JPH0421956B2 - - Google Patents

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JPH0421956B2
JPH0421956B2 JP57184362A JP18436282A JPH0421956B2 JP H0421956 B2 JPH0421956 B2 JP H0421956B2 JP 57184362 A JP57184362 A JP 57184362A JP 18436282 A JP18436282 A JP 18436282A JP H0421956 B2 JPH0421956 B2 JP H0421956B2
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JP
Japan
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memory cell
cell group
word line
selector
column
Prior art date
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JP57184362A
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JPS5972699A (en
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Masahiko Yoshimoto
Tsutomu Yoshihara
Kenji Anami
Hiroshi Shinohara
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C8/00Arrangements for selecting an address in a digital store
    • G11C8/14Word line organisation; Word line lay-out

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明はアクセスタイムの向上および消費電
力の低減が可能な半導体メモリ装置に関するもの
である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a semiconductor memory device that can improve access time and reduce power consumption.

〔従来技術〕[Prior art]

第1図は従来の半導体メモリ装置を示すブロツ
ク図である。同図において、1はマトリツクス状
に配列し、その詳細な回路を第2図に示すメモリ
セル、2aおよび2bは相補的な関係にある一対
のビツト線、3は選択時に同一行上にあるメモリ
セル1を活性化するワード線、4は行アドレス情
報を解読する行デコーダ、5は行アドレス信号
線、6aおよび6bは前記ビツト線2aおよび2
bにそれぞれ接続するビツト線負荷、7は電源端
子である。
FIG. 1 is a block diagram showing a conventional semiconductor memory device. In the figure, 1 is a memory cell arranged in a matrix, the detailed circuit of which is shown in FIG. 2, 2a and 2b are a pair of complementary bit lines, and 3 is a memory cell on the same row when selected A word line for activating cell 1, 4 a row decoder for decoding row address information, 5 a row address signal line, and 6a and 6b the bit lines 2a and 2.
Bit line loads are respectively connected to b, and 7 is a power supply terminal.

なお、第2図に示すメモリセル1において、8
aおよび8bはMOSトランジスタ、抵抗などで
構成する負荷素子、9aおよび9bはインバータ
トラジスタ、10aおよび10bはアクセストラ
ンジスタ、11aおよび11bはメモリセル1の
ストアノードである。
Note that in the memory cell 1 shown in FIG.
Reference numerals a and 8b are load elements constituted by MOS transistors, resistors, etc., 9a and 9b are inverter transistors, 10a and 10b are access transistors, and 11a and 11b are store nodes of the memory cell 1.

次に、上記構成による半導体メモリ装置の動作
について、一例として、ストアノード11bおよ
び11bがそれぞれ“H”レベルおよび“L”レ
ベルに書き込まれている場合について説明する。
まず、読み出しの場合には読み出そうとするセル
のアドレス情報をアドレス信号線5に入力する。
そして、このワード線3が活性化されると、“L”
レベルをストアしているアクセストランジスタ1
0bが導通する。このため、電源端子7からビツ
ト線負荷6b、ビツト線2b、アクセストランジ
スタ10b、インバータトランジスタ9bの経路
を電流が流れ、読み出すことができる。
Next, the operation of the semiconductor memory device having the above configuration will be described, as an example, in the case where store nodes 11b and 11b are written to "H" level and "L" level, respectively.
First, in the case of reading, the address information of the cell to be read is input to the address signal line 5.
Then, when this word line 3 is activated, it becomes “L”
Access transistor 1 storing the level
0b becomes conductive. Therefore, a current flows from the power supply terminal 7 through the path of the bit line load 6b, the bit line 2b, the access transistor 10b, and the inverter transistor 9b, allowing reading.

