JPS6038335A - ビスフエノ−ルaの製造方法 - Google Patents

ビスフエノ−ルaの製造方法

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JPS6038335A
JPS6038335A JP58145770A JP14577083A JPS6038335A JP S6038335 A JPS6038335 A JP S6038335A JP 58145770 A JP58145770 A JP 58145770A JP 14577083 A JP14577083 A JP 14577083A JP S6038335 A JPS6038335 A JP S6038335A
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明 山田
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茂 稲葉
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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は改良された2、2−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン、即ちビスフェノールA ヲ製造する方
法に関するものである。
ビスフェノールAは、通常酸性触媒の存在下にフェノー
ルとアセトンから製造されている。この製造において、
イオウ化合物等の助触媒を添加することもある。
従来から行なわれて〜・る製造方法では、ビスフェノー
ルAはもちろん高収率で製造されるのであるが、製造さ
れたビスフェノールAはその異性体である2−(4−ヒ
ドロキシフェニル)−2−(2−ヒドロキシフェニル)
プロパ7 (以下0. P’体と略す。)、ビスフェノ
ールAに更に1モルのアセトンとフェノールが反応した
6核体、副生物である2、 2.4−トリメチル−4−
(4−ヒドロキシフェニル)クロマン(以下、コダイマ
ーと略す。)等を含んでおり、ポリカーボネートやポリ
エステル等の原料として用いるには純度において問題が
ある。そのため、これらの原料としては蒸留、抽出、再
結晶、ス) IJノピング等の種々の精製法を組合せて
精製されたものが用いられている。
上記不純物の生成は反応温度が高い程多くなるので、で
きるだけ低い温度、通常35〜80℃で反応が行なわれ
ている。そのため、反応の途中で生成したビスフェノー
ルAはフェノールと付加物を作り晶析し、その結晶化熱
で部分的に反応熱が上昇し、せっかく低温で反応を行な
っているのにもかかわらず不純物が多量に副生するとい
う問題がある。また、反応の途中で生成する結晶は急激
に生長するため、不純物を結晶中に取り込むという問題
がある。更に、急速な核発生か起るため微細な結晶しか
できず、晶析が始まると反応混合物の見かけの粘度が上
昇し、攪拌効率が低下し、晶析熱の除去が増々困難にな
るという悪循環を引き起している。
これらの欠点を解決する方法として、(1)反応をアセ
トンの転化率が50〜80%で止め、即ち、ビスフェノ
ールAとフェノールの付加物が晶析しないうちに止め、
未反応のアセトンを減圧下にあるいは窒素ガスの吹き込
みにより、アセトンを除去すると共にアセトンの気化熱
により反応混合液を冷却し、ビスフェノールAとフェノ
ールを晶析させる方法(!+1公昭42−26787号
公報)、(2)O。
P嚇を含むビスフェノールAの反応混合物をその反応温
度より低い温度に保持し、平衡によりo、 p’一体を
ビスフェノールAに転換するととにより高純度のビスフ
ェノールAを得る方法(特公昭43−18695号公報
)、(3)助触媒を用い、反応の速度を向上させると共
に、不純物の副生を抑制する方法(特公昭27−536
7号公報)、(4)まず少量の反応を行ないビスフェノ
ールAとフェノールの結晶を晶析し始めたら、徐々にフ
ェノールとアセトンの混合物を塩化水素と共に加え反応
を行なう方法(ドイツ特許1168445号公報)等が
ある。
しかしながら、(1)の方法ではアセトンの転化率が5
0〜80%で反応を停止する必要があり、ビスフェノー
ルへの生産性が劣ると共に、アセトンを回収しなげれば
ならないという問題がある。(2)の 。
方法では、なるほどo、p’一体は減少するのであるが
、その他の6核体、コダイマー等の不純物はそのまま残
る欠点があるばかりか、更にo、 p’一体をビスフェ
ノールAに転換する時間が必要である。
(3)の方法では、助触媒として用いられるのが悪臭を
有したイオウ化合物であるので取扱いに問題があるばか
りでなく、得られたビスフェノールAからイオウ化合物
