JPS6036120B2 - チツプ状部品位置ずれ検査装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 近年、リードレス部品、たとえば抵抗やコンデンサーな
どのりードのないいわゆるチヅプ状部品を回路基板上に
多数かつ同時に装着しうる新しい組立技術が開発され、
これによって高速装着を行ない、高い生産性を生み出し
ている。

しかしながら、これらの回路基板の検査において、チッ
プ状部品の外れおよびずれ不良は従来、作業員が目視に
よって発見していた。しかしながら、作業員による目視
検査では、検査による時間が多く必要となり、高い生産
性をほころ組立技術も検査工程で多人数の検査員を必要
とするに至っては、きわめて大きな問題を残すものであ
った。また、回路基板と同系色のチップ状部品などもあ
り、複雑なプリントパターン上に多数のチップ部品が装
着される関係上、検査ミスも多く、一日中、様をつめて
作業をするため眼球疲労など多くの問題をかかえていた
。本発明は、上記検査を機械の眼に置きかえ、かつきわ
めて高速に検査を行なわしめる新規な装置を提供せんと
するものである。

以下本発明を図面に従って説明する。

第１図は、チップ状部品２および３が装着されている被
検査基板１の一例である。

第２図は、上記チップ状部品２および３に対応した位置
に窓５および６をそれぞれ設けたマスクパターン４の一
例である。第３図は、本発明の一実施例であるチップ状
部品位置ずれ検査装置の構成を示すもので、被検査基板
１のチップ状部品が装着されていない側の後方に位置す
る光源７と、上記被検査基板１のチップ状部品に近接し
て対向する正規チップ状部品装着位置に窓５および６を
設けた、第２図に例示するマスクパターン４を設置して
いる。第３図において８は光源７の光であり、９は被検
査基板１を透過した透過光である。第３図はマスクパタ
ーン４により、透過光９が遮えぎられた状態を示す。も
しチップ状部品２および３が正規の位置より外れると、
透過光９はマスクパターン窓５および６を通過し、走査
型光検出手段１０‘こ達する。走査型光検出手段１０と
しては例えば、テレビカメラとか固体イメージセンサ（
ＣＣＤ）あるいは機械走査型光検出器などを使用するこ
とができるが、ここでは説明を容易にすることができる
が、ここでは説明を容易にする為にテレビカメラを用い
る。今、テレビカメラ１０によって撮嫁した透過光９は
緑像視野の座標に対応した時間位置に映像信号を出力す
る。このように座標位置が時間位置に変換された映像信
号がＸ−Ｙ座標変換手段１１に供給され、再び撮像視野
と対応するＸ−Ｙ座標位置に変換される。このＸ−Ｙ座
標位置が記憶装置１２に供給され、その×−Ｙ座標位置
を記憶し、記憶した×−Ｙ座標位置を表示装置１３に供
給することにより、位置ずれおよび外れたチップ状部品
位置を表示することが出来る。第４図はＸ−Ｙ座標変換
手段１１および記憶装置１２の具体的構成を示すもので
あり、表示装置１３にモニターテレビを用いる場合の構
成を示す。以下第４図に従って説明する。第４図におい
て１４および１５は水平カウンター６に入力およびリセ
ット信号を供給するためのそれぞれクロックパルス発生
器および水平同期信号発生器、１８は上記水平同期信号
発生器１５の出力をカウントし垂直同期信号発生器１７
の出力でリセットされる垂直カウンタ、１９および２０
はそれぞれ水平カウンター６および垂直カゥンタ１８の
カウント出力を記憶するメモリ、２１および２２は上記
〆モリ１９および２０の書き込みおよび読み出しの番地
を指定するそれぞれ水平番地カウンタおよび垂直番地カ
ウンタ、２，３は最初の一垂直走査期間のみ映像信号を
書き込み信号としてメモリー９および２０に供給するた
めのゲート回路、２４は水平番地カウンタ２１および垂
直番地カウンタ２２に映像信号またはアンド回路２５の
出力パルスを選択し供給する選択回路、２６はメモリ１
９の出力と水平カウンタ１６の出力とを比較する比較器
、２７はメモリ２０の出力と垂直カウンタ１８の出力と
を比較する比較器、２８はアンド回路２６の出力端子で
ある。かかる構成において、検査を開始すると水平同期
信号発生器１５の水平同期信号によって水平カウンタ１
６が０１こリセットされ、垂直同期信号発生器１７の垂
直同期信号によって垂直カウンター８および水平番地カ
