JPS6033434U - 拡散炉 - Google Patents

拡散炉

Info

Publication number
JPS6033434U
JPS6033434U JP12402983U JP12402983U JPS6033434U JP S6033434 U JPS6033434 U JP S6033434U JP 12402983 U JP12402983 U JP 12402983U JP 12402983 U JP12402983 U JP 12402983U JP S6033434 U JPS6033434 U JP S6033434U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
diffusion furnace
inert gas
exhaust pipe
heater
gas introduction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP12402983U
Other languages
English (en)
Inventor
正幸 橋本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Faurecia Clarion Electronics Co Ltd
Original Assignee
Clarion Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Clarion Co Ltd filed Critical Clarion Co Ltd
Priority to JP12402983U priority Critical patent/JPS6033434U/ja
Publication of JPS6033434U publication Critical patent/JPS6033434U/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は従来のP OC13をソースとする燐拡散炉の
縦断面図、第2図は本考案による拡散炉の縦断面図であ
る。 1・・・稀釈ガスの導入管、2・・・ソース・バブラ、
−3・・・ソースであるPOCl3.4・・・拡散担体
ガスの導入管、5・・・酸化用ガスの導入管、6・・・
反応管、7・・・排気管付きキャップ、7′・・・排気
管なしのキャップ、8.8’・・・排気管、9・・・ヒ
ータ、10・・・ウェファ、11・・・ウェファ・ボー
ト、12・・・未反応ガスの流れ、13・・・付着物、
14・・・高純度不活性ガス導入管、15・・・高純度
不活性ガスの流れを示す矢印。

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. (1)拡散炉の反応管のヒータに関して原料供給側とは
    反対側にヒータ側に排気管を、キャップ側に不活性ガス
    導入管を備えることを特徴とする拡散炉。
  2. (2)上記排気管と上記不活性ガス導入管の間の間隔が
    りエファ・ボートの長さよりも大きいことを特徴とする
    実用新案登録請求の範囲第1項記載の拡散炉。
JP12402983U 1983-08-10 1983-08-10 拡散炉 Pending JPS6033434U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12402983U JPS6033434U (ja) 1983-08-10 1983-08-10 拡散炉

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12402983U JPS6033434U (ja) 1983-08-10 1983-08-10 拡散炉

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6033434U true JPS6033434U (ja) 1985-03-07

Family

ID=30282889

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12402983U Pending JPS6033434U (ja) 1983-08-10 1983-08-10 拡散炉

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6033434U (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6033434U (ja) 拡散炉
JPS6111942U (ja) 水素燃焼酸化装置
JPS6114927U (ja) 保温器
JPS5895633U (ja) 水素燃焼プロセスチユ−ブ
JPS6139937U (ja) 拡散炉型気相成長装置
JPS6280326U (ja)
JPS59109777U (ja) 原料ガス供給装置
JPS6099451U (ja) 温水ヒ−タ
JPS6111773U (ja) 拡散炉
JPS58192330U (ja) 給湯暖房機
JPS5810532U (ja) 触媒燃焼式バ−ナ
JPS61190129U (ja)
JPS59119031U (ja) 拡散装置
JPS5981029U (ja) 炉芯管
JPS58137440U (ja) 燃料電池用リフオ−マ
JPS5913818U (ja) 触媒燃焼装置
JPS5824649U (ja) 液体加熱装置
JPS60112342U (ja) 雰囲気ガス発生装置
JPS5926238U (ja) Cvd装置
JPS5984837U (ja) 気相成長装置
JPS6021692U (ja) 溶解炉構造
JPS58158442U (ja) 熱処理炉
JPS60158730U (ja) 半導体製造装置
JPS6016757U (ja) ケミカル・ベイパ・デポジシヨン装置
JPS60176544U (ja) 薄膜形成装置