with write input data and a precharge signal. And a signal selection circuit that outputs write input data at the write timing and outputs a precharge signal at the precharge timing, and a bit line drive that sets the bit line to a predetermined voltage according to the output of the signal selection circuit. And a circuit.

【0006】また、入力列アドレスをデコードする列デ
コーダと、この列デコーダのデコード値に応じてビット
線を選択する列選択回路と、列デコーダから列選択回路
に与えられるデコード値を選択信号入力に応じて所定数
のビット線を選択する値に切り換えるデコード値選択回
路とを備えたものである。
Further, a column decoder for decoding an input column address, a column selection circuit for selecting a bit line according to the decode value of this column decoder, and a decode value given from the column decoder to the column selection circuit as a selection signal input. A decode value selection circuit for switching to a value for selecting a predetermined number of bit lines in accordance therewith.

【0007】[0007]

【作用】ビット線駆動回路はビット線へのデータ書込お
よびビット線に対するプリチャージの双方に使用され、
従来のプリチャージ専用トランジスタは不要になる。
The bit line drive circuit is used both for writing data to the bit line and for precharging the bit line.
The conventional transistor for exclusive use of precharge becomes unnecessary.

【0008】また、デコード値選択回路の制御によって
列選択回路が所定数のビット線を選択する場合には、ビ
ット線駆動回路によって所定数のビット線に対して一度
にプリチャージが行われる。
When the column selection circuit selects a predetermined number of bit lines under the control of the decode value selection circuit, the bit line drive circuit precharges the predetermined number of bit lines at once.

【0009】[0009]

【実施例】図1は本発明の一実施例によるSRAMの概
略構成を示している。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows a schematic structure of an SRAM according to an embodiment of the present invention.

【0010】メモリセル21はCMOSFETから構成
され、行方向および列方向にマトリクス状に配置されて
いる。そして、各行ごとにワード線によって接続され、
各列ごとにビット線対B,バーBによって接続されてい
る。各ワード線はワードドライバを介して行デコーダに
接続されており、行デコーダは入力アドレスに応じてい
ずれか1本のワード線の電圧レベルをハイレベルに設定
する。ハイレベルにドライブされたワード線につながる
メモリセル21は、ビット線対B,バーBに接続され
る。なお、本実施例においては1カラムに対して1ビッ
トの情報が対応させられている。従って、1ワードを8
ビットに構成した場合には、図示される回路構成を1単
位にした8単位の回路構成が1ワードとして形成され
る。
The memory cells 21 are composed of CMOSFETs and are arranged in a matrix in the row and column directions. And each line is connected by word line,
Each column is connected by a bit line pair B and a bar B. Each word line is connected to a row decoder via a word driver, and the row decoder sets the voltage level of any one word line to a high level according to an input address. The memory cell 21 connected to the word line driven to the high level is connected to the bit line pair B and bar B. In this embodiment, 1-bit information is associated with 1 column. Therefore, 1 word is 8
When the bit configuration is used, an 8-unit circuit configuration in which the illustrated circuit configuration is 1 unit is formed as one word.

【0011】I/O回路23はビット線対B,バーBに
接続にされており、プリチャージタイミングを決定する
プリチャージイネーブル(Pr.En)信号、書込タイ
ミングを決定するライトイネーブル(Wr.En)信号
および書込入力データDinを入力する。また、I/O回
路23は読み出しデータDout を出力する。
The I / O circuit 23 is connected to the pair of bit lines B and B, and has a precharge enable (Pr.En) signal that determines the precharge timing and a write enable (Wr. En) signal and write input data D in are input. Further, the I / O circuit 23 outputs read data D out .

