JPS6037760Y2 - semiconductor storage device - Google Patents

semiconductor storage device

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JPS6037760Y2
JPS6037760Y2 JP11118076U JP11118076U JPS6037760Y2 JP S6037760 Y2 JPS6037760 Y2 JP S6037760Y2 JP 11118076 U JP11118076 U JP 11118076U JP 11118076 U JP11118076 U JP 11118076U JP S6037760 Y2 JPS6037760 Y2 JP S6037760Y2
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JP
Japan
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memory
memory cell
column
lines
pass line
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JP11118076U
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JPS5329238U (en
Inventor
淳一 茂木
清 宮坂
文雄 馬場
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富士通株式会社
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、複数個のメモリセルを同一半導体基板上に集
積化してなる半導体記憶装置の構造に関するものである
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to the structure of a semiconductor memory device in which a plurality of memory cells are integrated on the same semiconductor substrate.

半導体記憶装置の発展は目覚しく、とくにMOS形の半
導体記憶装置は磁気メモリを駆逐して、はとんどのコン
ピュータの主記憶装置に使用されるようになった。
The development of semiconductor memory devices has been remarkable, and MOS type semiconductor memory devices in particular have replaced magnetic memories and are now used as the main memory devices of most computers.

また、半導体記憶装置〔主としてRAM (Random Access Memory))の集
積度も小ビットが商用として標準的なものとなっており
、この集積度は今後も引続き増加して挾ビットの商用化
もほとんど遠戚されている。
In addition, small bits have become the commercial standard for semiconductor memory devices (mainly RAM (Random Access Memory)), and this density will continue to increase, making the commercialization of random bits almost far away. are related.

ところで、MO3型RAMを中心とした半導体記憶装置
は、メモリセルアレイを中心としてその周囲にデコーダ
などの付属回路を配置して構成されており、従来のビッ
ト数を増加させる思考は、メモリセルアレイを大型にし
、その周囲に配置する付属回路もこれにともなった大き
さにするというものであった。
By the way, semiconductor memory devices centered on MO3 type RAM are constructed by arranging attached circuits such as decoders around a memory cell array, and the conventional idea of increasing the number of bits is to make the memory cell array larger. The idea was to increase the size of the attached circuits placed around it.

しかしボビット以上にもなると、メモリセルアレイ中を
走るビット線、ワード線、それにメモリセルを駆動する
電源ソース線などの配線が複雑になり、これにともなっ
て周辺に配置した付属回路との接続も複雑となるため従
来の思考により集積度を向上させることは困難である。
However, if the size is larger than Bobbit, the wiring such as bit lines, word lines, and power source lines that drive the memory cells that run through the memory cell array becomes complicated, and along with this, the connections with peripheral circuits are also complicated. Therefore, it is difficult to improve the degree of integration using conventional thinking.

本考案は、上述の如き技術的な行詰りを打開しようとす
る新規な考案であり、その目的は配線構造を複雑にする
ことなく集積度を向上させることができる半導体集積回
路を提供することにある。
The present invention is a novel invention that attempts to break out of the technical impasse described above, and its purpose is to provide a semiconductor integrated circuit that can improve the degree of integration without complicating the wiring structure. .

上記の目的は複数個のメモリセルを同一半導体基板上に
集積化してなる半導体記憶装置において、複数個のメモ
リセルからなり左右の側部に各メモリセルの信号線また
は電源線等が導出された端子部を設けたメモリセルブロ
ックを縦方向配列した第1のメモリ列と該端子部が該第
1のメモリ列と左右逆に配置された第2のメモリ列を構
戊し、該第11第2のメモリ列を交互に横方向に複数列
同一半導体基板上に集積化して配列し、該第1、第2の
メモリ列間に並設された共通のパスラインに該パスライ
ンの両側に位置する端子部を接続してなることを特徴と
する半導体記憶装置を提供することによって達成される
The purpose of the above is to integrate a plurality of memory cells on the same semiconductor substrate in a semiconductor memory device, in which signal lines or power lines, etc. of each memory cell are led out from the left and right sides. A first memory column in which memory cell blocks provided with terminal portions are arranged vertically, and a second memory column in which the terminal portions are arranged horizontally opposite to the first memory column; A plurality of two memory columns are arranged in a horizontally integrated manner alternately on the same semiconductor substrate, and a common path line arranged in parallel between the first and second memory columns is arranged on both sides of the pass line. This is achieved by providing a semiconductor memory device characterized in that the terminal portions are connected to each other.

以下実施例について詳細に説明する。Examples will be described in detail below.

第1図は本考案の基本となった半導体記憶装置のブロッ
ク図である。
FIG. 1 is a block diagram of a semiconductor memory device that is the basis of the present invention.

同図において、1はメモリセルブロックである。In the figure, 1 is a memory cell block.