ウンタ２１および垂直番地カゥンタ２２が０にリセット
される。従ってこのリセットされた状態においてのメモ
リー９および２０は０番地が指定される。上託りセット
が終ると、水平カウンター６および垂直カウンタ１８は
それぞれクロックパルス発生器１４のクロックパルスお
よび水平同期信号発生器１５の水平同期信号をカウント
アップしていく。一方、ゲート回路２３は一垂直走査期
間のみゲートを開き、選択回路２４は一垂直走査期間の
み映像信号を選択し、他の垂直走査期間ではゲート回路
２３はゲートを閉じ、選択回路２４はアンド回路２５の
出力を選択するようになされた回路である。今、ゲート
回路２３はゲートを開き映像信号をメモリ１９および２
０の書き込み信号として供給するように準備され、選択
回路２４は映像信号を選択しその映像信号を水平番地カ
ウンタ２１および垂直番地カウンタ２２に供給するよう
に準備されている。かかる状態において、テレビカメラ
から出力される映像信号はゲ−ト回路２３を介してメモ
リー９および２０の書き込み信号として供給され、この
メモリ１９および２川ま上記映像信号の時間位置と対応
したＸ−Ｙ座標すなわちそれぞれ水平カウンタ１６の内
容（Ｘ座標）および垂直カウンター８の内容（Ｙ座標）
が上記映像信号の前緑により０番地に言己臆される。一
方、水平番地カウンタ２１および垂直番地カウンタ２２
は上記映像信号の後緑によりカウンタアップし、メモリ
１９および２０は次の記憶番地１番地を待機している。
このようにして次に現われる映像信号のＸ−Ｙ座標は１
番地に記憶されて行く、このように一垂直走査期間に現
われる映像信号のＸ座標およびＹ座標はそれぞれメモリ
ー９および２０の０番地から順次記憶されていく。一垂
直走査期間の記憶が終るとゲート回路２３のゲートは閉
じ、選択回路２４はアンド回路２５の出力を選択する。
一方水平番地カゥン夕２１および垂直番地カウンタ２２
と水平カウンタ１６および垂直カウンタ１８は、一垂直
走査期間終了時の垂直同期信号発生器１７の垂直同期信
号によって０にリセットされる。従ってかかる状態にお
けるメモリ１９および２川ま０番地が指定され、かつ読
み出し期間となり０番地の記憶内容Ｘ座標（メモリー９
の内容）およびＹ座標（メモリ２０の内容）が出力され
それぞれ比較器２６および２７に供給される。比較器２
６および２７のもう一方の入力は、それぞれ水平カウン
ター６および垂直カウンター５の出力につながれている
。水平カウンター６および垂直カウンター８はそれぞれ
水平同期信号と垂直同期信号により零にリセットされ、
かつそれぞれクロックパルス発生器１４のクロックパル
スおよび水平同期信号発生器１５の水平同期信号をカウ
ントアップし、水平カウンター６および垂直カウンター
８のカウントアップ出力はそれぞれ比較器２６および２
７に供給される。この結果、比較器２６はメモリ１９の
０番地に記憶されている映像信号の×座標の内容とカゥ
ンタ１６の内容とが一致した時間位置に出力し、比較器
２７はメモリ２０の０番地に記憶されている映像信号の
Ｙ座標の内容とカウンター８の内容とが一致した時間位
置に出力する。この比較器２６と２７との出力をＡＮＤ
回路２５でＡＮＤをとることにより、映像信号の×−Ｙ
座標が時間位置に再び変換された信号となる。一方、Ａ
ＮＤ回路２５の出力は選択回路２４を介して水平番地カ
ゥンタ２１および垂直番地カウンタ２２に供給され、水
平番地カウンタ２１および垂直番地カウンタ２２をカウ
ントアップし、メモリー１９および２川こ１番地の記憶
内容を出力せしめ、その後同様にして、比較器２６およ
び２７は、それぞれ１番地のメモリー９の記憶内容と水
平カウンタ１６の出力およびメモリ２０の記憶内容と垂
直カウンタ１８の出力を比較し、１番地のＸ座標および
Ｙ座標を時間位置に変換する。このように比較器２６は
水平番地カウンタ２１により０番地から順次指定される
番地のメモリー９の記憶内容と水平カウンター６の出力
を順次比較し、比較器２７は垂直番地カゥンタ２２によ
り０番地から順次指定される番地のメモリ２０の記憶内
容と垂直カゥンタ１８の出力を順次比較し、ＡＮＤ回路
２５で該比較器２６と２７との出力をＡＮＤすることに
より、一垂直走査期間に記憶されたすべての映像信号の
Ｘ−Ｙ座標を順次時間位置に変換することが出来る。こ
のように、検出開始からの一垂直期間は、映像信号の座
標を記憶する。いわゆる書き込み期間であり、以降の垂