【0012】入力データDinはAND回路24の一方の
端子に入力される。ライトイネーブル信号はNOT回路
25で反転され、このAND回路24の他方の端子に入
力される。プリチャージイネーブル信号はNOR回路2
6の一方の端子に入力され、他方の端子にはAND回路
24の出力が入力される。このNOR回路26の出力
は、ソースが電源電圧VDDに設定されたPチャネルMO
SFET27に与えられる。また、入力データDinはN
OR回路28の一方の端子にも入力され、このNOR回
路28の他方の入力端子にはNOT回路29でさらに反
転されてもとに戻ったライトイネーブル信号が与えられ
る。NOR回路28の出力はソースが接地されたNチャ
ネルMOSFET30に与えられる。これらFET27
およびFET30は直列に接続されており、各FET2
7,30の接続点はビット線Bに接続されている。
The input data D in is input to one terminal of the AND circuit 24. The write enable signal is inverted by the NOT circuit 25 and input to the other terminal of the AND circuit 24. The precharge enable signal is the NOR circuit 2
6 is input to one terminal, and the output of the AND circuit 24 is input to the other terminal. The output of the NOR circuit 26 is a P-channel MO whose source is set to the power supply voltage V DD.
It is given to the SFET 27. The input data D in is N
The write enable signal, which is also input to one terminal of the OR circuit 28 and is returned to the original by the NOT circuit 29, is applied to the other input terminal of the NOR circuit 28. The output of the NOR circuit 28 is given to the N-channel MOSFET 30 whose source is grounded. These FET27
And FET30 are connected in series, and each FET2
The connection point of 7 and 30 is connected to the bit line B.

【0013】また、NOR回路28の出力はAND回路
31の一方の端子にも入力され、このAND回路31の
他方の端子にはNOT回路25で反転されたライトイネ
ーブル信号が入力される。このAND回路31の出力は
NOR回路32の一方の端子に入力され、この他方の端
子にはプリチャージイネーブル信号が入力される。この
NOR回路32の出力はソースが電源電圧VDDに設定さ
れたPチャネルMOSFET33に与えられる。また、
NOR回路26の出力はNOR回路34の一方の端子に
入力され、この他方の端子にはNOT回路29で反転さ
れてもとに戻ったライトイネーブル信号が入力される。
このNOR回路34の出力はソースが接地されたNチャ
ネルMOSFET35に与えられる。これらFET33
およびFET35は直列に接続されており、各FET3
3,35の接続点はビット線バーBに接続されている。
The output of the NOR circuit 28 is also input to one terminal of the AND circuit 31, and the write enable signal inverted by the NOT circuit 25 is input to the other terminal of the AND circuit 31. The output of the AND circuit 31 is input to one terminal of the NOR circuit 32, and the precharge enable signal is input to the other terminal. The output of the NOR circuit 32 is given to the P-channel MOSFET 33 whose source is set to the power supply voltage V DD . Also,
The output of the NOR circuit 26 is input to one terminal of the NOR circuit 34, and the write enable signal returned to the original value when inverted by the NOT circuit 29 is input to the other terminal.
The output of the NOR circuit 34 is given to the N-channel MOSFET 35 whose source is grounded. These FET33
And FET35 are connected in series, and each FET3
The connection points of 3, 35 are connected to the bit line bar B.

【0014】このような構成において、入力アドレスに
応じて特定のワード線およびビット線対B,バーBが選
択される。さらに、選択されたワード線およびビット線
対B,バーBによって1つのメモリセル21が特定さ
れ、このメモリセル21はセンスアンプ22およびI/
O回路23に接続される。特定されたメモリセル21に
対する書き込みおよび読み出しは、このI/0回路23
をインターフェースとして行われる。
In such a structure, a specific word line and bit line pair B and bar B are selected according to an input address. Further, one memory cell 21 is specified by the selected word line and bit line pair B and bar B, and this memory cell 21 is connected to the sense amplifier 22 and I / I.
It is connected to the O circuit 23. Writing to and reading from the specified memory cell 21 are performed by the I / 0 circuit 23.
Is used as an interface.

【0015】I/O回路23に入力されるライトイネー
ブル信号は図2(b)に示され、同図(a)に示すクロ
ック信号の立ち下がりに応じてローレベルになり、この
クロック信号の立上がりに応じてハイレベルになる。ま
た、プリチャージタイミングを決定するプリチャージイ
ネーブル信号は同図(d)に示され、ライトイネーブル
信号と同様に、クロック信号の立ち下がりに応じてロー
レベルになり、クロック信号の立上がりに応じてハイレ
ベルになる。ライトイネーブル信号は、ハイレベルが非
活性なニゲート状態に相当し、ローレベルが活性なアサ
ート状態に相当している。また、プリチャージイネーブ
ル信号は、これと反対に、ハイレベルがアサート状態に
相当し、ローレベルがニゲート状態に相当している。
The write enable signal input to the I / O circuit 23 is shown in FIG. 2B and becomes low level in response to the fall of the clock signal shown in FIG. 2A, and the rise of this clock signal. According to the high level. Further, the precharge enable signal that determines the precharge timing is shown in (d) of the figure. As with the write enable signal, the precharge enable signal goes low at the falling edge of the clock signal and goes high at the rising edge of the clock signal. Become a level. The high level of the write enable signal corresponds to the inactive negated state, and the low level corresponds to the active asserted state. On the contrary, in the precharge enable signal, the high level corresponds to the asserted state, and the low level corresponds to the negated state.

