JPS6326511A - 実装部品検査装置 - Google Patents

実装部品検査装置

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JPS6326511A
JPS6326511A JP61169036A JP16903686A JPS6326511A JP S6326511 A JPS6326511 A JP S6326511A JP 61169036 A JP61169036 A JP 61169036A JP 16903686 A JP16903686 A JP 16903686A JP S6326511 A JPS6326511 A JP S6326511A
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JP
Japan
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peak
light
height
brightness
blooming
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JP61169036A
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English (en)
Inventor
Giichi Kakigi
柿木 義一
Moritoshi Ando
護俊 安藤
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概  要〕 本発明は、光切l1yr法を用いて実装部品の実装状態
を検査する実装部品検査装置において、ラインセンサが
被検査対象から強い反射光を検知して飽和してしまうこ
とによるブルーミングの影ζをなくし、正確な部品検査
を可能にするために、光切断画像の最大輝度ピークを検
出してその高さデータを得る際に、上記ピークにおける
輝度がブルーミングレベルを越えた時には、上記ピーク
の次に大きな輝度を持つ第2のピークを検出し、これら
2つのピークのうちのいずれか正しい方のピーク(ブル
ーミングによって生じたのではないピーク)における高
さデータを得るようにしたものである。
〔産業上の利用分野〕
本発明は、プリント板に実装された電子部品(特にはチ
ップ部品)の実装状態を光切断法を用いて自動検査する
実装部品検査装置に関する。
近年、電子殿器を小型化するため、表面実装部品(チッ
プ部品)が多(使用されるようになってきた。今後、チ
ップ部品化はますます進み、その数量は急激に増加する
ものと予測されている。チップ部品を用いたプリント(
反の製造工程では、実装は自動機によって行われている
。しかし、実装状態の外観検査は自動化が遅れ、人間の
目視I灸査にたよっているのが現状である。チップ部品
を用いたプリント板の信頼性向上のため、外観検査の自
動化が必須となっている。このような背景から、チップ
部品実装の外観検査の自動化が強く望まれてきた。
〔従 来 技 術〕
光切断法を用いた従来の実装部品検査装置は、プリント
板上にスリット状の光ビーム(以下、スIJ7トビーム
と称す)を真上から照射し、そこに形成された光切断線
をラインセンサで斜め上方から検知して、得られた光切
断画像の高さ方向の最大輝度ピークにおける高さデータ
を求め、この高さデータを二値化して部品形状を取出し
、これと基準のパターンとを比較することにより検査を
行っている。
C発明が解決しようとする問題点〕 一般にプリント板上では、部品の種類や材質等の違いに
よって、光反射率も異なってくる。例えば、銅の電極は
反射率が高く、黒色の部品は反射率が低い。その比は、
約1000にもなる。
ところが、上記ラインセンサで検知可能な光量のダイナ
ミックレンジは限られており、例えばCCDラインセン
サの場合の使用可能な範囲は1対100程度にしかなら
ない。そのため、このようなラインセンサを用いた場合
、例えば上記スリットビームの光グが大きいと、反射率
の高い部分(例えば桐の電極等)からの反射光量がライ
ンセンサの検知能力を越えることにより、ブルーミング