この構成による半導体メモリ装置は同一行上の
すべてのメモリセルが活性化されるので、全列に
電源からメモリセルに電流が流れ込み、コラム数
の多い大容量スタテイツクRAMを構成する場
合、消費電流が大きくなる。そこで、消費電流を
少なくするため、従来は第3図に示す半導体メモ
リ装置が提案されている。この場合、行デコーダ
4をメモリセルプレーンの中央に配し、ワード線
を左側ワード線3aおよび右側ワード線3bに分
割し、左右のメモリセル群の選択された方のメモ
リセル群のワード線のみ活性化することにより、
全列の内、半数の列だけ電流パスを生じさせるも
のである。なお、12aおよび12bはそれぞれ
左側ワード線3aあるいは右側ワード線3bを選
択するアンドゲート、13aおよび13bはそれ
ぞれこのアンドゲート12aおよび12bを開状
態にするゲート信号線である。
In a semiconductor memory device with this configuration, all memory cells on the same row are activated, so current flows from the power supply to the memory cells in all columns, and when configuring a large capacity static RAM with many columns, current consumption is reduced. growing. Therefore, in order to reduce current consumption, a semiconductor memory device as shown in FIG. 3 has been proposed. In this case, the row decoder 4 is arranged in the center of the memory cell plane, the word line is divided into the left word line 3a and the right word line 3b, and only the word line of the selected memory cell group of the left and right memory cell groups is used. By activating
Of all the columns, only half of the columns generate current paths. Note that 12a and 12b are AND gates that select the left word line 3a or the right word line 3b, respectively, and 13a and 13b are gate signal lines that open the AND gates 12a and 12b, respectively.

次に、第4図は第3図の思想に基づいて構成し
た従来の半導体メモリ装置を示す配置図である。
この場合、行デコーダ4aおよび4bを複数列配
置し、ワード線3a〜3dをその倍数だけ分割
し、直流電流路のできる数を減少させるものであ
る。
Next, FIG. 4 is a layout diagram showing a conventional semiconductor memory device constructed based on the idea of FIG. 3.
In this case, the row decoders 4a and 4b are arranged in a plurality of columns, and the word lines 3a to 3d are divided by a multiple thereof, thereby reducing the number of DC current paths.

しかしながら、従来の半導体メモリ装置は数多
くの行デコーダを設ける必要がある。このため、
チツプ面積の増大を招き、速度性能や歩留りを損
うなど欠点があつた。
However, conventional semiconductor memory devices require a large number of row decoders. For this reason,
This method had drawbacks such as an increase in chip area, which impairs speed performance and yield.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

したがつて、この発明の目的は高速で、しかも
低消費電力で大容量の半導体メモリ装置を提供す
るものである。
Therefore, an object of the present invention is to provide a high-speed, low power consumption, and large-capacity semiconductor memory device.

この発明はメモリセルをマトリクス状に配置し
たメモリセルアレイを列方向に分割して配置した
N個のメモリセル群と、このN個のメモリセル群
の各々に対応して設けられ、N個のメモリセル群
のうちの特定のものを選択するメモリセル群選択
線と、アクセスすべきメモリセル群の行アドレス
情報を解読する行デコーダと、この行デコーダの
出力端子に接続され、N個のメモリセル群に亘つ
て配置された前置ワード線と、N個のメモリセル
群の各々に対応して設けられ、メモリセル群選択
線の活性化されるワード線からなり、さらにメモ
リセル群選択線はメモリセル群セレクタ出力に連
結され、かつメモリセル群セレクタ出力は列デコ
ーダにも連結された構成としたものであり、以下
実施例を用いて詳細に説明する。
This invention includes N memory cell groups in which a memory cell array in which memory cells are arranged in a matrix is divided in the column direction, and N memory cells provided corresponding to each of the N memory cell groups. A memory cell group selection line that selects a specific one of the cell groups, a row decoder that decodes the row address information of the memory cell group to be accessed, and a memory cell group that is connected to the output terminal of the row decoder and that connects N memory cells. It consists of a preword line arranged across the groups, a word line provided corresponding to each of the N memory cell groups, and activated as a memory cell group selection line, and a memory cell group selection line. The configuration is such that it is connected to a memory cell group selector output, and the memory cell group selector output is also connected to a column decoder, and will be described in detail below using an embodiment.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