各メモリセルブロックは、第2図に示すように、たとえ
ば3つのMO3形トランジスタTR□。
As shown in FIG. 2, each memory cell block includes, for example, three MO3 type transistors TR□.

TR2,TR3からなる3トランジスタ・メモリセル2
を第3図に示すようにマトリクス状に配置し、その左右
に端子部3および4を設け、端子部3には各メモリセル
2の読出しデジット線5および書込みデジット線が導出
され、端子部4には読出しワード線7、書込みワード線
8および電源線9が導出されている。
3-transistor memory cell 2 consisting of TR2 and TR3
are arranged in a matrix as shown in FIG. A read word line 7, a write word line 8 and a power supply line 9 are led out.

このように構成されたメモリセルブロック1を複数個縦
方向に重ねて、第1図に示すように、メモリ列Aおよび
Bを構成する。
A plurality of memory cell blocks 1 configured in this manner are stacked vertically to form memory columns A and B, as shown in FIG.

メモリ列AおよびBに並行して、パスライン群、10,
11,12.13が設けられる。
Parallel to memory columns A and B, a group of pass lines, 10,
11, 12, and 13 are provided.

パスライン群10および11は、リフレッシュならびに
読み書き列選択回路(以下RRC回路と略記する)14
から導出され、パスライン群12および13は行方向の
バッファアンプ15から導出される。
The pass line groups 10 and 11 include a refresh and read/write column selection circuit (hereinafter abbreviated as RRC circuit) 14
The pass line groups 12 and 13 are derived from the buffer amplifier 15 in the row direction.

そして各パスライン群を構成している1本1本のパスラ
インは、各メモリセルブロックの端子部3および4の所
定位置の端子と導体16で接続される。
Each pass line constituting each pass line group is connected by a conductor 16 to terminals at predetermined positions of terminal portions 3 and 4 of each memory cell block.

また前記パスライン群と並設されている電源用パスライ
ン17も、端子部4の所定の端子と接続される。
Further, a power supply pass line 17 arranged in parallel with the pass line group is also connected to a predetermined terminal of the terminal section 4.

なお、第1図において、18は行デコーダ、19は列デ
コーダ、20は入出力回路である。
In FIG. 1, 18 is a row decoder, 19 is a column decoder, and 20 is an input/output circuit.

このように、メモリセルアレイを数ブロックに分け、各
メモリセルブロックの左右に端子部を設け、これらのメ
モリセルブロックの端子部を設けていない部分どうしを
並べてメモリブロック列を構成すれば、メモリセルブロ
ック列間に設けた各パスライン群どうしがほとんど交差
することがなく簡素化される。
In this way, if the memory cell array is divided into several blocks, terminals are provided on the left and right sides of each memory cell block, and the parts of these memory cell blocks that do not have terminals are lined up to form a memory block row, the memory cell Each group of pass lines provided between block rows hardly intersects with each other, which simplifies the process.

本考案は第1図に示す半導体記憶装置の配線構造を更に
簡素化するものである。
The present invention further simplifies the wiring structure of the semiconductor memory device shown in FIG.

以下第4図乃至第6図を参照し本考案の一実施例を説明
する。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 4 to 6.

すなわち、第4図の如く、メモリセル2を第3図と同様
にマトリックス状に配置し、その左端に端子部21を設
けるとともに、その右端に端子部22を設ける。
That is, as shown in FIG. 4, the memory cells 2 are arranged in a matrix like in FIG. 3, and a terminal portion 21 is provided at the left end of the memory cell 2, and a terminal portion 22 is provided at the right end of the memory cell 2.

そして端子部21には読出しおよび書込みワード線を導
出し、端子部22には書込み読出しデジット線および電
源線を導出してメモリセルブロック23を構成する。
Then, read and write word lines are led out to the terminal section 21, and write/read digit lines and power supply lines are led out to the terminal section 22, thereby forming a memory cell block 23.

サラにもう一つのメモリセルブロック23′は、第5図
のように、メモリセル2をマトリックス状に配置し、そ
の右端に端子部21′を設けるとともに、その左端にも
端子部22′を設ける。
Another memory cell block 23' has memory cells 2 arranged in a matrix, as shown in FIG. .

そして端子部21′には読出しおよび書込みワード線を
導出し、端子部22′には書込み読出しデジット線およ
び電源線を導出し、端子部の配置をメモリセルブロック
23とちょうど左右反対にする。
Then, read and write word lines are led out to the terminal section 21', and write/read digit lines and power supply lines are led out to the terminal section 22', and the arrangement of the terminal sections is exactly opposite to the left and right sides of the memory cell block 23.

