JPH036598B2 - - Google Patents

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JPH036598B2
JPH036598B2 JP63072361A JP7236188A JPH036598B2 JP H036598 B2 JPH036598 B2 JP H036598B2 JP 63072361 A JP63072361 A JP 63072361A JP 7236188 A JP7236188 A JP 7236188A JP H036598 B2 JPH036598 B2 JP H036598B2
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JP
Japan
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memory cell
word line
cell group
line
memory device
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP63072361A
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Japanese (ja)
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JPS6464192A (en
Inventor
Kenji Anami
Masahiko Yoshimoto
Hiroshi Shinohara
Osamu Tomizawa
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Publication of JPH036598B2 publication Critical patent/JPH036598B2/ja
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  • Static Random-Access Memory (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明はアクセスタイムの向上および消費電
力の低減が可能な半導体メモリ装置に関するもの
である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor memory device that can improve access time and reduce power consumption.

第1図は従来の半導体メモリ装置を示すブロツ
ク図である。同図において、1はマトリツクス状
に配列し、その詳細な回路を第2図に示すメモリ
セル、2aおよび2bは相補的な関係にある一対
のビツト線、3は選択的に同一行上にあるメモリ
セル1を活性化するワード線、4は行アドレス情
報を解読する行デコーダ、5は行アドレス信号
線、6aおよび6bは前記ビツト線2aおよび2
bにそれぞれ接続するビツト線負荷、7は電源端
子である。
FIG. 1 is a block diagram showing a conventional semiconductor memory device. In the figure, reference numeral 1 indicates memory cells arranged in a matrix, the detailed circuit of which is shown in FIG. A word line for activating the memory cell 1; 4 a row decoder for decoding row address information; 5 a row address signal line; 6a and 6b the bit lines 2a and 2;
Bit line loads are respectively connected to b, and 7 is a power supply terminal.

なお、第2図に示すメモリセル1において、8
aおよび8bはMOSトランジスタ、抵抗などで
構成する負荷素子、9aおよび9bはインバータ
トランジスタ、10aおよび10bはアクセスト
ランジスタ、11aおよび11bはメモリセル1
のストアノードである。
Note that in the memory cell 1 shown in FIG.
a and 8b are load elements composed of MOS transistors, resistors, etc.; 9a and 9b are inverter transistors; 10a and 10b are access transistors; 11a and 11b are memory cells 1
is a store node.

次に、上記構成による半導体メモリ装置の動作
について、一例として、ストアノード11aおよ
び11bがそれぞれHレベルおよびLレベルに書
き込まれている場合について説明する。まず、読
み出しの場合には読み出そとするセルのアドレス
情報をアドレス信号線5に入力すると、行デコー
ダ4を通し、所望のワード線3を活性化する。そ
して、このワード線3が活性化されると、Lレベ
ルをストアしているアクセストランジスタ10b
が導通する。このため、電源端子7からビツト線
負荷6b、ビツト線2b、アクセストランジスタ
10b、インバータトランジスタ9b経路を電流
が流れ、読み出すことができる。
Next, the operation of the semiconductor memory device having the above configuration will be described, as an example, in the case where store nodes 11a and 11b are written to H level and L level, respectively. First, in the case of reading, when the address information of the cell to be read is input to the address signal line 5, the desired word line 3 is activated through the row decoder 4. When this word line 3 is activated, the access transistor 10b storing the L level
conducts. Therefore, a current flows from the power supply terminal 7 through the path of the bit line load 6b, the bit line 2b, the access transistor 10b, and the inverter transistor 9b, allowing reading.