第5図はこの発明に係る半導体メモリ装置の一
実施例を示すブロツク図であり、一例として、列
方向に3個に分割したメモリセル群1a,1bお
よび1cを配置した場合を示す。同図において、
14a,14bおよび14cはこのメモリセル群
1a〜1cを選択するメモリセル群選択線、15
はワード線3a〜3cと同一方向に並行して配置
した前置ワード線、16a,16bおよび16c
は入力端子がそれぞれ前置ワード15とメモリセ
ル群選択線14a〜14cに接続し、出力端子が
それぞれワード線3a〜3cに接続するアンドゲ
ートである。また、17a〜17cはメモリセル
群セレクタで、列アドレス情報のうちの上位の列
アドレス信号が入力され、メモリセル群1a,1
b,1cのうちの特定のメモリセル群を選択する
ためセレクタ出力を出力し、選択したメモリセル
群に対応したメモリセル群選択信号線を活性化す
る。またメモリセル群セレクタ17a〜17cは
列選択のためのプリデコード手段としても働き、
その出力は各々列アドレス情報のうちの下位の列
アドレス信号を受け、対応したメモリセル群にお
けるアクセスすべきメモリセルの列アドレス情報
を解読する列デコーダ18a〜18cに連結され
る。
FIG. 5 is a block diagram showing an embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention, and shows, as an example, a case where three memory cell groups 1a, 1b and 1c are arranged in the column direction. In the same figure,
14a, 14b and 14c are memory cell group selection lines 15 for selecting the memory cell groups 1a to 1c;
are front word lines 16a, 16b and 16c arranged in parallel in the same direction as word lines 3a to 3c.
are AND gates whose input terminals are connected to the prefix word 15 and the memory cell group selection lines 14a to 14c, respectively, and whose output terminals are connected to the word lines 3a to 3c, respectively. Further, 17a to 17c are memory cell group selectors to which the upper column address signal of the column address information is input, and the memory cell groups 1a, 1
In order to select a specific memory cell group from b and 1c, a selector output is output, and a memory cell group selection signal line corresponding to the selected memory cell group is activated. The memory cell group selectors 17a to 17c also function as predecoding means for column selection.
Its outputs are coupled to column decoders 18a-18c, each receiving a lower column address signal of the column address information and decoding the column address information of the memory cell to be accessed in the corresponding memory cell group.

なお、メモリセル面積を低減させるために、ワ
ード線3a〜3cはMOSトランジスタ10aお
よび10bのゲートと同一層のポリシリコン層で
形成する一方、前置ワード線15はこのワード線
3a〜3cであるこのポリシリコン層とは別のポ
リシリコン層あるいはアルミ、モリブデン、モリ
ブデンシリサイドなどの金属配線層で形成する。
Note that in order to reduce the memory cell area, the word lines 3a to 3c are formed of a polysilicon layer in the same layer as the gates of the MOS transistors 10a and 10b, and the pre-word lines 15 are these word lines 3a to 3c. It is formed of a polysilicon layer other than this polysilicon layer or a metal wiring layer of aluminum, molybdenum, molybdenum silicide, or the like.