(明るい部分が尾を引く現象)が生じてしまう。
また逆に、上記ブルーミングが生じない程度まで上記ス
リットビームの先口を落とすと、反射率の低い部分く例
えば黒色の部品等)からの反射光口が一層小さくなり、
ノイズに埋もれて検知できなくなってしまう。
このようにブルーミングが生じたり、或いは必要な部品
からの反射光が得られないと、高さデータを二値化した
場合に正確な部品形状が得られず、よって正常パターン
との比較の際に誤差を生じてしまう。
本発明は、上記問題点に鑑み、ブルーミングの影響をな
(し、反射率の高い部分も低い部分も正確に検知できる
実装部品検査装置を提供することを目的とする。
〔問題点を解決するだめの手段〕
本発明は、光切面画(象に生じた上記ブルーミングの尾
を消すための手段として、光切断画像から高さ方向の輝
度ピークを検出してその高さデータを求める際に、上記
ピークのうち最大輝度を持つ第1のピークの輝度がブル
ーミングレベル(ラインセンサの飽和レベル)よりも大
きい時には、上記第1のピークの次に大きくかつ所定の
必要レベルよりも大きな輝度を持つ第2のピークをも検
出し、これら2つのピークのうちの正しい方のピークに
おける高さデータを得るようにしたものである。
〔作   用〕
光切断画像中にブルーミングの尾が生じた場合、その箇
所は必ず上記ブルーミングレベルを越えた輝度を持つこ
とになる。また、光切断画像の任意位置における高さ方
向には最大輝度を持つピーク(第1のピーク)が存在す
る。よって、もしこの第1のピークの輝度が上記ブルー
ミングレベルを越えなければ、上記高さ方向にはブルー
ミングの尾は存在していないことになる。一方、築1の
ピークの輝度がブルーミングレベルを越えている時は、
単にその箇所が反射率の高い金屈電穫等に対応している
ためにブルーミングレベルを越える大きな輝度を持つよ
うな場合と、その箇所にブルーミングの尾が生じている
場合との、2つの場合がある。よって、このような時に
上記第2のピークをも検出するようにすれば、前者の場
合には第1のピークが正しいピーク(ブルーミングによ
って生じたのではないピーク)となり、後者の場合には
第2のピークが正しいピークとなる。
従って、光切断画像中にブルーミングの尾が存在してい
る場合であっても、上記第1、第2のピークを検出し、
そのうちのいずれか正しいピークを選択してその高さデ
ータを得るようにすれば、ブルーミングの影響のない正
確な高さデータが得られるようになる。
このような処理を行えば、プリント板上に反射率の高い
部分が存在してもブルーミングのy5p3をなくすこと
ができ、しかもこのことによりスリットビームの光量を
ある程度大きく維持できるので、反射率の低い部分から
の反射光もノイズに埋もれることな(正確に検出できる
ようになる。
〔実  施  例〕
以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら説
明する。
第1図は、本発明の一実施例に係る光学系を示す構成図
である。
同図において、本実施例は、まず半導体レーザ1、コリ
メートレンズ2およびシリンドリカルレンズ3からなる
光照射手段を備えている。この光照射手段は、半導体レ
ーザ1から出力されたレーザ光11をコリメートレンズ
2で平行光β2に変換し、更にシリンドリカルレンズ3
でスリット状の光ビーム(スリットビーム)13に変換
し、このスリットビームN3を、矢印方向に移動可能な
ステージ4上に′@置されたプリント坂P上に真上から
照射する。プリント板I)は、その基1& R上に各種
の部品(特にはチップ部品)Qが実装されており、上記
スリットビーム1つの照射によって、上記基板Rおよび
部品Q上には光切11j’i線りが形成される。
更に、結像用のレンズ5、ガルバノミラ−6およびライ
ンセンサ(例えばCCDラインセンサ等)7からなる光
検知手段を備えている。この光検知手段は、まず上記光
切断線りから斜め上方への反射光14を、結像用のレン
ズ5を介してガルバノミラ−6に導(。ガルバノミラ−
6は、一定角度範囲内で細かく往復回転(振動)されて
いるので、ガルバノミラ−6に導かれた反射光1遁は、