この構成による半導体メモリ装置は同一行上の
すべてのメモリセルが活性化されるので、全列に
電源からメモリセルに電流が流れ込み、コラム数
の多い大容量スタテイツクRAMを構成する場
合、消費電流が大きくなる。そこで、消費電流を
少なくするため、従来、第3図に示す半導体メモ
リ装置が提案されている。この場合、行デコーダ
4をメモリセルプレーンの中央に配し、ワード線
を左側ワード線3aおよび右側ワード線3bに分
割し、左右のメモリセル群の選択された方のメモ
リセル群のワード線のみ活性化することにより、
全列の内、半数の列にだけ電流パスを生じさせる
ものである。なお、12aおよび12bはそれぞ
れ左側ワード線3aあるいは右側ワード線3bを
選択するアンドゲート、13aおよび13bはそ
れぞれこのアンドゲート12aおよび12bを開
状態にするゲート信号線である。
In a semiconductor memory device with this configuration, all memory cells on the same row are activated, so current flows from the power supply to the memory cells in all columns, and when configuring a large capacity static RAM with many columns, current consumption is reduced. growing. Therefore, in order to reduce current consumption, a semiconductor memory device shown in FIG. 3 has been proposed. In this case, the row decoder 4 is arranged in the center of the memory cell plane, the word line is divided into the left word line 3a and the right word line 3b, and only the word line of the selected memory cell group of the left and right memory cell groups is used. By activating
Current paths are generated only in half of all the columns. Note that 12a and 12b are AND gates that select the left word line 3a or the right word line 3b, respectively, and 13a and 13b are gate signal lines that open the AND gates 12a and 12b, respectively.

次に、第4図は第3図の思想に基づいて構成し
た従来の半導体メモリ装置を示す配置図である。
この場合、行デコーダ4aおよび4bを複数列配
置し、ワード線3a〜3dをその倍数だけ分割
し、直流電流路のできる数を減少させるものであ
る。
Next, FIG. 4 is a layout diagram showing a conventional semiconductor memory device constructed based on the idea of FIG. 3.
In this case, the row decoders 4a and 4b are arranged in a plurality of columns, and the word lines 3a to 3d are divided by a multiple thereof, thereby reducing the number of DC current paths.

しかしながら、従来の半導体メモリ装置は数多
くの行デコーダを設ける必要がある。このため、
チツプ面積の増大を招き、速度性能や歩留を損な
うなどの欠点があつた。
However, conventional semiconductor memory devices require a large number of row decoders. For this reason,
There were drawbacks such as an increase in chip area and a loss in speed performance and yield.

したがつて、この発明の目的は高速で、しかも
低消費電力の大容量の半導体メモリ装置を提供す
るものである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a high-speed, low power consumption, large-capacity semiconductor memory device.

このような目的を達成するため、この発明はメ
モリセルをマトリツクス状に配置したメモリセル
アレイを列方向にブロツクに分割して配列した複
数のメモリセル群と、この複数のメモリセル群の
各々に対応して設けられ、各メモリセル群のうち
の特定のものを選択するメモリセル群選択線と、
アクセスすべきメモリセル群の行アドレス情報を
解読する行デコーダと、この行デコーダの出力端
子に接続され前記複数のメモリセル群に亘つて配
置された前置ワード線と、前記複数のメモリセル
群の各々に対応して設けられ、前記メモリセル群
選択線の選択信号と前記前置ワード線の出力信号
とに基づいて活性化される分割ワード線とを備
え、前記分割ワード線を前記前置ワード線よりも
短く配置したものであり、以下実施例を用いて詳
細に説明する。
In order to achieve such an object, the present invention includes a plurality of memory cell groups in which a memory cell array in which memory cells are arranged in a matrix is divided into blocks in the column direction, and a memory cell array corresponding to each of the plurality of memory cell groups. a memory cell group selection line for selecting a specific one of each memory cell group;
a row decoder for decoding row address information of a group of memory cells to be accessed, a preword line connected to an output terminal of the row decoder and arranged across the plurality of memory cell groups, and the plurality of memory cell groups. a divided word line provided corresponding to each of the memory cell group selection lines and activated based on a selection signal of the memory cell group selection line and an output signal of the prefix word line; They are arranged shorter than the word lines, and will be explained in detail below using examples.