【0016】本実施例におけるSRAMの書き込み動作
は以下のごとく行われる。
The write operation of the SRAM in this embodiment is performed as follows.

【0017】入力データDinは、ライトイネーブル信号
のローレベル時つまり書込タイミングに、AND回路2
4からNOR回路26へ出力される。ライトイネーブル
信号の活性時にはプリチャージイネーブル信号は非活性
状態であるため、NOR回路26はライトイネーブル信
号が活性な時にはAND回路24からの入力データDin
を出力する。また、プリチャージ信号が活性な時には、
NOR回路26はプリチャージ信号を出力する。従っ
て、PチャネルMOSFET27は、ライトイネーブル
信号が活性な時に入力データDinに応じてオン・オフ制
御される。また、NチャネルMOSFET30は、NO
R回路28によってPチャネルMOSFET27と反対
のスイッチング状態に制御される。
The input data D in is input to the AND circuit 2 when the write enable signal is at the low level, that is, at the write timing.
4 to the NOR circuit 26. Since the precharge enable signal is inactive when the write enable signal is active, the NOR circuit 26 receives the input data D in from the AND circuit 24 when the write enable signal is active.
Is output. Also, when the precharge signal is active,
The NOR circuit 26 outputs a precharge signal. Therefore, the P-channel MOSFET 27 is ON / OFF controlled according to the input data D in when the write enable signal is active. Further, the N-channel MOSFET 30 is NO
The R circuit 28 controls the switching state opposite to that of the P-channel MOSFET 27.

【0018】例えば、入力データDinがハイレベルの場
合には、書込タイミングにAND回路24からハイレベ
ル信号が出力され、NOR回路26はこのハイレベル信
号を反転したローレベル信号をFET27へ出力する。
PチャネルMOSFET27はこのローレベル信号受け
てオン状態になる。また、NOR回路28はこのハイレ
ベルの入力データDinを受け、書込タイミングにローレ
ベル信号をFET30へ出力する。NチャネルMOSF
ET30はこのローレベル信号受けてオフ状態になる。
従って、ビット線BにはFET27を介して電源電圧V
DDが供給される。
For example, when the input data D in is at high level, the AND circuit 24 outputs a high level signal at the write timing, and the NOR circuit 26 outputs a low level signal which is the inverted high level signal to the FET 27. To do.
The P-channel MOSFET 27 receives this low level signal and is turned on. Further, the NOR circuit 28 receives the high level input data D in and outputs a low level signal to the FET 30 at the write timing. N-channel MOSF
The ET 30 receives this low level signal and is turned off.
Therefore, the power supply voltage V is applied to the bit line B via the FET 27.
DD is supplied.

【0019】また、AND回路31は、NOR回路28
からのデータ、つまり、入力データDinの反転信号を書
込タイミングに出力する。NOR回路32はこの信号出
力を受けてそのまま入力データDinの反転信号をFET
33へ出力する。従って、PチャネルMOSFET33
はライトイネーブル信号が活性な時に入力データDin
応じてオン・オフ制御される。また、NチャネルMOS
FET35は、NOR回路34がNOR回路26から出
力される入力データDinの反転信号を入力することによ
り、PチャネルMOSFET33と反対のスイッチング
状態に制御される。
Further, the AND circuit 31 is a NOR circuit 28.
From the data, that is, the inverted signal of the input data D in is output at the write timing. The NOR circuit 32 receives this signal output and directly outputs the inverted signal of the input data D in to the FET.
Output to 33. Therefore, the P-channel MOSFET 33
Is controlled to be turned on / off according to the input data D in when the write enable signal is active. In addition, N-channel MOS
The FET 35 is controlled to the switching state opposite to that of the P-channel MOSFET 33 by the NOR circuit 34 receiving the inverted signal of the input data D in output from the NOR circuit 26.