次に、上記構成による半導体メモリ装置の動作
について説明する。まず、例えばメモリセル群1
a内のメモリセルを選択する場合、アクセスすべ
きメモリセル群1aの行アドレス情報を行デコー
ダ4で解読し、前置ワード線15の一本を活性化
する。そして、メモリセル群選択線14aに選択
信号を加えると、アンドゲート16aが開き、ワ
ード線3aを活性化する。したがつて、図示せぬ
電源から図示せぬビツト線を経て、メモリセル群
1aへ流れ込むコラム電流が流れるのは選択され
たメモリセル群1a内にあるコラムのみである。
また、メモリセル群セレクタ17a〜17cは列
選択のためのプリデコーダとして働くので、各列
デコーダ18a,18b,18cの入力信号はメ
モリセル群内の列を示す列アドレス信号及び対応
したメモリセル群セレクタのセレクタ出力となる
ので、各列デコーダ18a〜18cを単純化で
き、通常の列デコーダを構成した場合に比し著し
くレイアウト面積が低減されるなどの効果をも
ち、、しかも、各列デコーダ18a〜18cに対
して、対応したメモリセル群セレクタ17a〜1
7cからのセレクタ出力が入力されているため、
選択すべきメモリセルが存在するメモリセル群に
おける選択すべきメモリセルが接続されるビツト
線2a,2bしか選択されないため、選択された
ビツト線における浮遊容量が増加せず、選択され
たビツト線の充放電に要する時間の遅延が抑制さ
れて選択すべきメモリセルからの情報の読み出し
速度及び選択すべきメモリセルへの情報の書き込
み速度の遅延が抑制されているという効果をも有
する。
Next, the operation of the semiconductor memory device with the above configuration will be explained. First, for example, memory cell group 1
When selecting a memory cell in a, the row address information of the memory cell group 1a to be accessed is decoded by the row decoder 4, and one of the front word lines 15 is activated. Then, when a selection signal is applied to the memory cell group selection line 14a, the AND gate 16a opens and the word line 3a is activated. Therefore, the column current flowing from the power source (not shown) to the memory cell group 1a through the bit line (not shown) flows only in the columns in the selected memory cell group 1a.
Furthermore, since the memory cell group selectors 17a to 17c function as predecoders for column selection, the input signals of each column decoder 18a, 18b, and 18c are a column address signal indicating a column within the memory cell group and a corresponding memory cell group. Since the selector output is the selector output of the selector, each column decoder 18a to 18c can be simplified, and the layout area can be significantly reduced compared to the case where a normal column decoder is configured.Moreover, each column decoder 18a -18c, the corresponding memory cell group selectors 17a-1
Since the selector output from 7c is input,
Since only the bit lines 2a and 2b to which the memory cells to be selected are connected in the memory cell group in which the memory cells to be selected exist are selected, the stray capacitance on the selected bit lines does not increase and the selected bit lines' It also has the effect that the time delay required for charging and discharging is suppressed, thereby suppressing the delay in the speed of reading information from the memory cell to be selected and the speed of writing information to the memory cell to be selected.

なお、以上はメモリセル群1a内のメモリセル
1の選択について説明したが、他のメモリセル群
1bおよび1cについても同様にできることはも
ちろんである。さらに、メモリセル群を3個に分
割した場合について説明したが、N個(N≧2)
に分割しても同様にできることはもちろんであ
る。また、前置ワード線15のみを低抵抗材料で
構成しておけば、ワード線の抵抗は多少大きくて
も、長さが短かいため、容量が小さく、高速にメ
モリセルをアクセスすることができる。また、ア
ンドゲート16a〜16cは入力端子が2個、出
力端子1個のため、回路構成が簡単になるので、
チツプ面積の増大は無視することができる。ま
た、行デコーダ4はチツプの中央に配置してもよ
く、チツプの端に配置してもよいことはもちろん
である。また、以上の実施例では行デコーダをチ
ツプの端に配置したが、チツプの中央に設けても
よいことはもちろんである。
Note that although the selection of the memory cell 1 in the memory cell group 1a has been described above, it goes without saying that the same can be done for the other memory cell groups 1b and 1c. Furthermore, although we have explained the case where the memory cell group is divided into three, N (N≧2)
Of course, the same thing can be done even if it is divided into two parts. Furthermore, if only the front word line 15 is made of a low-resistance material, even if the resistance of the word line is somewhat high, the length is short, so the capacitance is small, and memory cells can be accessed at high speed. . In addition, the AND gates 16a to 16c have two input terminals and one output terminal, so the circuit configuration is simplified.
The increase in chip area is negligible. Furthermore, it goes without saying that the row decoder 4 may be placed at the center of the chip or at the edge of the chip. Furthermore, although the row decoders are arranged at the ends of the chips in the above embodiments, they may of course be arranged at the center of the chips.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上詳細に説明したように、この発明に係る半
導体メモリ装置によればメモリセルの選択を前置
ワード線とワード線の2段階に分けて行なうよう
に、行選択を階層的に行なうため、列の直流電流
路のある列数を減少することができるので、高速
で、しかも低消費電力の大容量の半導体メモリ装
置を構成することができる効果がある。
As described in detail above, according to the semiconductor memory device according to the present invention, row selection is performed hierarchically such that memory cell selection is performed in two stages: front word line and word line. Since the number of columns with DC current paths can be reduced, it is possible to construct a high-speed, low-power, large-capacity semiconductor memory device.

