JPS6029940B2 - 積層型電子写真感光体及びその製造法 - Google Patents
積層型電子写真感光体及びその製造法Info
- Publication number
- JPS6029940B2 JPS6029940B2 JP10265677A JP10265677A JPS6029940B2 JP S6029940 B2 JPS6029940 B2 JP S6029940B2 JP 10265677 A JP10265677 A JP 10265677A JP 10265677 A JP10265677 A JP 10265677A JP S6029940 B2 JPS6029940 B2 JP S6029940B2
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- Japan
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- carrier
- photoreceptor
- particles
- electrophotographic photoreceptor
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はキャリア発生層及びキャリア移送層を有する積
層型電子写真感光体の改良及びその製造法に関する。
層型電子写真感光体の改良及びその製造法に関する。
導電性の支持体上にキャリア発生層及びキャリア移送層
を順次設けた積層型電子写真感光体が知られている。
を順次設けた積層型電子写真感光体が知られている。
このような感光体は一般に支持体上に、キャリア発生顔
料を主体とする組成物の溶液又は分散液を塗布乾燥した
後、キャリア移送物質の溶液を塗布乾燥して作成される
。しかしこの方法は塗布及び乾燥工程が夫々２回必要で
あり、しかも後の塗布工程で使用する溶剤には下層を溶
解しないものを選ぶ必要がある等の欠点がある。本発明
は予め磁性化処理をしたキャリア発生顔料と簡単な磁場
印加工程とを使用するだけで塗布及び乾燥工程を夫々１
回に節減せしめ、従ってまた溶剤の選択を考慮する必要
がない簡素化された積層型電子写真感光体及びその製造
法を提供するものである。本発明の積層型電子写真感光
体は導電性支持体上に、キャリア発生顔料及び磁性材を
主体とする粒子を含むキャリア発生層とキャリア移送物
質を含むキャリア移送層とを有する感光層を設けたこと
を特徴とするものである。
料を主体とする組成物の溶液又は分散液を塗布乾燥した
後、キャリア移送物質の溶液を塗布乾燥して作成される
。しかしこの方法は塗布及び乾燥工程が夫々２回必要で
あり、しかも後の塗布工程で使用する溶剤には下層を溶
解しないものを選ぶ必要がある等の欠点がある。本発明
は予め磁性化処理をしたキャリア発生顔料と簡単な磁場
印加工程とを使用するだけで塗布及び乾燥工程を夫々１
回に節減せしめ、従ってまた溶剤の選択を考慮する必要
がない簡素化された積層型電子写真感光体及びその製造
法を提供するものである。本発明の積層型電子写真感光
体は導電性支持体上に、キャリア発生顔料及び磁性材を
主体とする粒子を含むキャリア発生層とキャリア移送物
質を含むキャリア移送層とを有する感光層を設けたこと
を特徴とするものである。
また本発明の前記感光体の製造法は支持体上にキャリア
発生顔料及び磁性材料を主体とする粒子とキャリア移送
物質とを含む分散液を塗布し、ついで支持体側から磁場
を印加して塗布層中の前記粒子を支持体面に吸引沈着さ
せた後、乾燥することを特徴とするものである。本発明
で使用されるキャリア発生顔料及び磁性材料を主体とす
る粒子は例えばキャリア発生顔料と磁性材料と結着剤と
を加熱下に混練した後、粉砕するか、或いはこれらの成
分を適当な存在下で混練した後、蹟霧乾燥して作られる
。
発生顔料及び磁性材料を主体とする粒子とキャリア移送
物質とを含む分散液を塗布し、ついで支持体側から磁場
を印加して塗布層中の前記粒子を支持体面に吸引沈着さ
せた後、乾燥することを特徴とするものである。本発明
で使用されるキャリア発生顔料及び磁性材料を主体とす
る粒子は例えばキャリア発生顔料と磁性材料と結着剤と
を加熱下に混練した後、粉砕するか、或いはこれらの成
分を適当な存在下で混練した後、蹟霧乾燥して作られる
。
こうして得られる粒子はキャリア発生顔料と磁性材料と
が結着剤によって一体化されたものであるが、このよう
にキャリア発生顔料と磁性材料とが一体化できる方法で
あれば他のいかなる方法を用いてもよい。なお磁性材料
の使用量は感光体製造時に適用される磁場によって少く
とも支持体面に吸引沈着する程度の量が必要である。キ
ャリア発生顔料としては有機系のものではビスーベンゾ
イミダゾール、ベリレン、キナクリドン、インジゴ、フ