直期間は、メモリ内容を読み出すための読み出し期間で
ある。従って一垂直走査期間に記憶された映像信号のＸ
−Ｙ座標を時間位置に変換する上記動作を繰り返して行
ないＡＮＤ回路２５の出力端子２８に時間位置に対応し
た出力パルスが出力される。上記ＡＮＤ回路出力端子２
８に現われた出力信号と水平垂直同期信号を含めた複合
同期信号をモニターテレビに供給することにより位置ず
れおよび外れたチップ状部品位置をモニターブラウン管
面上表示出来る。以下第５図および第６図を用いて、上
記チップ状部品２および３が位置ずれあるいは外れた場
合にマスクパターン窓を通過する透過光９の状態を説明
する。今、第５図に示すようにチップ状部品２および３
が被検査基板１の正規装着位置に装着されている場合に
おいて、マスクパターン４のマスクパターン窓５および
６は上記それぞれチップ状部品２および３に完全に塞が
れているため透過光９は、マスク窓５および６を通過す
ることが出来ない。従って透過光９は第３図の走査型光
検出手段１川こ到達することはない。次に第６図に示す
ようにマスクパターン窓５に対応したチップ状部品が外
れていたり、あるいはマスクパターン窓６に対応したチ
ップ状部品３が正規装着位置からずれた位置に装着され
ている場合は、マスクパターン窓５および６をそれぞれ
透過光９ａおよび９ｂが通過する。従ってこの透過光９
ａおよび９ｂは第３図の走査型光検出手段１川こ到達し
、走査型光検出手段１０とＸ−Ｙ座標変換手段１１と記
憶装置１２と表示装置１３により前記説明した動作が行
なわれ、上記位置ずれおよび外れたチップ状部品２と３
の位置が記憶されるとともに表示される。従って表示装
置１３に映し出されている上記位置と検査後の上記被検
査基板１とを対比することにより容易に被検査基板上の
上記位置ずれおよび外れたそれぞれチップ状部品２およ
び３を発見することが出来ると共に不良チップ部品の修
理などに有効である。また第１０図において透過光は、
マスクパターン窓５ではチップ状部品２がａ，，ａ２，
ｂ，ｂ２、マスク窓６ではチップ状部品３がａ３，ａ４
，広，ｂ４、以上位置ずれを起こした場合に上記マスク
パターン窓５および６をそれぞれ通過する。従って上記
寸法の位置ずれを起こさない限り透過光は、走査型光検
出手段１０１こ到達しない。上言茂，，ａ２，ｂ，，ｂ
２，ａ３，ａ４，ｂ３およびｂ４は、ずれの良品限界値
に設定される。以上の説明で明らかなように高精度に設
計された上記マスク窓設定寸法でチップ状部品位置ずれ
検出が出来る。また第３図におけるマスクパターン４と
被検査基板１との位置関係を第１１図に示す。第１１図
において光８が入射して来た場合は、透過光９がマスク
パターン４とチップ状部品２ととの反射を繰り返しなが
ら漏洩光１０ａおよび１０ｂとなりこの漏洩光１０ａお
よび１０ｂがそれぞれマスクパターン窓５および６を通
過する可能性がある。従って上記漏洩光１０ａおよび１
０ｂが第３図の走査型光検出手段１川こ到達すると、チ
ップ状部品が正規装着位置にあっても本装置はチップ状
部品２および３を位置ずれおよび外れと判定する場合が
ある。本発明では以下のように上記問題点が除去できる
ように構成されている。以下第１２図にて説明する。第
１２図の実施例は被検査基板１の被検査基板チップ装着
側にマスクパターン４を設置するとともにチップが装着
されていない側にもマスクパターン１５を設置したもの
である。このマスクパターン１５は正規チップ状部品装
着位置に窓を設け、この窓以外は光を遮断するマスクパ
ターンである。第１２図において光源からの光８がいか
なる角度から、被検査基板１に入射してきても、上記マ
スクパターン１５により、正規チップ状部品装着位置に
設けたマスクパターン窓１６と１７以外は、光８を遮断
する。従って基板を透過する光はチップ状部品２および
３に対応するそれぞれ正規装着位置に設けたマスクパタ
ーン窓１６および１７の部分だけであり、漏洩光となり
得る要素の光は上記マスクパターン１５で遮断される。
従って漏洩光対透過光の比の大中な向上を得ることが出
来る。以上の説明では、第３図に示すように、光源７は
被検査基板１のチップ状部品が装着されていない側に位
置し、マスクパターン４はチップ部品が装着された側に
近接対向する位置に粗配列されたものとして説明を行な
っているが、これら組配列は、種々の組合せが考えられ
る。