上記振動に伴って上下方向に振られる。この振られた反
射光をラインセンサ7で類火検知する。するとラインセ
ンサ7は、反射光β4を高さ方向に順次+&知していき
、ガルバノミラ−6の一方向への一回の振りで、光切I
JfT線りの全体像を見ることができる。このような検
知で得られた画像を「光切断画像」と呼ぶ。
この光切断画像は、第2図[alに示すように、光切断
線りの形成されている対象(部品Q、基板R)の高さに
応じたずれを持つほぼスリット状の(象として得られる
とともに、これらは上記対象の輝度に応じた多階調の濃
淡画像となる。更に、プリント板上に光反射率の高い部
分(例えば全屈の電極部等)があると、これと対応する
位置から、ラインセンサ7の飽和によるブルーミング(
斜線部)が生じ、尾を引(。このような光切断画像は、
例えばXアドレスとXアドレスで表すことができ、Xア
ドレスはラインセンサ7のライン方向(走査方向)に沿
った各位πに対応し、Xアドレスは高さに対応している
なお、上記光切断画像をプリント1ffl Pの全面に
ついて順次適切に得るために、第1図において、ステ・
−ジ4、ガルバノミラ−6、ラインセンサ7は、信号処
理回路8の指示に基づき、それぞれステージドライブ回
路9、ガルバノミラ−ドライブ回路10、ラインセンサ
ドライブ回路11によって、互いに同期して駆動される
次に本実施例は、上記光切断画像の画像処理系の1つと
して、不図示のピーク検出回路を備えている。第2図(
11)に示した光切断画像では、X方向の各位置ごとに
、高さ方向(X方向)の輝度ピークが存在している。通
常、大きなピークはX方向の各位置ごとに1個しか存在
しないが、例えば同図(1111のx=Aの位置のよう
にブルーミングが生じた箇所では、同図(blに示すよ
うに、X=八における高さ方向に沿って、2つのピーク
P+、P2が存在する。同図の例では、最高、輝度を待
つ第1のピークP+は、ブルーミングのFWで生じたも
のであり、実際の部品の位置とは対応していない。
上記第1のピークPlの次に大きな輝度を持つ第2のピ
ークP2は、ブルーミングのY響で生じたものではなく
、実際の法服の位置と対応している。
以下、ピーク検出回路によるピーク検出処理について説
明する。
上記ピーク検出回路では、まず第2図(b)に示すよう
に、ラインセンサの飽和レベルであるプルーミングレベ
ルBLと、上記第2のピークP2であるために必要な最
低限のレベル(以下、第2ピ−クレベルと称す)NLと
を予め設定しておく。
そして、第2図(a)に示したような光切断画像を、X
方向(ラインセンサ7の走査方向)の各位置毎に、X方
向(高さ方向)に沿って順次見ていき、最大輝度を持つ
第1のピークと2番目の輝度を持つ第2のピークとを検
出する。この検出後、第1のピークの輝度(最高輝度)
が上記ブルーミングレベルBLよりも大きく、かつ第2
のピークの輝度が上記第2ピークレベルNLよりも大き
い場合だけ、上記第1および第2のピークを有効とし、
それ以外の場合は第1のピークだけを有効として第2の
ピークは無効とする。叩ち、第1のピークがブルーミン
グによって生じた可能性がある場合にだけ、第2のピー
クを有効とする。
以下に、上記ピーク検出処理を第3図〜第6図に基づき
具体的に説明する。第3図は光切断画像における任意の
X位置においてX方向のピークを検出する処理を示すフ
ローチャート・、第4図(a)。
l′b)はそれぞれ第3図中の変数、記号を説明するた
めの図、第5図は第3図中の変数RTSEと輝度の推移
との関係を示す図、第6図は1つの光切断画像全体につ
いて各位置毎のピークを得るための処理を示すフローチ
ャートである。
第3図において、ステップa1で、変数Y、 RISI
E、PYI、PY2.pH,PI2の初期値をすべてr
OJにし、SLの初期値をBSLにしておく。以下、■
を注目画素のアドレス(X。
Y)における輝度で書換えながら(ステップa2)、こ
の輝度Iを画像の下(Y=O)から上方へ順次注目して
いき、輝度の推移状態を示す変数であるRISEの状態
に基づき、場合分けをしていく。
まず、RISE=O1即ち第5図に示すようにまだ1個
もピークを見つけていない状態では、IがSL (=B