を除去しなければならないという欠点がある。また、(
4)の方法では、まず少量を反応させ結晶を晶析させる
必要があり、その後徐々に原料を添加するので余分に時
間がかかるという欠点があると共に、少量の反応でも不
純物が副生するという問題がある。
以上にみられるように、ビスフェノールAの製造方法と
して工業的に満足する方法がないのが実5− 情である。
本発明者らは、ビスフェノールへの製造方法の改良法に
つき鋭意検討した結果、フェノールとアセトンを酸性触
媒の存在下に反応させ、生成するビスフェノールAが反
応混合液中で飽和する前後にビスフェノールAあるいは
ビスフェノールAとフェノールの付加物の結晶な極く少
量添加すると、ビスフェノールAとフェノールの付加物
の急激な晶出による急激な発熱がないことおよび反応混
合物の見かげ粘度の上昇がないこと、更に、反応終了後
に得られる反応混合物中の不純物の生成が抑制されるこ
とを見出し、更に研究して、遂に本発明を完成するに到
った。
即ち、本発明はフェノールとアセトンおよび/またはパ
ライソプロペニルフェノール類を酸性触媒の存在下に反
応させてビスフェノールAを製造する方法において、反
応により生成するビスフェノールの反応混合液中での濃
度が飽和濃度の50%に達した時点から生成するビスフ
ェノールAとフェノールの付加物が晶析し始めるまでの
間に、ビ6− スフエノールへの結晶および/またはビスフェノールA
とフェノールの伺加物の結晶を、反応混合液に添加する
ことを特徴とするビスフェノールへの製造方法である。
本発明に用いるバライソプロペニルフェノール類とは、
フェノールのパラ位にアセトンが付加した2−(4−ハ
イトロギシフェニル) −2−フロパノ・−ル、4−イ
ソプロペニルフェノールオヨヒ4−イソプロペニルフェ
ノールの線状オI) コマ−を含むものである。
本発明に用いる酸性触媒としては、塩酸、臭酸、硫酸、
リン酸等の無機酸、トルエンスルホン酸、フェニルスル
ホン酸等の有機スルホン酸、陽イオン交換樹脂に代表さ
れる固体酸等をあげることができる。中でも副反応が少
ないことや除去が容易なことから塩酸が望ましい。
ビスフェノールAの製造方法としては、反応の途中でビ
スフェノールAあるいはビスフェノールAとフェノール
の付加物の結晶を添加すること以夕1は従来の方法を取
ることができる。
即チ、ア±トン1モルに対しフェノール2〜12モル、
好ましくは6〜10モル、より好ましくは4〜7モルを
、硫酸、J盆酸、I−I型陽イオン交換樹脂等の酸性触
媒の存在下に、60〜85℃、好ましくけ65〜60℃
で掬拌下に反応を行なう。反応の進行に従い発熱するの
で外部から冷却し、反応温度を上記範囲内に調節する。
反応の進行に従いビスフェノールAが生成し、途中でビ
スフェノールAは吻相に達する。この飽和に達する時間
は原料のモル比および反応温度によって異なるが、例え
ば、フェノールとアセトンのモル比が7で、反応温度が
40℃では17時間であり、モル比が6で、反応温度が
55°Cのときは21時間程度である。
このビスフェノールAが飽和に達した反応混合液を更に
反応し続けると、これも原料のモル比。
反応温度により異なるがビスフェノールAが飽和に達し
た時点から20分〜2時間でビスフェノールAとフェノ
ールの伺加物が急激に晶析し、反応温度が急激に上昇す
る。このため、従来は不純物の生成が多かったのである
本発明においては、反応混合液中のビスフェノールAの
濃度が飽和濃度の50%に達した時点から生成するビス
フェノールAとフェノールの伺加物の結晶が晶析し始め
るまでの間に、好ましくはビスフェノールAの濃度が飽
和濃度の80%に達した時点からビスフェノールAの濃
度がやや過飽和になった時点までの間に、ビスフェノー
ルへの結晶および/またはビスフェノールAとフェノー
ルの付加物の結晶を、微粉末としであるいはフェノール
、水、有機溶媒等に分散したスラリーとして添加して反
応を続ける。
結晶の添加の時期が、ビスフェノールAの濃度が飽和濃
度の50%未満である間に添加すると、添加した結晶が
溶げてしまい結晶を添加する効果がない。更に、結晶を
添加する量を増すことにより本発明の目的は達せられる
のであるが、その場合には効果が現われる時点では添加
した結晶の大部分が溶解し、実質上反応混合物中でのビ
スフェノールAの濃度は飽和濃度の50%以上となって
い9− ろのである。また、ビスフェノールAとフェノールの付
加物が晶析し始めてからは結晶を添加しても晶析による
発熱を防止することはできず、結晶を添加しない場合と
同様の結果となる。
ビスフェノールAの結晶および/またはビスフェアノー
ルAとフェノールの付加物の結晶の添加量は原料フェノ
ールに対し0.0001〜10重量%、好ましくは0.
0005〜1重量%、更に好ましくは0.001〜0.