そして、メモリセルブロック23を第6図に示すように
縦方向に複数個配置して第1のメモリ列CおよびEを構
成し、さらにメモリブロック23′を縦方向に複数個配
置して第2のメモリ列りを構成し、このメモリ列りを第
1のメモリ列CおよびEの間に配置し、第1のメモリ列
と端子部が左右逆に配置された第2のメモリ列が交互に
横方向に配列される様にする。
As shown in FIG. 6, a plurality of memory cell blocks 23 are arranged vertically to form first memory columns C and E, and a plurality of memory blocks 23' are arranged vertically to form a second memory column. This memory column is arranged between the first memory columns C and E, and the first memory column and the second memory column whose terminal portions are arranged with the left and right sides reversed are arranged alternately. Arrange them horizontally.

このようにメモリセルブロックを配置すれば、各メモリ
列間のパスライン群は、第1図の様に行方向のものと列
方向のものとが混在することがなく、配線構造がさらに
簡素化される。
By arranging the memory cell blocks in this way, the path line groups between each memory column will not have a mix of row-direction and column-direction path lines, as shown in Figure 1, and the wiring structure will be further simplified. be done.

以上詳細に説明したように、本考案は、側方に端子部を
設けたメモリセルブロックを縦方向に配列してメモリ列
を構成し、かっとなりあうメモリ列の端子部の配置が左
右逆になる様に構成したので、1本のパスラインをそれ
をはさむ左右のメモリ列が共用できるので配線構造が非
常に簡単になり、このため、メモリセルの集積度を上げ
ても配線の複雑さからくる設計上の行き詰まりは解消さ
れた。
As explained in detail above, the present invention consists of memory cells arranged vertically in memory cell blocks with terminals provided on the sides, and the arrangement of the terminals of adjacent memory columns is reversed left and right. Because of this configuration, one pass line can be shared by the left and right memory columns that sandwich it, making the wiring structure extremely simple.For this reason, even if the density of memory cells is increased, the complexity of the wiring can be reduced. The design impasse was resolved.

なお、本考案は、3M0Sトランジスタセルを用いたラ
ンダムアクセスメモリについて説明を行ったが、メモリ
セルとしては、4トランジスタ、1トランジスタ形のM
OSメモリセルでもよく、またバイポーラ形トランジス
タのメモリセルでもよく、さらにフリップ・フロップ形
の基本形によるスタティック形のメモリセルでもよい。
In addition, although the present invention has been explained about a random access memory using 3M0S transistor cells, it is also possible to use 4-transistor or 1-transistor type M0S memory cells.
The memory cell may be an OS memory cell, a bipolar transistor memory cell, or a static type memory cell based on the basic flip-flop type.

このはか、リードオンリー形のメモリセルでもよいこと
はもちろんである。
Of course, a read-only type memory cell may also be used.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本考案の基本となった半導体記憶装置のブロッ
ク図、第2図はメモリセルの回路図、第3図乃至第5図
は、それぞれ種類の異なったメモリセルブロックの配置
図、第6図は半導体記憶装置の一実施例のブロック図で
ある。 図において、1はメモリセルブロック、2はメモリセル
ブロック、3および4は端子部、10乃至13はパスラ
イン群、16は導体である。
FIG. 1 is a block diagram of a semiconductor memory device that is the basis of the present invention, FIG. 2 is a circuit diagram of a memory cell, and FIGS. 3 to 5 are layout diagrams of different types of memory cell blocks. FIG. 6 is a block diagram of an embodiment of a semiconductor memory device. In the figure, 1 is a memory cell block, 2 is a memory cell block, 3 and 4 are terminal portions, 10 to 13 are a group of pass lines, and 16 is a conductor.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 複数個のメモリセルを同一半導体基板上に集積化してな
る半導体記憶装置において、複数個のメモリセルからな
り左右の側部に各メモリセルの信号線または電源線等が
導出された端子部を設けたメモリセルブロックを縦方向
に配列した第1のメモリ列と該端子部が該第1のメモリ
列と左右逆に配置された第2のメモリ列を構成し、該第
1、第2のメモリ列を交互に横方向に複数列同一半導体
基板上に集積化して配列し、該第11第2のメモリ列間
に並設された共通のパスラインに該パスラインの両側に
位置する端子部を接続してなることを特徴とする半導体
記憶装置。
In a semiconductor memory device in which a plurality of memory cells are integrated on the same semiconductor substrate, terminal portions are provided on the left and right sides of the plurality of memory cells from which signal lines, power supply lines, etc. of each memory cell are led out. A first memory column in which memory cell blocks arranged vertically and the terminal portion constitute a second memory column arranged horizontally opposite to the first memory column, and the first and second memory A plurality of rows are integrated and arranged on the same semiconductor substrate alternately in the horizontal direction, and terminal portions located on both sides of the pass line are connected to a common pass line arranged in parallel between the eleventh and second memory columns. A semiconductor memory device characterized by being connected.
JP11118076U 1976-08-19 1976-08-19 semiconductor storage device Expired JPS6037760Y2 (en)

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JPS5329238U JPS5329238U (en) 1978-03-13
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