SL)を越えるまで、y−t−順次大きくしてい((ス
テップa 3.  a 4.  a 28ta29)o
rがSL (=BSL)を越えたならば始めてRISE
を1にして(ステップat、as)、その後■が上昇中
にある間は、PYをYで書換えるとともに、PIおよび
SLを1で順次新しく書換えていく (ステップa6〜
as)・■の上昇が停止して、次に下降し始めた時、叩
ち最初のピークを通過した時には、RISEを2にする
(ステップa8〜a l Q) 、この時−PI・PY
は、上記ピークにおける輝度とyアドレスを保持してい
る。そこで次に、上記ピークの輝度を表すPIがPI2
  (最初はPI2=O)よりも大きければ、PI、P
Yの値をそれぞれPt2゜PY2に仮りに入れておき(
ステップa11゜a12)、更にPT+  (最初はP
I+=O)がPI2よりも小さければ、PI+、PY+
の値とPI2、PY2の値とをそれぞれ交換する(ステ
ップa l 3r  a l &) o叩ち、上記ステ
ップa+:+。
ahaは輝度の大きい方の値をPll、PY+に入れる
ための処理であり、これによりPTI、PYlにはこれ
までの最大輝度を持つピークにおける輝度とyアドレス
が入ることになる。
次にRISIF、=2の状態でIが下降中の時はIをそ
のままSLとして(ステップaha、ac7)、■が上
昇を始めてBSLを越えた時にはRTSEを3にする(
ステップal&、a’1 B、a+q)。
RISE=3の状態で■が上昇中の間は、上記ステップ
a6を繰返すことによりPY、PI、SLを大きな値で
順次更新していく (ステップ32 o。
a2+、aa)。
■の上昇が停止して、次に下降し始めた時、即ち2番目
のピークを通過した時には、RISEを4にして(ステ
ップa22.a23)s上記ステップa11〜a14を
行う。この処理で、最初のピークと2番目のピークのう
ち、より大きな輝度を持つ方のピークの輝度とyアドレ
スがPli。
PY+に入り、小さい方のピークの輝度とyアドレスが
P I 2.PY2に入る。
次に、RISE=4の状態でIが下降中の時および■が
上昇を始めてPI2に達するまでの間は、■をそのまま
SLとして(ステップa24゜a 25.  a 26
) % Iがこれまでの2番目に大きなピークの輝度で
あるPI2を越えた時には、再度R[SEを3にして(
ステップa2s、a2t)s上記ステ7プaコを行う、
以1及、Y=YENDとなるまで、上記ステップ82G
”’a2?を繰返すことになる。この処理により、Yの
進行に従い新たなピークが検出された時には、そのピー
クを含めてこれまでの最大輝度を持つピーク(茅1のピ
ーク)の輝度とyアドレスがPL+、PY+の値になり
、2番目の輝度を持つピーク(第2のピーク)の輝度と
yアドレスがPI2.PY2の値になる。
そして最後にY=YENDとなった時にはステップ83
Gに移り、上記第1のピークの輝度PI+がブルーミン
グレベルBLよりも大きく、かつ上記第2のピークの輝
度P■2が第2ピークレベルNLよりも大きい場合にだ
け、上記第1のピーク(PI+、PY+)および第2の
ピーク(Pr2.PY2)を有効とし、それ以外の場合
にはステ7プaコ+でPI2とPY2をrOJにするこ
とにより第2のピークを無効にしてしまう。
叩ち、第1のピークがブルーミングによって生じた可能
性がある場合だけ、第2のピークを有効なものとして取
入れる。
次に、第6図のステップb1〜bうに示すように、上記
ステップa+−23+の処理をXを順次変えて繰返すこ
とによって、画像全体のピークPYl  (X)、PY
2 (X〕、PII  (X)、PI2  (X)  
(X=O〜XEND)を得る。
このようなピーク検出処理を第2図(a)の画像に対し
て施すことによって得られた画像を、同図(C)に示す
。同図(C1では、同図<’a)の画像よりもy方向に
もっと引き締まった直線状の画像が1ユられている。こ
の画像は、ブルーミング部分を除いて、検知対象面の高
さと正確に対応している。
第3図のピーク検出処理によって第1および第2のピー
クがいずれも有効とされた場合、この中のどちらのピー
クがブルーミングによって生じたのでない正しいピーク