また、メモリセル群セレクタが列選択のための
プリデコーダとして働くために、列デコーダを単
純化でき、レイアウト面積を著しく低減すること
ができる効果があり、しかも、それぞれの列デコ
ーダが対応したメモリセル群セレクタのセレクタ
出力を受けるとともに列アドレス情報のうちの下
位の列アドレス信号を受けているため、選択すべ
きメモリセルが存在するメモリセル群における選
択すべきメモリセルが接続されるビツト線しか選
択されないため、選択すべきメモリセルからの情
報の読み出し速度及び選択すべきメモリセルへの
情報の書き込み速度の遅延が抑制されるという効
果をも有する。
In addition, since the memory cell group selector functions as a predecoder for column selection, the column decoder can be simplified and the layout area can be significantly reduced. Since it receives the selector output of the group selector and the lower column address signal of the column address information, only the bit line to which the memory cell to be selected is connected in the memory cell group in which the memory cell to be selected exists is selected. This also has the effect of suppressing delays in the speed of reading information from the memory cell to be selected and the speed of writing information to the memory cell to be selected.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は従来の半導体メモリ装置を示すブロツ
ク図、第2図は第1図のメモリセルの詳細な回路
図、第3図は従来の他の半導体メモリ装置を示す
ブロツク図、第4図は従来の他の半導体メモリ装
置を示す配置図、第5図はこの発明に係る半導体
メモリ装置の一実施例を示すブロツク図である。 1……メモリセル、1aおよび1b……メモリ
セル群、2aおよび2b……ビツト線、3……ワ
ード線、4……行デコーダ、5……行アドレス信
号線、6aおよび6b……ビツト線負荷、7……
電源端子、8……負荷素子、9……インバータト
ランジスタ、10……アクセストランジスタ、1
1……ストアノード、12aおよび12b……ア
ンドゲート、13aおよび13b……ゲート信号
線、14a〜14c……メモリセル選択線、15
……前置ワード線、16a〜16c……アンドゲ
ート、17a〜17c……メモリセル群セレク
タ、18a〜18c……列デコーダ。なお、同一
符号は同一または相当部分を示す。
FIG. 1 is a block diagram showing a conventional semiconductor memory device, FIG. 2 is a detailed circuit diagram of the memory cell in FIG. 1, FIG. 3 is a block diagram showing another conventional semiconductor memory device, and FIG. 4 is a block diagram showing a conventional semiconductor memory device. FIG. 5 is a layout diagram showing another conventional semiconductor memory device, and FIG. 5 is a block diagram showing an embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention. 1...Memory cell, 1a and 1b...Memory cell group, 2a and 2b...Bit line, 3...Word line, 4...Row decoder, 5...Row address signal line, 6a and 6b...Bit line Load, 7...
Power supply terminal, 8...Load element, 9...Inverter transistor, 10...Access transistor, 1
1...Store node, 12a and 12b...AND gate, 13a and 13b...gate signal line, 14a to 14c...memory cell selection line, 15
. . . Front word line, 16a to 16c . . . AND gate, 17a to 17c . . . Memory cell group selector, 18a to 18c . . . Column decoder. Note that the same reference numerals indicate the same or equivalent parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 メモリセルをマトリクス状に配置したメモリ
セルアレイを列方向に分割して配列したN個のメ
モリセル群と、 列アドレス情報のうちの上位の列アドレス信号
が入力され、前記N個のメモリセル群のうちの特
定のメモリセル群を選択するためのメモリセル群
セレクタと、 前記N個のメモリセル群の各々に対応して設け
られ、前記メモリセル群セレクタのセレクタ出力
を受けるメモリセル群選択線と、 前記N個のメモリセル群の各々に対応して設け
られ、それぞれが対応したメモリセル群セレクタ
のセレクタ出力を受けるとともに前記列アドレス
情報のうちの下位の列アドレス信号を受け、対応
したメモリセル群におけるアクセスすべきメモリ
セルの列アドレス情報を解読する複数の列デコー
ダと、 アクセスすべきメモリセルの行アドレス情報を
解読する行デコーダと、 この行デコーダの出力端子に接続され、前記N
個のメモリセル群に亘つて配置された前置ワード
線と、 前記N個のメモリセル群の各々に対応して設け
られ、前記メモリセル群選択線の活性状態と前記
前置ワード線の選択信号とに基づいて活性化され
る分割ワード線とを備えた半導体メモリ装置。
[Scope of Claims] 1. A memory cell array in which memory cells are arranged in a matrix is divided and arranged in the column direction, and a high-order column address signal of the column address information is inputted to N memory cell groups, and a memory cell group selector for selecting a specific memory cell group among the N memory cell groups; and a memory cell group selector provided corresponding to each of the N memory cell groups, and configured to receive a selector output of the memory cell group selector. a memory cell group selection line provided corresponding to each of the N memory cell groups, each receiving a selector output of a corresponding memory cell group selector, and a lower column address signal of the column address information; a plurality of column decoders that decode the column address information of the memory cell to be accessed in the corresponding memory cell group; a row decoder that decodes the row address information of the memory cell to be accessed; connected and said N
a prefix word line arranged across the N memory cell groups; and a prefix word line provided corresponding to each of the N memory cell groups, which controls the activation state of the memory cell group selection line and the selection of the prefix word line. A semiconductor memory device comprising: a signal; and a divided word line activated based on a signal.
JP57184362A 1982-10-18 1982-10-18 Semiconductor mrmory device Granted JPS5972699A (en)