たとえば第９図のａ，ｂおよびｃに示すように、ｔｌ｝
（光源７）−（マスク４）一（チップ部品２、回路基板
１）−（マスク４′）−（第９図ａ）■（光源）−（マ
スク４）−（チップ部品２、回路基板）（第９図ｂ）（
３’（光源）−（チップ部品２、回路基板１）−（マス
ク４）（第９図ｃ）などの組配列があり、どの組合せで
もチップ部品の外れおよびずれの検査が可能である。

しかし、回路基板１は、一般的にェポキシおよびフェノ
ール樹脂等で作られ回路基板内で光の乱反射および光の
廻り込みが存在する。光の乱反射および光の廻り込みの
様子を第８図および第９図ａ，ｂ，ｃに示している。第
８図は第３図に示す粗配列と同じで、マスクパターン４
の位置よりチップ部品２がわずかに下にずれた状態を示
しており光源７から出た光８が回路基板１により乱反射
が起るが、回路基板１からの透過光９はチップ部品２と
マスクパターン４のわずかのすき間から比較的細い光東
として検出することができる。しかし、第９図ａ，ｂに
おける組配列では、第８図とチップ部品２が同じずれの
状態にあるにも拘らず、光の乱反射によってその透過光
９は大きく広がり、チップ部品２がずれたのか外れたの
かが分離いこくくなる欠点を持ち、さらに第９図ｃにお
いては、マスクパターン４とチップ部品２が正規の位置
にあるにも拘らず、光の乱反射による光の廻り込みによ
って透過光９が存在し、上記第９図のａ，ｂ，ｃ共に検
出は可能であるがＳ／Ｎが高くとれない欠点があった。
以上のことから、第８図に示す組配列では明らかに透過
光におけるＳ／Ｎ比が向上し、わずかなチップ部品のず
れに対しても良好に検査できる大きな特徴を持っている
。このように、第３図に示した実施例によれば、走査型
光検出手段視野内のどの位置に、チップ状部品の位置ず
れや脱落にもとづく透過光が得られたかを明確に知るこ
とができる。