であるかは、まだわからない。そこで本実施例では、ピ
ーク選択回路を設けることにより、いずれか一方の正し
いピークを選択する処理を行う。以下、その選択処理に
ついて説明する。
上記ピーク選択処理の考え方としては、ピークが2つ得
られた時、ピークのX方向(ラインセンサの走査方向)
への連続性に若目し、「左端」を1寺っている方を正し
いピークとして選)尺するようにする。例えば第2図(
C)において、X方向に沿って左から右の方へ注目して
いくと、まずへの位置でピークが2つになる。この時、
上方のピークが左端を持っているので、これを正しいピ
ークとして選択する。実際、下方のピークは、ブルーミ
ングの尾である。次に、Bの位置で再度ピークが2つと
なる。この時は、下方のピークが左端を持っているので
、これを正しいピークとして選択する。
なお、ピークが2つ得られている間は、上記左端を持つ
ピークと連続している方のピークを取る。
上記ピーク選択処理を、第7図に基づき具体的に説明す
る。
まず、ステップC1で、注目している位置のXアドレス
であるXと、ピーク数が11囚か21固かで0.1とな
る変数INと、正しいピークの高さを表す変数Hとを、
予めすべて「0」にしておき、画像を左(X=O)から
右へ順次注目していく。
そしてステップC2で、PI2 (X)=0ならば、即
ち第3図のステップallで第2のピークが無効とされ
て第1のピークのみが有効に存在する箇所であるならば
、INをOにしてから(ステップC3)、第1のピーク
のXアドレスであるP Y 4(X)をI(に入れた後
(ステップCθ)、このHの値を現在のXにおける高さ
データとしてHD(X)に入れる(ステップc+o)。
次に、上記ステップC2においてPI3(X)≠0であ
って(即ち、第1および第2の2つのピークが有効に存
在する箇所であって)、かつステ・7プc4においてI
N=Oであるならば、即ちピークが1つだけの箇所から
ピークが2つの箇所に移ったばかりの位=(例えば第2
図(C1に示したΔ。
Bの位置)であるならば、まずINを1にする(ステッ
プC5)。続いてステップC6に移行して、1つ前のX
において取入れたピークのXアドレスであるHの値と、
現在のXにおける第1、第2のピークのYアドレスであ
るPYI  CX)、PY2 (X)との、それぞれの
距離を比較する。そして、より遠い距離にある方のピー
ク (即ち、上述したような「左端」を持つ方のピーク
)のXアドレスをIIに入れ(ステップca、co、C
9)、この+1の値を高さデータとしてHD(X)に入
れる(ステップCl0)a また、ステップC4においてIN≠0 (即ちIN=1
)ならば、叩ち2つの有効なピークが連続して存在して
いる箇所の途中位置にXがあるのならば、ステップc7
で上記ステップc6と同一の判断をすることにより、1
つ前のピークにより近い距離にある方のピーク(I!I
]ち、上記「左端」を持つピークと連続している方のピ
ーク)のXアドレスをHに入れ(ステップc6.co、
C9)、この■■の値を高さデータとしてFTDCX〕
に入れる(ステップC+o)。
このような処理をX=XIEND (X方向終了アドレ
ス)となるまで順次繰返すことにより、各X位置におけ
る正しいピークに対応した高さデータHD(X)を得る
ことができる。このようにして得られた高さデータから
なる画1象を、第2図(dlに示す。この画像には、同
図fc)に存在したブルーミングの尾がきれいになくな
っており、どの部分も検知対象面の正′しい高さを表し
ている。
次に、プリント板全面について上記ピーク選択回路によ
って得られた画像から部品形状を正確に取出すための二
値化回路(不図示)について説明する。この回路では、
上記画像中の各高さデータの値が予め定められた所定範
囲にあるかどうかで、高さデータを二値化する。例えば
、高さデータが上記所定範囲にある時に「部品j  (
rlJ)、それ以外の時に「基板(背景)j(rOJ)
とする。
なお、上記所定範囲め設定は、例えば次のようにして行
う。まず、第8図(alに示すように、プリント板全面
Gこついて得られた高さ画像に対して、検査を行う部品