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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6120293A (en) * 1984-07-05 1986-01-29 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor memory
JPS61126689A (en) * 1984-11-21 1986-06-14 Fujitsu Ltd Semiconductor memory device
JPH0758589B2 (en) * 1987-04-03 1995-06-21 三菱電機株式会社 Semiconductor memory device
JPH01263992A (en) * 1988-04-13 1989-10-20 Toshiba Corp Semiconductor integrated circuit
KR100213602B1 (en) * 1988-05-13 1999-08-02 가나이 쓰도무 Dram semiconductor memory device
JPH01286197A (en) * 1988-05-13 1989-11-17 Hitachi Ltd Semiconductor memory device
JPH01307091A (en) * 1988-06-03 1989-12-12 Mitsubishi Electric Corp Multiport memory
JPH07114077B2 (en) * 1989-06-01 1995-12-06 三菱電機株式会社 Nonvolatile semiconductor memory device
JPH04106783A (en) * 1990-08-28 1992-04-08 Sharp Corp Dynamic semiconductor storage device
JP3299285B2 (en) * 1991-04-23 2002-07-08 株式会社日立製作所 Semiconductor storage device
JPH1040685A (en) * 1996-07-23 1998-02-13 Mitsubishi Electric Corp Synchronous memory device and data readout method in it

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS573289A (en) * 1980-06-04 1982-01-08 Hitachi Ltd Semiconductor storing circuit device
JPS5766587A (en) * 1980-10-09 1982-04-22 Fujitsu Ltd Static semiconductor storage device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS573289A (en) * 1980-06-04 1982-01-08 Hitachi Ltd Semiconductor storing circuit device
JPS5766587A (en) * 1980-10-09 1982-04-22 Fujitsu Ltd Static semiconductor storage device

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JPS5972699A (en) 1984-04-24

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