【0020】例えば、入力データDinがハイレベルの場
合には、書込タイミングにAND回路31からローレベ
ル信号が出力され、NOR回路32はこのローレベル信
号を反転したハイレベル信号をFET33へ出力する。
PチャネルMOSFET33はこのハイレベル信号受け
てオフ状態になる。また、NOR回路34は、NOR回
路26からハイレベルの入力データDinが反転されたロ
ーレベル信号を受け、書込タイミングにハイレベル信号
をFET35へ出力する。NチャネルMOSFET35
はこのハイレベル信号を受けてオン状態になる。従っ
て、ビット線バーBにはFET35を介して接地電圧が
供給される。
For example, when the input data D in is at a high level, the AND circuit 31 outputs a low level signal at the write timing, and the NOR circuit 32 outputs a high level signal obtained by inverting the low level signal to the FET 33. To do.
The P-channel MOSFET 33 receives this high level signal and is turned off. Further, the NOR circuit 34 receives the low level signal obtained by inverting the high level input data D in from the NOR circuit 26, and outputs the high level signal to the FET 35 at the write timing. N-channel MOSFET 35
Receives this high level signal and is turned on. Therefore, the ground voltage is supplied to the bit line bar B through the FET 35.

【0021】このため、ビット線対B,バーBは、図2
(c)に示すように、ライトイネーブル信号のアサート
時に、ライトイネーブル信号の立ち下がりから一定時間
遅れて入力データDinに応じた電圧にそれぞれ設定され
る。この結果、ワード線およびビット線対によって選択
された特定のメモリセル11には、ビット線対B,バー
Bの設定電位に応じた情報が書き込まれる。
Therefore, the bit line pair B and the bar B are shown in FIG.
As shown in (c), when the write enable signal is asserted, the voltage corresponding to the input data D in is set after a certain time delay from the fall of the write enable signal. As a result, information according to the set potential of the bit line pair B and the bar B is written in the specific memory cell 11 selected by the word line and the bit line pair.

【0022】一方、本実施例におけるSRAMのプリチ
ャージ動作は以下のごとく行われる。
On the other hand, the SRAM precharge operation in this embodiment is performed as follows.

【0023】まず、読み出し動作に先立ち、ビット線対
B,バーBを所定の電圧にリセットするためのプリチャ
ージが各ビット線対に対して行われる。このプリチャー
ジは図2(d)に示すプリチャージイネーブル信号のハ
イレベル時に行われる。従って、プリチャージタイミン
グにおいては、図1に示すI/O回路23内のNOR回
路26およびNOR回路32の各一方の入力にはハイレ
ベル信号が与えられる。このため、プリチャージタイミ
ングにおいては、他方の端子に入力される信号の如何に
かかわらず、各NOR回路26,32からはローレベル
信号が出力され、このローレベル信号が各PチャネルM
OSFET27,33に与えられる。従って、各FET
27,33はオン状態になる。
First, prior to the read operation, precharge for resetting the bit line pair B and bar B to a predetermined voltage is performed on each bit line pair. This precharge is performed when the precharge enable signal shown in FIG. 2D is at high level. Therefore, at the precharge timing, a high level signal is applied to one input of each of the NOR circuit 26 and the NOR circuit 32 in the I / O circuit 23 shown in FIG. Therefore, at the precharge timing, a low level signal is output from each of the NOR circuits 26 and 32 regardless of the signal input to the other terminal, and this low level signal is output to each P channel M.
It is given to the OSFETs 27 and 33. Therefore, each FET
27 and 33 are turned on.