しかしながら、このことはあくまでも走査型光検出手段
視野での位置を知るということであり、被検査基板上の
どの位置のチップ状部品に位置ずれや脱落があるかを知
ることではないという欠点がある。すなわち、例えば第
１３図Ａのごとき、基板左上端を原点とし、（Ｘ，、Ｙ
，）、（Ｘ２、Ｙ２）および（Ｘ３、Ｙ３）なる正規装
着位置Ｐ，，Ｐ２およびＰ３にチップ状部品が取り付け
られた被検査基板１に、上記点Ｐ，，Ｐ２，Ｐ３に窓を
設けたマスクパターン４を近接対向せしめ、上記被検査
基板とマスクパターンの一方の後方に光源を置き、他方
より走査型光検出手段を設置せしめると、走査型光検出
手段の視野には、例えば第１３図Ｂに示したごとくＰ，
′，Ｐ２′，Ｐ３′に映像が得られ、第３図に示した実
施例によれば、走査型光検出手段１０の視野に対応した
Ｘ−Ｙ座標、すなわち第１３図Ｂの（ｘ，、ｙ，）、（
杉、ｙ２）、（ｘ８、ｙ３）なる座標として記憶される
。

ここで第１３図Ｂの４′は第１３図Ａのマスクパターン
の輪隔を示し、（祢、ｙｏ）は、このマスクパターンの
左上端、即ち原点の上記走査型光検出手段の走査開始時
点、すなわち走査型光検出手段視野に対応した×−Ｙ座
標の原点からの座標、即ち原点座標を示し、ＱはこのＸ
−Ｙ座標のＸ軸と被検査基板のＸ軸との傾きを示す。こ
の時、本来検出すべき被検査基板上の点Ｐｉ（ｉ＝１、
２、３）の座標（Ｘｉ、Ｙｊ）と走査型光検出手段の視
野内の映像Ｐｉ′の座標（ｘｉ、〆）との関係は、×ｉ
ニ幻ｃｏｓＱ＋ｙＩＳｉｎＱ＋淋 Ｙｉ＝ｘｉｓｉｎＱ＋ｙｉ ｃｏｓＱ＋ｙ。

……・・・‘１’となる。上記｛１｝式より
明らかなごとく、基準座標（ｘｏ、ｙｏ）と傾きＱが判
明しなければ走査型光検出手段視野内の映像Ｐｉ′の座
標（ｘｉ、ｙｉ）より被検査基板上の点Ｐｉの座標（Ｘ
ｉ、Ｙｉ）を知ることができないので、第１３図Ｂのご
とく点Ｐ，′，Ｐ２′，Ｐ３′の座標を知るだけでは点
Ｐ，，Ｐ２，Ｐ３の座標を知ることができない。

このため、第３図の実施例のごとく表示装置を具備し、
撮像した点Ｐ，′，Ｐ２′，Ｐ３′の映像を表示し、こ
の表示を人間がみることにより、点Ｐ，′，Ｐ２′，Ｐ
３′の相対的位置を知ることはできるが、撮像した点Ｐ
ｉの座標（幻、ヅ）と被検査基板上の点Ｐｉの座標（Ｘ
ｉ、Ｙｉ）とを比較対照して撮嫁した点Ｐｒの座標から
、被検査基板上のどの点のチップ状部品に不備があるか
指摘することはできない。さらに、走査型光検出手段の
倍率によって同一の被検査基板を撮像しても、第１３図
Ｃのごとく、被検査基板の輪隔が４ａ′や４ｂ′のよう
に違う大きさになる。これは式【１に走査型光検出手段
の倍率Ｋも関連し、ＸｉコＫ（ｘｉｃｏｓＱ十ｙｊｓｉ
ｎＱ＋為）Ｙｉ＝Ｋ（一幻ｓｉｎＱ＋ｙｌｃｏｓＱ＋ｙ
。