タロシアニン、ジスアゾ化合物、トリスアゾ化合物及び
それらの譲導体等が、また無機系のものではＳｅ，Ｃｄ
Ｓ等が挙げらる。
が結着剤によって一体化されたものであるが、このよう
にキャリア発生顔料と磁性材料とが一体化できる方法で
あれば他のいかなる方法を用いてもよい。なお磁性材料
の使用量は感光体製造時に適用される磁場によって少く
とも支持体面に吸引沈着する程度の量が必要である。キ
ャリア発生顔料としては有機系のものではビスーベンゾ
イミダゾール、ベリレン、キナクリドン、インジゴ、フ
タロシアニン、ジスアゾ化合物、トリスアゾ化合物及び
それらの譲導体等が、また無機系のものではＳｅ，Ｃｄ
Ｓ等が挙げらる。
磁性材料としてはｙ−Ｆｅ，０３，Ｆｅ３，０４或いは
Ｚｎ，Ｃｏ，Ｍｎ等を含むフェライトがある。結着剤と
しては塗布工程で使用される溶剤に溶解しないもの、例
えばポリアミド、ＰＶＡ、ゼラチン等が適当である。キ
ャリア移送物質としては電子供与性物質、例えばポリビ
ニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリビニルピレン及びそ
れらの議導体等の高分子有機半導体やオキサジアゾール
、トリフェニルアミン、カルバゾール、クリセン、アン
スラセン、アセチルピレン、チーブロモピレンなどの低
分子有機半導体、或いは少量のトリニトロフルオレノン
、無水フタル酸などの電子受容性物質とＰＶＫとの混合
物が挙げられる。
Ｚｎ，Ｃｏ，Ｍｎ等を含むフェライトがある。結着剤と
しては塗布工程で使用される溶剤に溶解しないもの、例
えばポリアミド、ＰＶＡ、ゼラチン等が適当である。キ
ャリア移送物質としては電子供与性物質、例えばポリビ
ニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリビニルピレン及びそ
れらの議導体等の高分子有機半導体やオキサジアゾール
、トリフェニルアミン、カルバゾール、クリセン、アン
スラセン、アセチルピレン、チーブロモピレンなどの低
分子有機半導体、或いは少量のトリニトロフルオレノン
、無水フタル酸などの電子受容性物質とＰＶＫとの混合
物が挙げられる。
溶剤としてはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等が適当で
ある。
ある。
なお支持体としては夫々導電処理した、プラスチックフ
ィルム、布、紙、ガラス板等である。
ィルム、布、紙、ガラス板等である。
塗布法はドクターブレード、ロールコ−ターなどを用い
る通常の方法でよく、また乾燥条件は５０ｏｏ〜１５０
００の範囲が通等である。磁場の印加は永久磁石、電磁
石等を用いて行なえばよく、この場合の磁力は５００〜
２０００ガウス程度である。以上のような本発明の製造
方法により、塗布及び乾燥工程は夫々１回だけで支持体
上にキャリア発生層及びキャリア移送層を順次設けた積
層型電子写真感光体が得られる。なおこうして得られた
感光体は通常の帯電−露光一現像を基本工程とする電子
写真法が適用される。以下に実施例を示す。
る通常の方法でよく、また乾燥条件は５０ｏｏ〜１５０
００の範囲が通等である。磁場の印加は永久磁石、電磁
石等を用いて行なえばよく、この場合の磁力は５００〜
２０００ガウス程度である。以上のような本発明の製造
方法により、塗布及び乾燥工程は夫々１回だけで支持体
上にキャリア発生層及びキャリア移送層を順次設けた積
層型電子写真感光体が得られる。なおこうして得られた
感光体は通常の帯電−露光一現像を基本工程とする電子
写真法が適用される。以下に実施例を示す。
実施例 １
１０夕とＦｅ３０４（戸田工業社製ＥＰＴ５００）５夕
とメチルビニルェーテル〜無水アレィン酸共重合体（米
国ガフ社製ＧＡＮＴＲＥＺＡＮ−１６９）５夕とイオン
交換水８０夕とをボールミル中で８時間分散した。
とメチルビニルェーテル〜無水アレィン酸共重合体（米
国ガフ社製ＧＡＮＴＲＥＺＡＮ−１６９）５夕とイオン
交換水８０夕とをボールミル中で８時間分散した。
次にこの分散液をデンマークニロ社製スプレードライヤ
ーを用いて入口温度１５０００、出口温度８５〜９００
０、噂霧圧４．５〜５ｋ９／地の条件下で頃霧乾燥する
ことによりキャリア発生顔料及び磁性材料を一体化した
粒子（粒径１〜２ｒ）を得た。次にこの粒子１夕をＰＶ
Ｋ５夕と混合し、ＴＨＦ４５夕を加えてＰＶＫを溶解し
た後、２０ＫＨＺの超音波分散機で３び分間分散し、均
一な分散液を得た。これをアルミニウム蒸着ポリエステ
ルフィルムのアルミニウム面にドクターブレードを用い
て塗布し、引続き１２００ガウスの榛磁石をフィルム面
側に接触して前記粒子をフィルム上に充分吸引沈着させ
た。次にこれを１００ＣＯの温度で５分間乾燥して積層