【0024】また、プリチャージ信号がハイレベルの時
には図2に示すようにライトイネーブル信号もハイレベ
ルである。このため、このライトイネーブル信号を一方
の端子に入力するNOR回路28の出力は、プリチャー
ジタイミングにおいて他方の端子に入力される信号の如
何にかかわらずローレベルになる。従って、このローレ
ベル信号を入力するNチャネルMOSFET30は、プ
リチャージタイミングにはオフ状態になる。また、NO
R回路34の一方の端子にもライトイネーブル信号が与
えられているため、NOR回路34はプリチャージタイ
ミングにおいて他方の端子に入力される信号の如何にか
かわらずローレベル信号を出力する。従って、このロー
レベル信号を入力するNチャネルMOSFET35もプ
リチャージタイミングにはオフ状態になる。
When the precharge signal is at high level, the write enable signal is also at high level as shown in FIG. Therefore, the output of the NOR circuit 28 which inputs this write enable signal to one terminal becomes low level regardless of the signal input to the other terminal at the precharge timing. Therefore, the N-channel MOSFET 30 which inputs this low level signal is turned off at the precharge timing. Also, NO
Since the write enable signal is also applied to one terminal of the R circuit 34, the NOR circuit 34 outputs a low level signal regardless of the signal input to the other terminal at the precharge timing. Therefore, the N-channel MOSFET 35 that inputs this low level signal is also turned off at the precharge timing.

【0025】この結果、プリチャージタイミングにおい
ては、ビット線対B,バーBにはFET27,33を介
して電源電圧VDDが供給され、プリチャージがI/O回
路23によって行われる。ビット線対に対するプリチャ
ージ後、読み出し動作が行われ、ワード線およびビット
線対B,バーBによって選択された特定のメモリセル2
1は、プリチャージ電位に設定されたビット線対B,バ
ーBを記憶した情報に応じた電位に変化させる。この電
位変化はセンスアンプ22により増幅され、I/O回路
23内のバッファ36を介して出力される。
As a result, at the precharge timing, the power supply voltage V DD is supplied to the bit line pair B and the bar B through the FETs 27 and 33, and precharge is performed by the I / O circuit 23. After precharging the bit line pair, a read operation is performed, and the specific memory cell 2 selected by the word line and the bit line pair B and B is selected.
1 changes the bit line pair B and bar B set to the precharge potential to a potential according to the stored information. This potential change is amplified by the sense amplifier 22 and output via the buffer 36 in the I / O circuit 23.

【0026】このように本実施例においては、ライトド
ライバを構成するFET27およびFET30の直列回
路並びにFET33およびFET35の直列回路によ
り、各ビット線対へのデータ書込およびビット線対に対
するプリチャージの双方が行われる。すなわち、ビット
線対に直列接続された従来のプリチャージ専用のPチャ
ネルMOSFETに代わり、I/O回路23内のPチャ
ネルMOSFET27,33がプリチャージに兼用さ
れ、従来のプリチャージ専用のPチャネルMOSFET
は不要になる。この従来のPチャネルMOSFETは各
ビット線ごとに相当数設けられており、半導体メモリチ
ップ上で大きな面積を占めていた。これに対し、本実施
例でプリチャージに使用されるPチャネルMOSFET
は、上記のようにライトドライバとして用いられるPチ
ャネルMOSFET27,33と兼用されるため、従来
プリチャージ専用に設けられたPチャネルMOSFET
の素子形成領域は半導体メモリチップから削除される。
この結果、メモリチップ面積は削減される。
As described above, in this embodiment, the series circuit of the FET 27 and the FET 30 and the series circuit of the FET 33 and the FET 35, which constitute the write driver, both write data to each bit line pair and precharge the bit line pair. Is done. That is, the P channel MOSFETs 27 and 33 in the I / O circuit 23 are also used for precharging instead of the conventional P channel MOSFETs dedicated to precharging that are connected in series to the bit line pair, and the conventional P channel MOSFETs dedicated to precharging
Becomes unnecessary. A considerable number of the conventional P-channel MOSFETs are provided for each bit line and occupy a large area on the semiconductor memory chip. On the other hand, the P-channel MOSFET used for precharging in this embodiment
Is also used as the P-channel MOSFETs 27 and 33 used as the write driver as described above, the P-channel MOSFET conventionally provided only for precharge.
The element formation region of is deleted from the semiconductor memory chip.
As a result, the memory chip area is reduced.

【0027】図3は本発明の他の実施例によるSRAM
の概略構成を示す図である。上記実施例では1つのビッ
ト情報を1つのカラムに対応させて情報を記憶する場合
について説明したが、本実施例では、1つのビット情報
を4カラムに対応させて情報を記憶する場合について説
明する。
FIG. 3 shows an SRAM according to another embodiment of the present invention.
It is a figure which shows schematic structure of. In the above embodiment, the case where one bit information is associated with one column to store information has been described, but in this embodiment, the case where one bit information is associated with four columns and information is stored will be described. .