）・・…・・・・（２）となることを示している。した
がって、走査型光検出手段視野内の映像Ｐｉ′の座標（
ｘｉ、ｙｉ）を知り、被検査基板上の座標（Ｘｉ、Ｙｉ
）を知るには原点座標（ｘｏ、ｙｏ）と傾きＱと倍率Ｋ
を知る必要があることになる。

この原点座標（均、ｙｏ）と傾きＱと倍率Ｋは、マスク
パターン上の２つ以上の定点の基準窓を設け、この基準
窓からの通過光にもとづく映像の走査型光検出手段視野
内における座標を検出することにより求めることができ
る。

すなわち、例えば第１４図Ａのごとく、マスクパターン
上の（×、Ｙ）＝（０、０）なる基準点ｑ，と（Ｘ、Ｙ
）：（×ｓ、 ０）なる定点を選び、他のマスク窓より
十分大きい基準窓を設けたとすると、走査製光検出手段
の視野に得られる映像は、例えば第１４図Ｂのごとく点
ｑ，′とｑ２′に比較的大きな映像を得、点Ｐ３′に比
較的小さな映像を得ることになる。そこで、映像信号の
大きさにより基準窓にもとづく映像ｑ，′，ｑ２′と一
般のマスク窓にもとづく映像Ｐ３′を識別し、基準窓に
もとづく映像ｑ，′，ｑ２′の座標（為，、ｙｏ，）、
（ｘ雌、ｙｏ２）を求めると、基準窓の被検査基板上の
座標（０、０）と（ｘＳ、０）より上記の原点座標（均
、ｙｏ）、傾きＱおよび倍率Ｋは、（為、ｙｏ）ニ（×
〇，、ｙ〇，） Ｑ＝ｔ肌→（篤実毒さ；） …｛３１Ｋニ又Ｓ
／ノ（ｙの・ｙ。

・）２十（Ｘ。・−Ｘ。・）２より求まることは明らか
である。第１５図は基準窓も設けたマスクパターンを用
い、基準座標（ｘｏ、ｙｏ）、傾きＱおよび倍率Ｋを求
め、この基準座標、傾き、倍率にもとづき走査型光検出
手段視野に現われた映像の座標に補正演算を施こし、被
検査基板上の座標を求める。

チップ状部品位置ずれ検査装置の一実施例を示す。第１
５図の実施例は第３図の実施例に基準窓からの透過光に
もとづく映像と一般のマスク窓からの透過光にもとづく
映像とを識別する識別手段１００と、この識別手段１０
０の出力により基準座標（ｘｏｉ、ｙｏｉ）（ｉ＝０、
１・・・・・・）を記憶する基準座標記憶手段１０１と
、この基準座標にもとづき｛３｝式のごとき演算により
原点座標（為、仇）と傾きＱで倍率Ｋを算出するととも
に、記憶手段１２に記憶された座標に｛２｝式のような
補正演算を施こす演算手段１０２を付加したものであり
、第１５図のような構成により走査型光検出手段１川こ
より撮像された映像から被検査基板上のどのチップ部品
に位置ずれや脱落があるか正確に指摘できることとなる
。また、被検査基板上に取り付けられるチップ状部品の
数が比較的少数であったり、煩きＱや倍率Ｋが精度良く
規制できる場合には基準座標（ｘｏ、ｙｏ）のみを知る
だけで必ずしも傾きＱや倍率Ｋを知る必要がないことも
ある。このような場合には、マスクパターンに設ける基
準窓も１ケ所で十分であり、■式‘３’式の演算も非常
に簡単になるから、被検査基板上の座標の検出精度の必
要度合により、決定すれば良いことになる。以上の説明
で明らかな様に本発明によるチップ状部品位置ずれ検査
装置は、人間の目視検査いわゆる官能検査を定量的に測
定しうる装置を提供するものであり、従来チップ状部品
の位置ずれに対するあいまいな目視検査を解決すると共
に不良となった基板のどのチップ状部品が位置ずれ、あ
るいは外れたかを容易に、かつ確実に発見することが出
釆、自動検査化を容易に達成出来るという多くの優れた
特徴をもつものである。