Qを含む領域をウィンドウWとして設定する。そして、
第8図(′b)に示すように、上記ウィンドウW内にお
ける高さのヒストグラムを作成する。このヒストグラム
を、高さの低い方から高い方へ順次注目していき、頻度
が予め定めた特定の値a以上でピークを持つ高さを求め
、この高さhaを基板高さとする。次に、部品の一般的
な高さの例えば2の値h+を上記基板高さhoに加えた
値hsを高さスライスレベルとし、このスライスレベル
hs以上を上記所定範囲とする。このように設定すれば
、基板の反りの形コを受けることなく、部品と基板とを
正確に区別できる。なお、上記値h1の代わりに部品の
許容高さ範囲を上記基板高さhoに加えるようにし、そ
の範囲内を上記所定範囲としてもよい。
最後に、不図示の判定回路により、上記のようにして得
られた二値化パターンを基準となる正常パターンと比較
し、これらの一致・不一致を見ることによって部品の実
装状態(例えば部品の「欠落」、「位置ずれ」、「高さ
不良」等の欠陥があるかどうか)を判定する。
本実施例によれば、上述したピーク検出回路およびピー
ク選択回路によってブルーミングによる2習が取り除か
れるので、二値化回路によって正確な部品形状が得られ
、従って正常パターンとの比較でも誤差が生じず、正確
な欠陥判定が可能になる。
なお、本実施例では、上述した画像処理は、第1図に示
したメモリ12等を用い、CPLl、、13の命令に基
づいて行われる。
また、各画像処理をソフトウェアによって実現する代わ
りに、ハードウェアで実現してもよく、このようにすれ
ば高速化が可能になり、よって実時間処理が実現できる
〔発明の効果〕
本発明によれば、プリン+−、tffl上の反射率の高
い部分であってもブルーミングのY響なく検出すること
ができ、しかもこのことによりスリットビームの光量を
ある程度大きく維持できるので、反射率の低い部分をも
ノイズに埋もれることなく正確に検出できる。従って、
誤差の非常に少ない高精度の検査が可能になる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例に係る光学系を示す構成図、 第2図ta+〜(d)は同実施例に係る画像処理に伴う
画像の推移を示す図、 第3図は同実施例に係るピーク検出処理を示すフローチ
ャート、 第4図(a)、 (blはそれぞれ第3図中の変数、記
号を説明するだめの図、 第5図は第3図中の変数R1,、S Eと輝度の推移と
の関係を示す図、 第6図は第311!lに示した処理によって検出される
ピークを1つの光切断画像全体について各位置−毎に1
qるための処理を示すフローチャート、第7図(alお
よびfblは同実施例に係るピーク選択処理を示すフロ
ーチャート、 第8図(n)、 (b)はそれぞれ同実施例に係る二値
1ヒ回路において高さ画1象を二値化する際の高さ範囲
を設定するためのウィンドウとヒストグラム処理を示す
図である。 1・・・半導体レーザ、 2・・・コリメートレンズ、 3・・・シリンドリカルレンズ、 6・・・ガルバノミラ−1 7・・・ラインセンサ。 特許出願人   富士通株式会社 本ノ番■の一大た例の講底 第1図 (dF−りiお(効(里後の眞イ敦 画イt、9悲理1てイ半つ1シイ東のイIネ針第2図 M3図中の北オスちよし1こ号の蓄υ臂第4図 λ(1崖) 第5図 ご−り忘画イ象仝イ本にフ(1フイ昂ろIこハの急理第
6図 ご−ク選択処理 第7図 (C1)ウイレドワ (bンヒストク゛ラム処凋見 高さ声Jイ叡の二車ヒ 第6図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)部品の実装されたプリント板上にスリット状の光ビ
    ームを照射する光照射手段(1、2、3)と、 該光照射手段による前記光ビームの照射によって前記プ
    リント板上に形成された光切断線をその高さ方向に順次
    ラインセンサ(7)で検知する光検知手段(5、6、7
    )と、 該光検知手段の検知によって得られた光切断画像から高
    さ方向の最大輝度を持つ第1のピークを検出し、該第1
    のピークの輝度がブルーミングレベルよりも大きな時に