【0028】メモリセル41は行方向および列方向にマ
トリクス状に配置されており、各行ごとにワード線によ
って接続され、各列ごとにビット線対B,バーBによっ
て接続されている。各ワード線はワードドライバ42を
介して行デコーダ43に接続されており、行デコーダ4
3は入力アドレスに応じていずれか1本のワード線の電
圧レベルをハイレベルに設定する。ハイレベルにドライ
ブされたワード線につながるメモリセル41は、ビット
線対B,バーBに接続される。また、各ビット線対B,
バーBはNチャネルMOSFETからなるカラムセレク
タ44に接続されており、このカラムセレクタ44はデ
コード値選択回路45を介してカラムデコーダ46に接
続されている。
The memory cells 41 are arranged in a matrix in the row direction and the column direction, and each row is connected by a word line, and each column is connected by a bit line pair B and a bar B. Each word line is connected to the row decoder 43 via the word driver 42, and the row decoder 4
3 sets the voltage level of any one of the word lines to the high level according to the input address. The memory cell 41 connected to the word line driven to the high level is connected to the bit line pair B and bar B. In addition, each bit line pair B,
The bar B is connected to a column selector 44 composed of an N-channel MOSFET, and this column selector 44 is connected to a column decoder 46 via a decode value selection circuit 45.

【0029】カラムデコーダ46は入力アドレスからい
ずれか1つのカラムを選択するデコード値を出力する。
このデコード値はデコード値選択回路45を構成するO
R回路47の一方の端子に入力される。このOR回路4
7の他方の端子にはsel端子が接続されており、se
l端子に入力される選択信号がローレベルの時には、デ
コード値選択回路45はカラムデコーダ46の出力した
デコード値をそのままカラムセレクタ44へ出力する。
従って、カラムセレクタ44はこのデコード値に応じて
いずれか1つのカラムを選択し、選択されたカラムのビ
ット線対B,バーBはデータ線を介してセンスアンプ4
7およびI/O回路48に接続される。また、sel端
子に入力される選択信号がハイレベルになると、各NO
R回路47の全出力は他入力の如何にかかわらずハイレ
ベルになる。従って、この選択信号入力によってカラム
セレクタ44を構成する全てのNチャネルMOSFET
はオンし、カラムセレクタ44は全カラムを選択する。
このため、全てのビット線対B,バーBがデータ線を介
してセンスアンプ47およびI/O回路48に接続され
る。
The column decoder 46 outputs a decode value for selecting any one column from the input address.
This decode value is O that constitutes the decode value selection circuit 45.
It is input to one terminal of the R circuit 47. This OR circuit 4
The sel terminal is connected to the other terminal of 7
When the selection signal input to the l terminal is low level, the decode value selection circuit 45 outputs the decode value output from the column decoder 46 to the column selector 44 as it is.
Therefore, the column selector 44 selects any one column according to the decoded value, and the bit line pair B and bar B of the selected column is connected to the sense amplifier 4 via the data line.
7 and I / O circuit 48. When the selection signal input to the sel terminal becomes high level, each NO
All outputs of the R circuit 47 become high level regardless of other inputs. Therefore, all the N-channel MOSFETs that form the column selector 44 by this selection signal input
Is turned on, and the column selector 44 selects all columns.
Therefore, all the bit line pairs B and B are connected to the sense amplifier 47 and the I / O circuit 48 via the data lines.