1重量%である。結晶の添加量がo、oooi重量%未
満では添加する効果は全く得られないか、得られてもわ
ずかであり、10重量%を越して添加しても10重量%
以下の場合とほとんど差はなく、生産性の低下をまねく
だけである。
また、結晶として、反応完了混合物の一部を用いてもよ
く、この場合は混合物中の結晶の量が上記範囲であるよ
うに用いるとよい。
また、結晶をスラリーにして用いる場合の溶媒としては
、フェノール、水、有機溶媒等いずれでも用いうるが、
原料であるフェノールを用いるのが望ましい。
結晶を添加する方法としては、上記期間内であれば一度
に加えても、幾度かに分けて加えても、あるいは連続的
に加えてもよい。
なお、本発明においては、アセトンの一部あるいは全部
をバライソプロペニルフェノール類と置き代えてもよい
。この場合はアセトンを用いた場合よりも反応が速くな
る。
反応の途中でビスフェノールAあるいはビスフェノール
Aとフェノールの付加物の結晶を添加すると、反応によ
り生成したビスフェノ−/l/ Aは添加した結晶を核
としてきわめて徐々に結晶してゆき、そのため晶析熱の
発生もきわめて徐々であり、この発生した熱はきわめて
容易に除去することが可能となる。また、結晶の純度も
高くなり、結晶の粒度も向上するので、反応混合液のみ
かけの粘度はそれほど高くならず攪拌が容易に行なえる
と共に、反応混合液中の液体部に不純物が濃縮され、平
衡反応により不純物がビスフェノールAに転換されるの
で、全反応系での不純物の蓄積がなく、きわめて良好と
なる。
従って、このようにして得られた反応混合物から、従来
のビスフェノールAの単離方法に従ってビスフェノール
Aを単離することにより、きわめて容易に高純度のビス
フェノールAを得ることができる。
以下、実施例により本発明を更に説明する。
参考例1 (ヒスフェノールAの飽和時間およびビスフェノールA
とフェノールの付加物の晶析開始時間)内fLfJt1
tのフラスコにフェノール423 f(4,5モル)、
アセトン43.52(0,75モル)および濃塩酸7、
25 gを入れ、45℃にした。次いで、攪拌下に塩化
水素ガスを吹き込み、反応を開始した。その後攪拌を続
けたところ、反応開始2時間20分後に結晶が発生した
。8時間後に反応を終了し、反応混合物のスラリーの液
部分を分取し、この中のビスフェノールへの濃度を測定
したところ約11重量%であった。
一方、反応開始後、反応混合液の一部をとり、その中の
ビスフェノールAの濃度を測定した結果、11重量%に
1時間25分後、即ち、ビスフェノールAとフェノール
の付加物の結晶が晶出し始める55分前に達していた。
即ち、ビスフェノールAは反応開始約1時間25分後に
飽和していたことになる。
参考例2 (バライソプロペニルフェノール類を用いた場合の飽和
時間及び晶析開始時間) 参考例1において、アセトン8.7f(D。15モル)
およびフェノール14.1(0,15モル)をバライソ
プロペニルフェノールの線状2量体20.1fに代える
他は参考例1と同様にして反応を行なった。
反応開始後1時間45分に結晶が析出し始めた。
また、反応開始後8時間目に反応を止め、反応混合物の
スラリー中のアセトンの濃度を調べたところ不検出であ
り、溶液部分のビスフェノールAの濃度は約11重量%
であった。
一方、反応開始後、反応混合液の一部をとり、ビスフェ
ノールAの濃度を測定したところ、55分後、即ち結晶
の晶析開始50分前にビスフェノ−13− ルAの濃度は11重量%に達していた。即ち、反応開始
55分後にビスフェノールAは飽和していたことになる
実施例1 ジャケット、攪拌機付きで、内壁にグラスライニングし
た内容積1.2 m3の反応器に、フェノール846K
g(9,000モル)、アセトン87Kg(1,500
モル)および濃塩酸14.5Kyを仕込み、塩化水素ガ
スを吹き込み、攪拌して反応を開始した。反応の温度は
ジャケットに45℃の水を通すことにより45℃に保っ
た。ビスフェノールAとフェノールの付加物の結晶30
2を反応開始1時間25分後に反応混合液に添加したと
ころ、ビスフェノールAとフェノールの付加物の結晶が
速やかにかつ穏やかに発生した。それと同時に反応混合
液の温度も僅かに上昇し46℃までなったが、その後2
8分で45℃に戻った。更に反応を続け、反応開始から
8時間目で反応を停止した。
この反応混合物のスラリーを分析したところ、三核体は
ほとんど不検出であり、0.P′一体、コダ14− イマーはビスフェノールAに対してそれぞれ15.04
4重量%であった。
また、スラリー中の結晶はかなり大きく、スラリーの攪
拌はきわめてスムーズに行なうことができた。
以下、常法により単離して、高純度のビスフェノールA