型電子写真感光体を得た。この感光体半減光量ＥＩ／２
及び１／１０露光量ＥＩ′１０を川口電機製ペーパーア
ナライザーで測定したところ、負帯電の場合「夫々５．
３ｕｘ・ｓｅｃ及び２２．３１雌．ｓｅｃであった。
ーを用いて入口温度１５０００、出口温度８５〜９００
０、噂霧圧４．５〜５ｋ９／地の条件下で頃霧乾燥する
ことによりキャリア発生顔料及び磁性材料を一体化した
粒子（粒径１〜２ｒ）を得た。次にこの粒子１夕をＰＶ
Ｋ５夕と混合し、ＴＨＦ４５夕を加えてＰＶＫを溶解し
た後、２０ＫＨＺの超音波分散機で３び分間分散し、均
一な分散液を得た。これをアルミニウム蒸着ポリエステ
ルフィルムのアルミニウム面にドクターブレードを用い
て塗布し、引続き１２００ガウスの榛磁石をフィルム面
側に接触して前記粒子をフィルム上に充分吸引沈着させ
た。次にこれを１００ＣＯの温度で５分間乾燥して積層
型電子写真感光体を得た。この感光体半減光量ＥＩ／２
及び１／１０露光量ＥＩ′１０を川口電機製ペーパーア
ナライザーで測定したところ、負帯電の場合「夫々５．
３ｕｘ・ｓｅｃ及び２２．３１雌．ｓｅｃであった。
実施例 ２
実施例１と同じトリスアゾ顔料１０夕と、水性磁性流体
（山陽色素ＫＫ製サンゾールフェロＷＦＥ−０２、主成
分は微粒子フェライト）を固形分で５夕と、ポリエチレ
ンェアルジョン（米国アライドケミカル社製６２鱗）を
固形分で５夕とを混合し、これに全固形分が２肌ｔ％に
なるようにイオン交換水を加えた後、ホモミキサーで縄
梓分散した。
（山陽色素ＫＫ製サンゾールフェロＷＦＥ−０２、主成
分は微粒子フェライト）を固形分で５夕と、ポリエチレ
ンェアルジョン（米国アライドケミカル社製６２鱗）を
固形分で５夕とを混合し、これに全固形分が２肌ｔ％に
なるようにイオン交換水を加えた後、ホモミキサーで縄
梓分散した。
この分散液を実施例１と同じ条件下で贋霧乾燥し粒径１
〜２ムの粒子を得た。以下この粒子を用いて実施例１と
同じ方法で感光体を作成し、ＥＩ／２及びＥＩノ１０を
測定し、同様な結果を得た。
〜２ムの粒子を得た。以下この粒子を用いて実施例１と
同じ方法で感光体を作成し、ＥＩ／２及びＥＩノ１０を
測定し、同様な結果を得た。
実施例 ３
実施例１と同じトリスアゾ顔料１０夕とＦｅ３０４５夕
とゼラチン（新田ゼラチン製の等露点８．５のもの）５
夕とイオン交換水８０夕とを混合し、２０ＫＨＺの超音
波分散機で２０分間分散した。
とゼラチン（新田ゼラチン製の等露点８．５のもの）５
夕とイオン交換水８０夕とを混合し、２０ＫＨＺの超音
波分散機で２０分間分散した。
これを実施例１と同じ噴霧条件下で贋霧乾燥し、粒径５
〜１０ｒの粒子を得た。次にこの粒子２０夕をＴＨＦ５
０羽中にコロイドミルを用いて分散し分散粒子の粒径が
０．１〜０．３仏の分散液とした。更にこの分散液を固
形分で１夕用いて実施例１の粒子に代えた他は実施例１
と同じ方法で感光体を作成し、ＥＩ′２及びＥＩ／１０
を測定したところ、同様な結果が得られた。
〜１０ｒの粒子を得た。次にこの粒子２０夕をＴＨＦ５
０羽中にコロイドミルを用いて分散し分散粒子の粒径が
０．１〜０．３仏の分散液とした。更にこの分散液を固
形分で１夕用いて実施例１の粒子に代えた他は実施例１
と同じ方法で感光体を作成し、ＥＩ′２及びＥＩ／１０
を測定したところ、同様な結果が得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 導電性支持体上に、キヤリア発生顔料及び磁性材を
主体とする粒子を含むキヤリア発生層とキヤリア移送物
質を含むキヤリア移送層を有する感光層を設けたことを
特徴とする積層型電子写真感光体。 ２ 導電性支持体上に、キヤリア発生顔料及び磁性材を
主体とする粒子とキヤリア移送物質とを含む分散液を塗
布し、ついで支持体側から磁場を印加して塗布層中の前
記粒子を支持体面に吸引沈着させた後、乾燥することを
特徴とする積層型電子写真感光体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10265677A JPS6029940B2 (ja) | 1977-08-29 | 1977-08-29 | 積層型電子写真感光体及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10265677A JPS6029940B2 (ja) | 1977-08-29 | 1977-08-29 | 積層型電子写真感光体及びその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5436938A JPS5436938A (en) | 1979-03-19 |
| JPS6029940B2 true JPS6029940B2 (ja) | 1985-07-13 |