【0030】I/O回路48は前記実施例におけるI/
O回路23と同様に構成されている。従って、書き込み
および読み出し動作は上記実施例と同様にして行われる
が、プリチャージは次のように行われる。つまり、プリ
チャージ信号がアサート状態になる時にsel端子にハ
イレベルの選択信号が入力される。このため、カラムセ
レクタ44は、プリチャージタイミングにはデコード値
選択回路45の制御によって全カラム選択状態に設定さ
れる。従って、I/O回路48から前述のように出力さ
れるプリチャージ電圧はデータ線を介して全カラムのビ
ット線対B,バーBに印加される。従って、1ビット情
報に複数カラムを対応させて情報を記憶する本実施例の
場合においては、全カラムのビット線対に対して一度に
プリチャージが行われる。
The I / O circuit 48 is the I / O circuit in the above embodiment.
It is configured similarly to the O circuit 23. Therefore, the write and read operations are performed in the same manner as in the above embodiment, but the precharge is performed as follows. That is, when the precharge signal is asserted, the high-level selection signal is input to the sel terminal. Therefore, the column selector 44 is set to the all column selection state by the control of the decode value selection circuit 45 at the precharge timing. Therefore, the precharge voltage output from the I / O circuit 48 as described above is applied to the bit line pairs B and B of all columns via the data lines. Therefore, in the case of the present embodiment in which one bit information is associated with a plurality of columns to store information, the bit line pairs of all columns are precharged at one time.

【0031】このように本実施例においても、I/O回
路48内のライトドライバのPチャネルMOSFET
は、ビット線対B,バーBへのデータ書込および各ビッ
ト線対B,バーBに対するプリチャージの双方に使用さ
れる。このため、従来プリチャージ専用に設けられたP
チャネルMOSFETは不要になり、本実施例において
もメモリチップの面積は削減され、上記実施例と同様な
効果が奏される。
As described above, also in this embodiment, the P-channel MOSFET of the write driver in the I / O circuit 48 is used.
Are used both for writing data to the bit line pair B and bar B and for precharging each bit line pair B and bar B. Therefore, P, which is conventionally provided only for precharge
The channel MOSFET becomes unnecessary, and the area of the memory chip is reduced in this embodiment as well, and the same effect as that of the above embodiment can be obtained.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、ビ
ット線駆動回路はビット線へのデータ書込およびビット
線に対するプリチャージの双方に使用され、従来のプリ
チャージ専用のトランジスタは不要になる。また、デコ
ード値選択回路の制御によって列選択回路が所定数のビ
ット線を選択する場合には、ビット線駆動回路によって
所定数のビット線に対して一度にプリチャージが行われ
る。このため、半導体記憶装置を形成する半導体メモリ
チップからプリチャージ専用トランジスタの素子形成領
域が削除され、メモリチップの面積は削減される。
As described above, according to the present invention, the bit line drive circuit is used for both the data writing to the bit line and the precharge for the bit line, and the conventional transistor dedicated to the precharge is unnecessary. Become. When the column selection circuit selects a predetermined number of bit lines under the control of the decode value selection circuit, the bit line drive circuit precharges the predetermined number of bit lines at once. Therefore, the element forming region of the precharge-dedicated transistor is removed from the semiconductor memory chip forming the semiconductor memory device, and the area of the memory chip is reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例によるSRAMの概略構成を
示す回路ブロック図である。
FIG. 1 is a circuit block diagram showing a schematic configuration of an SRAM according to an embodiment of the present invention.

【図2】一実施例におけるSRAM各部の信号を示すタ
イミングチャートである。
FIG. 2 is a timing chart showing signals of various parts of SRAM in one embodiment.

【図3】本発明の他の実施例によるSRAMの概略構成
を示す回路ブロック図である。
FIG. 3 is a circuit block diagram showing a schematic configuration of an SRAM according to another embodiment of the present invention.

【図4】従来のSRAMの概略構成を示す回路ブロック
図である。
FIG. 4 is a circuit block diagram showing a schematic configuration of a conventional SRAM.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

21…メモリセル、22…センスアンプ、23…I/O
回路、24,31…AND回路、25,29…NOT回
路、26,28,32,34…NOR回路、27,33
…PチャネルMOSFET、30,35…NチャネルM
OSFET、36…バッファ。
21 ... Memory cell, 22 ... Sense amplifier, 23 ... I / O
AND circuit, 25, 29 ... NOT circuit, 26, 28, 32, 34 ... NOR circuit, 27, 33
... P-channel MOSFET, 30, 35 ... N-channel M
OSFET, 36 ... Buffer.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 6866−5L G11C 11/34 353 F ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location 6866-5L G11C 11/34 353 F