    、前記第1のピークの次に大きくかつ所定の必要レベル
    よりも大きな輝度を持つ第2のピークを検出するピーク
    検出手段と、該ピーク検出手段によって前記第1のピー
    クのみが得られた時に8第1のピークにおける高さデー
    タを得て、一方前記ピーク検出手段によって前記第1お
    よび第2のピークが得られた時には、いずれか一方の正
    しいピークを選択し、該正しいピークにおける高さデー
    タを得るピーク選択手段と、該ピーク選択手段で得られ
    た高さデータが所定範囲にあるか否かで該高さデータを
    二値化する二値化手段と、 該二値化手段で得られた二値化データを基準の正常デー
    タと比較し、この比較結果に基づいて前記部品の実装状
    態を判定する判定手段とを具備したことを特徴とする実
    装部品検査装置。 2)前記光照射手段は、レーザ光を出力する半導体レー
    ザ(1)と、該半導体レーザで得られたレーザ光を平行
    光に変換するコリメートレンズ(2)と、該コリメート
    レンズで得られた平行光を前記スリット状の光ビームに
    変換するシリンドリカルレンズ(3)とから構成される
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の実装部品
    検査装置。 3)前記光検知手段は、前記光切断線からの反射光をガ
    ルバノミラー(6)で高さ方向に振りながら、この振ら
    れた反射光を順次前記ラインセンサ(7)で検知するこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項または第2項記載
    の実装部品検査装置。 4)前記ピーク検出手段は、最大輝度を持つ前記第1の
    ピークと、その次に大きな輝度を持つ他のピークとを予
    め検出しておき、前記第1のピークの輝度が前記ブルー
    ミングレベルよりも大きくかつ前記他のピークの輝度が
    前記所定の必要レベルよりも大きな時に前記他のピーク
    を前記第2のピークとして有効にし、それ以外の時には
    前記他のピークを無効にすることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項乃至第3項のいずれか1つに記載の実装部
    品検査装置。 5)前記ピーク検出手段は前記光切断画像を前記ライン
    センサの走査方向に沿った各位置毎に順次見ていくこと
    により前記ピークの検出を行い、該ピーク検出手段によ
    り前記第1および第2のピークが得られた時には、前記
    ピーク選択手段はその直前に得られたピークの高さと前
    記第1、第2のピークのそれぞれの高さを比較し、より
    離れた高さを持つ方のピークを前記正しいピークとして
    選択することを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第
    4項のいずれか1つに記載の実装部品検査装置。 6)前記ラインセンサはCCDラインセンサであること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第5項のいずれ
    か1つに記載の実装部品検査装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05343900A (ja) * 1992-06-10 1993-12-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd 回路基板実装状態検査装置
JPH0658725A (ja) * 1992-08-04 1994-03-04 Aisin Seiki Co Ltd 高輝度領域の属性検出方法
KR20170091721A (ko) * 2014-12-03 2017-08-09 케이엘에이-텐코 코포레이션 간섭측정을 이용한 웨이퍼 내의 임계 치수 문제 및 패턴 결함의 예측 및 제어

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