を得た。
実施例2 実施例1において、ビスフェノールAとフェノールの付
加物の結晶の代りにビスフェノールAの結晶を用いた以
外は実施例1と同様に反応した。
結晶を添加した後に、ビスフェノールAとフェノールの
付加物の結晶が新たに、速やかにかつ穏やかに発生した
。それと同時に反応混合液の温度も上昇し、最高48°
Cまで上昇した。その後45’CKK戻るまで47分を
要した。
反応開始後8時間で反応を止め、反応混合物のスラリー
を分析したところ、三核体は不検出であり、0、P’一
体、コダイマーはビスフェノールAに対してそれぞれ1
6.0.48重量%であった。
比較例1 実姉例1において、ビスフェノールAとフェノールの付
加物の結晶を添加1〜ない以外は実施例1と同様にして
反応を行なった。
反応開始後2時間35分で結晶が発生し、それと同時に
反応混合液の温度も52℃まで急激に」:昇した。反応
混合スラリーの温度が45℃に戻るのに1時間25分を
要1−だ。
反応開始後8時間で反応を止め、反応混合スラリーを分
析したところ、ビスフェノールAに対して0,1)一体
は18重量%、コダイマーは0.80重量%であった。
また、スラリー中の結晶はかなり細かく、実施例1.2
に比べ単離が困難であった。スラリーの攪拌もかなり困
難であった。
実施例3 実施例1において、ビスフェノールAとフェノールの付
加物の結晶の代りに実施例1で得られた反応混合スラリ
ー100f(ビスフェノールAとフェノールの付加物の
結晶として約30ii’ )を用いる以外は実施例1と
同様にして反応した。
その結果は、全〈実施例1と同様であった。
実施例4 実施例iにおいて、フェノールの一部28.2Kyトア
セトンの一部174Kg(各300モル)の代りにバラ
イソプロペニルフェノール類混合物(主成分線状2 量
体) 40.2Kg(バライソプロペニルフェノールと
して600モル)を用いた以外は実施例1と同様に反応
した。
反応開始後、55分目にビスフェノールAをフェノール
の付加物の結晶を添加したところ、新たな結晶が速やか
にかつ穏かに発生した。それと同時に反応混合液の温度
も46.5℃まで上昇した。その後39分して45℃ま
で戻った。
反応開始後8時間で反応を止め、反応混合物を分析した
ところ、6量体、バライソプロペニルフェノール類は不
検出であり、0.P′一体、コダイマーはビスフェノー
ルAに対してそれぞれ1.5.0.45重量%であった
比較例2 17− 実IIQ 例4において、ビスフェノールAとフェノー
ルの付加物の結晶を加えな℃・他は実施例4と同様に反
応した。
反応開始後1時間50分で結晶が発生し始め、それと共
tで反応混合液の温度も51℃まで上昇した。
この温度が45℃に戻るのに1時間20分かかった。
反応開始後8時間で反応を止め、反応混合スラリーの分
析をしたところ、0.P′一体、コダイマーはビスフェ
ノールAに対してそれぞれ1.6.0,65重量%であ
った。
特許出願人 三井東圧化学株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、フェノールとアセトンおよび/またはバライソプロ
    ペニルフェノール類を酸性触媒の存在下に反応させてビ
    スフェノールAを製造する方法において、反応により生
    成するビスフェノールAの反応混合液中での濃度が飽和
    濃度の50%に達した時点から生成するビスフェノール
    Aとフェノールの付加物が晶析し始めるまでの間に、ビ
    スフェノールへの結晶および/またはビスフェノールA
    とフェノールの付加物の結晶を、反応混合液に添加する
    ことを特徴とするビスフェノールへの製造方法。 2、反応混合物に添加するビスフェノールAの結晶およ
    び/またはビスフェノールAとフェノールの付加物の結
    晶が溶媒に分散され、スラリー状になっている特許請求
    の範囲第1項記載のビスフェノールAの製造方法。 1− 6、溶媒がフェノールである特許請求の範囲第2項記載
    のビスフェノールAの製造方法。 4、ビスフェノールAとフェノールの付加物の結晶のス
    ラリーが反応完了混合物の一部である特許請求の範囲第
    2項記載のビスフェノールへの製造方法。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH05125007A (ja) * 1991-10-30 1993-05-21 Chiyoda Corp 色相の良好なビスフエノールa・フエノール結晶アダクトの製造方法
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