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 情報を記憶する複数のメモリセルと、こ
れら各メモリセルを行方向に接続するワード線と、前記
各メモリセルを列方向に接続するビット線と、このビッ
ト線を介して前記メモリセルにデータを書き込む書込回
路とを備えた半導体記憶装置において、 前記書込回路は、書込入力データおよびプリチャージ信
号を入力して書込タイミングに書込入力データを出力し
プリチャージタイミングにプリチャージ信号を出力する
信号選択回路と、この信号選択回路の出力に応じて前記
ビット線を所定電圧に設定するビット線駆動回路とを備
えたことを特徴とする半導体記憶装置。
1. A plurality of memory cells for storing information, a word line connecting each of these memory cells in a row direction, a bit line connecting each of the memory cells in a column direction, and said bit line via said bit line. In a semiconductor memory device including a write circuit for writing data to a memory cell, the write circuit inputs write input data and a precharge signal and outputs the write input data at a write timing to output a precharge timing. 2. A semiconductor memory device, comprising: a signal selection circuit for outputting a precharge signal; and a bit line drive circuit for setting the bit line to a predetermined voltage according to the output of the signal selection circuit.
【請求項2】 前記信号選択回路は、書込タイミングに
書込入力データを出力する第1のゲート回路と、プリチ
ャージ信号および前記第1のゲート回路から出力される
書込入力データの論理和を出力する第2のゲート回路と
からなり、 前記ビット線駆動回路は二基準電圧間をスイッチングす
るトランジスタからなり、前記第2のゲート回路から出
力される信号が書込入力データの場合には前記ビット線
を書込入力データに応じた電圧に設定し、前記第2のゲ
ート回路から出力される信号がプリチャージ信号の場合
には前記ビット線を前記二基準電圧のうちのいずれか一
方の電圧にプリチャージすることを特徴とする請求項1
記載の半導体記憶装置。
2. The signal selection circuit is a logical sum of a first gate circuit that outputs write input data at a write timing, a precharge signal, and write input data output from the first gate circuit. And a second gate circuit that outputs a signal, the bit line drive circuit includes a transistor that switches between two reference voltages, and when the signal output from the second gate circuit is write input data, The bit line is set to a voltage according to write input data, and when the signal output from the second gate circuit is a precharge signal, the bit line is set to one of the two reference voltages. 2. Precharging to
The semiconductor memory device described.
【請求項3】 前記信号選択回路は、書込タイミングに
書込入力データを出力する第1のゲート回路と、プリチ
ャージ信号および前記第1のゲート回路から出力される
書込入力データの論理和を反転して出力する第2のゲー
ト回路と、書込タイミングに書込入力データの反転信号
を出力する第3のゲート回路とからなり、 前記ビット線駆動回路は、ドレインが一基準電圧に設定
されゲートが前記第2のゲート回路の出力に接続された
第1導電型チャネルを持つ第1のトランジスタと、ドレ
インがこの第1のトランジスタのソースおよびビット線
に接続されゲートが前記第3のゲート回路の出力に接続
されソースが他基準電圧に設定された第2導電型チャネ
ル持つ第2のトランジスタとからなることを特徴とする
請求項1記載の半導体記憶装置。
3. The signal selection circuit is a logical sum of a first gate circuit that outputs write input data at a write timing, a precharge signal, and write input data output from the first gate circuit. And a third gate circuit that outputs an inverted signal of write input data at a write timing. The bit line drive circuit has a drain set to one reference voltage. A first transistor having a first conductivity type channel whose gate is connected to the output of the second gate circuit, a drain connected to the source of the first transistor and a bit line, and a gate connected to the third gate 2. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a second transistor connected to the output of the circuit and having a second conductivity type channel whose source is set to another reference voltage.
【請求項4】 入力列アドレスをデコードする列デコー
ダと、この列デコーダのデコード値に応じて前記ビット
線を選択する列選択回路と、前記列デコーダから前記列
選択回路に与えられるデコード値を選択信号入力に応じ
て所定数の前記ビット線を選択する値に切り換えるデコ
ード値選択回路とを備えたことを特徴とする請求項1か
ら請求項3のいずれか1項に記載した半導体記憶装置。
4. A column decoder which decodes an input column address, a column selection circuit which selects the bit line according to a decode value of the column decoder, and a decode value which is given from the column decoder to the column selection circuit. 4. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a decode value selection circuit that switches to a value that selects a predetermined number of the bit lines according to a signal input.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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