【図面の簡単な説明】

第１図はチップ状部品が装着されている被検査基板の斜
視図、第２図はマスクパターンの一例を示す斜視図、第
３図は本発明の一実施例におけるチップ状部品位置ずれ
検出装置のブロック図、第４図は同装置の一部の具体的
構成を示すブロック図、第５図、第６図、第７図、第８
図、第９図ａ，ｂ，ｃ、第１０図、第１１図、第１２図
、第１３図Ａ，Ｂ，Ｃ、第１４図Ａ，Ｂは同装置の動作
を説明する斜視図、第１５図は他の実施例のブロック図
である。 １・・・・・・被検査基板、４・・・・・・マスクパタ
ーン、７・・・・・・光源、１０・・・・・・走査型光
検出手段、１１・・・・・・Ｘ−Ｙ座標変換手段、１２
・・・・・・記憶装置、１３・・・…表示装置、１００
・・・・・・識別手段、１０１・・・・・・基準座標記
憶手段、１０２・・・・・・演算手段。 第１図第２図 第３図 第４図 第５図 第６図 第Ｔ図 第１１図 第１２図 第８図 第９図 第１０図 第１３図 第１４図 第１５図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 光透過率の低いチツプ状部品を光透過率の高い基板
   に装着した被検査基板におけるチツプ状部品位置ずれ検
   査装置であつて、被検査基板のチツプ状部品の正規装着
   位置と対応した位置に光を通過する窓を設けるとともに
   該窓以外は光を遮断する如くなして上記被検査基板に近
   接対向させたマスクパターンと、上記被検査基板と上記
   マスクパターンのいずれか一方の後方に配設した光源と
   、上記被検査基板および該マスクパターン窓を通過した
   透過光をそのまま撮像する走査型光検出手段と、上記走
   査型光検出手段の出力中に現われる映像信号を上記走査
   型光検出手段の視野に対応したＸ−Ｙ座標に変換するＸ
   −Ｙ座標変換手段と、そのＸ−Ｙ座標内に位置する上記
   走査型光検出手段の映像信号のＸおよびＹの座標を記憶
   する記憶装置と、上記記憶装置に記憶された座標を表示
   する表示装置とを具備し、前記マスクパターン窓に対向
   するチツプ状部品の装着ずれ状態に応じて前記マスクパ
   ターン窓を通過する透過光を上記走査型光検出手段によ
   り映像信号として検出し、Ｘ−Ｙ座標における映像信号
   の座標を記憶装置に記憶する一方、上記表示装置に映像
   信号の座標に相当する位置を表示することにより上記チ
   ツプ状部品の位置ずれおよび着脱検出と表示を行なわし
   めることを特徴とするチツプ状部品位置ずれ検査装置。 ２ マスクパターンを被検査基板のチツプ状部品装着側
   に近接対向させ、該被検査基板のチツプ状部品が装着さ
   れていない側の後方に光源を配置したことを特徴とする
   特許請求の範囲第１項記載のチツプ状部品位置ずれ検査
   装置。３ 正規チツプ状部品装着位置に窓を有し、この
   窓以外光を遮断するマスクパターンを上記被検査基板の
   チツプ状部品が装着されていない側にも近接対向して位
   置せしめたことを特徴とする特許請求の範囲第２項記載
   のチツプ状部品位置ずれ検査装置。 ４ マスクパターンに被検査基板のチツプ状部品の正規
   装着位置と対応した位置に設けた窓と明確に識別できる
   形状の基準窓を付加し、かつ、走査型検出手段の出力中
   に現われる映像信号が基準窓を通過した透過光によるも
   のか否かを識別する識別手段と、上記識別手段出力によ
   り上記基準窓に対応した基準座標を記憶する基準座標記
   憶手段と、上記基準座標記憶手段出力にもとづき、記憶
   手段に記憶された座標に補正演算を施こす演算手段を付
   加したことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のチ
   ツプ状部品位置ずれ検査装置。