第5図はこの発明に係る半導体メモリ装置の一
実施例を示すブロツク図であり、一例として、列
方向に3個に分割したメモリセル群1a,1bお
よび1c′を配置した場を示す。同図において、1
4a,14bおよび14cはこのメモリセル群1
a〜1cを選択するメモリセル群選択線、15は
ワード線3a〜3cと同一方向に並行して配置し
た前置ワード線、16a,16bおよび16cは
入力端子がそれぞれ前置ワード線15とメモリセ
ル群選択線14a〜14cに接続し、出力端子が
それぞれワード線3a〜3cに接続するアンドゲ
ートである。
FIG. 5 is a block diagram showing one embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention, and shows, as an example, a case in which three memory cell groups 1a, 1b and 1c' are arranged in the column direction. In the same figure, 1
4a, 14b and 14c are memory cell group 1
A memory cell group selection line for selecting a to 1c, 15 is a front word line arranged in parallel in the same direction as word lines 3a to 3c, and 16a, 16b and 16c have input terminals connected to front word line 15 and memory, respectively. These are AND gates connected to the cell group selection lines 14a to 14c, and whose output terminals are connected to the word lines 3a to 3c, respectively.

次に、上記構成による半導体メモリ装置動作に
ついて説明する。まず、例えばメモリセル群1a
内のメモリセルを選択する場合、アクセスすべき
メモリセル群1aの行アドレス情報を行デコーダ
4で解読し、前置ワード線15の1本を活性化す
る。そして、メモリセル群選択線14aに選択信
号を加えると、アンドゲート16aが開き、ワー
ド線3aを活性化する。したがつて、図示せぬ電
源から図示せぬビツト線を経て、メモリセル群1
aへ流れ込むコラム電流が流れるのは選択された
メモリセル群1a内にあるコラムのみである。
Next, the operation of the semiconductor memory device with the above configuration will be explained. First, for example, memory cell group 1a
When selecting a memory cell in the memory cell group 1a, the row address information of the memory cell group 1a to be accessed is decoded by the row decoder 4, and one of the front word lines 15 is activated. Then, when a selection signal is applied to the memory cell group selection line 14a, the AND gate 16a opens and the word line 3a is activated. Therefore, memory cell group 1 is connected from a power supply (not shown) to a bit line (not shown).
The column current flowing into the column a flows only in the column in the selected memory cell group 1a.

なお、以上はメモリセル群1a内のメモリセル
1の選択について説明したが、他のメモリセル群
1bおよび1cについても同様にできることはも
ちろんである。さらに、メモリセル群を3個に分
割した場合について説明したがN個(N≧2)に
分割しても同様にできることはもちろんである。
また、前置ワード線15のみを低抵抗材料で構成
しておけば、ワード線の抵抗は多少大きくても長
さが短かいため、容量が小さく、高速に、メモリ
セルをアクセスすることができる。また、アンド
ゲート16a〜16cは入力端子が2個、出力端
子が1個のため、回路構成が簡単になるので、チ
ツプ面積の増大を無視することができる。また、
行デコーダ4はチツプの中央に配置してもよく、
チツプの端に配置してもよいことはもちろんであ
る。
Note that although the selection of the memory cell 1 in the memory cell group 1a has been described above, it goes without saying that the same can be done for the other memory cell groups 1b and 1c. Furthermore, although the case where the memory cell group is divided into three has been described, it goes without saying that the same effect can be achieved even if the memory cell group is divided into N (N≧2).
Furthermore, if only the front word line 15 is made of a low-resistance material, the resistance of the word line is somewhat high but the length is short, so the capacitance is small and memory cells can be accessed at high speed. . Further, since the AND gates 16a to 16c have two input terminals and one output terminal, the circuit configuration is simple, so that an increase in chip area can be ignored. Also,
The row decoder 4 may be placed in the center of the chip,
Of course, it may be placed at the edge of the chip.