Family
ID=14333270
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10265677A Expired JPS6029940B2 (ja) | 1977-08-29 | 1977-08-29 | 積層型電子写真感光体及びその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6029940B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62133035U (ja) * | 1986-02-14 | 1987-08-21 | ||
| JPS63147942U (ja) * | 1987-03-20 | 1988-09-29 | ||
| JPS646441U (ja) * | 1987-07-01 | 1989-01-13 | ||
| CN108611057A (zh) * | 2018-05-16 | 2018-10-02 | 西安思源学院 | 一种超硬度磁性磨粒及其制备方法 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3145613C2 (de) * | 1981-11-17 | 1984-06-07 | Automatik Apparate-Maschinenbau H. Hench Gmbh, 8754 Grossostheim | Vorrichtung zum Zuleiten von aus Düsen schmelzflüssig austretenden Kunststoffsträngen zu einer Granuliervorrichtung |
| DE3205052C2 (de) * | 1982-02-12 | 1984-10-31 | Automatik Apparate-Maschinenbau H. Hench Gmbh, 8754 Grossostheim | Vorrichtung zum Zuleiten von aus Düsen schmelzflüssig austretenden Kunststoffsträngen zu einer Granuliervorrichtung |
| JPS60191310U (ja) * | 1984-05-28 | 1985-12-18 | 徳山内燃機株式会社 | ストランドの細粒化装置 |
| DE3600567C1 (de) * | 1986-01-10 | 1987-05-07 | Automatik App Maschb Gmbh | Vorrichtung zum Granulieren von Straengen aus thermoplastischen Kunststoffen |
| DE4026337A1 (de) * | 1990-08-21 | 1992-02-27 | Hench Automatik App Masch | Vorrichtung zum abkuehlen und granulieren von schmelzfluessigen straengen |
| JPH0725126B2 (ja) * | 1992-02-07 | 1995-03-22 | 株式会社オーエム製作所 | 熱可塑性樹脂ストランドの冷却移送装置 |
| US5658601A (en) * | 1993-03-02 | 1997-08-19 | Kabushiki Kaisha Hoshi Plastic | Machine for cutting strand |
-
1977
- 1977-08-29 JP JP10265677A patent/JPS6029940B2/ja not_active Expired
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62133035U (ja) * | 1986-02-14 | 1987-08-21 | ||
| JPS63147942U (ja) * | 1987-03-20 | 1988-09-29 | ||
| JPS646441U (ja) * | 1987-07-01 | 1989-01-13 | ||
| CN108611057A (zh) * | 2018-05-16 | 2018-10-02 | 西安思源学院 | 一种超硬度磁性磨粒及其制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5436938A (en) | 1979-03-19 |
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