以上詳細に説明したように、この発明に係る半
導体メモリ装置によればメモリセルの選択を前置
ワード線とワード線の2段階に分けて行なうよう
に、行選択を階層的に行なうため、列の直流電流
路のある列数を減少することができるだけでな
く、ワード線(分割ワード線)を前置ワード線よ
りも短くすることによつて、高速で、しかも低消
費電力の大容量の半導体メモリ装を構成すること
ができる効果がある。
As described in detail above, according to the semiconductor memory device according to the present invention, row selection is performed hierarchically such that memory cell selection is performed in two stages: front word line and word line. By not only reducing the number of columns with DC current paths in the circuit, but also by making the word lines (divided word lines) shorter than the preceding word lines, high-speed, low-power, large-capacity semiconductors can be realized. This has the effect of configuring a memory device.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来の半導体メモリ装置を示すブロツ
ク図、第2図は第1図のメモリセルの詳細な回路
図、第3図は従来の他の半導体メモリ装置を示す
ブロツク図、第4図は従来の他の半導体メモリ装
置を示す配置図、第5図はこの発明に係る半導体
メモリ装置の一実施例を示すブロツク図である。 1…メモリセル、1aおよび1b…メモリセル
群、2aおよび2b…ビツト線、3,3a〜3d
…ワード線、4,4aおよび4b…行デコーダ、
5…行アドレス信号線、6aおよび6b…ビツト
線負荷、7…電源端子、8aおよび8b…負荷素
子、9aおよび9b…インバータトランジスタ、
10aおよび10b…アクセストランジスタ、1
1…ストアノード、12aおよび12b…アンド
ゲート、13aおよび13b…ゲート信号線、1
4a〜14c…メモリセル選択線、15…前置ワ
ード線、16a〜16c…アンドゲート。なお、
同一符号は同一または相当部分を示す。
FIG. 1 is a block diagram showing a conventional semiconductor memory device, FIG. 2 is a detailed circuit diagram of the memory cell in FIG. 1, FIG. 3 is a block diagram showing another conventional semiconductor memory device, and FIG. 4 is a block diagram showing a conventional semiconductor memory device. FIG. 5 is a layout diagram showing another conventional semiconductor memory device, and FIG. 5 is a block diagram showing an embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention. 1...Memory cell, 1a and 1b...Memory cell group, 2a and 2b...Bit line, 3, 3a to 3d
...word line, 4, 4a and 4b...row decoder,
5... Row address signal line, 6a and 6b... Bit line load, 7... Power supply terminal, 8a and 8b... Load element, 9a and 9b... Inverter transistor,
10a and 10b...access transistor, 1
1... Store node, 12a and 12b... AND gate, 13a and 13b... Gate signal line, 1
4a-14c...Memory cell selection line, 15...Pre-word line, 16a-16c...AND gate. In addition,
The same reference numerals indicate the same or equivalent parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 メモリセルをマトリツクス状に配置したメモ
リセルアレイを列方向にブロツクに分割した配列
した複数のメモリセル群と、この複数のメモリセ
ル群の各々に対応して設けられ、各メモリセル群
のうちの特定のものを選択するメモリセル群選択
線と、アクセスすべきメモリセル群と行アドレス
情報を解読する行デコーダと、この行デコーダの
出力端子に接続され前記複数のメモリセル群に亘
つて配置された前置ワード線と、前記複数のメモ
リセル群の各々に対応して設けられ、前記メモリ
セル群選択線の選択信号と前記前置ワード線の出
力信号とに基づいて活性化される分割ワード線と
を備え、前記分割ワード線を前記前置ワード線よ
りも短く配置したことを特徴とする半導導体メモ
リ装置。
1. A memory cell array in which memory cells are arranged in a matrix is divided into blocks in the column direction, and a plurality of memory cell groups are provided corresponding to each of the plurality of memory cell groups. a memory cell group selection line for selecting a specific memory cell group; a row decoder for decoding the memory cell group to be accessed and row address information; a prefix word line, and a divided word provided corresponding to each of the plurality of memory cell groups and activated based on a selection signal of the memory cell group selection line and an output signal of the prefix word line. 1. A semiconductor memory device comprising: a semiconductor memory device, wherein the divided word line is arranged shorter than the preceding word line.
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KR930008310B1 (en) * 1991-02-05 1993-08-27 삼성전자 주식회사 Method of wordline driver block of semiconductor memory
DE10128254B4 (en) * 2001-06-11 2016-09-01 Polaris Innovations Ltd. Integrated memory with a multi-segment memory cell array and method of operation

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