JPS6026227B2 - 露光装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は静電写真複写装置、さらに詳しくは端部溶明す
なわちエッジフェードアウトを与える原画蟹光袋直に関
する。

技も通常の型の静電写真複写装置は、複写されるべき原
画を支持する透明なプラチンから成る。

往復照射源と第１ミラーとを含む走査光学装置は、一様
な静電荷を有する感光面上に光パターンを投影し、それ
によって光パターンに従って感光面を放電してその結果
その面上に静亀潜像が残り、この潜像は、通常トナ−と
して知られる検電性現像粒子による現像によって順次可
視化される。多くの場合たとえば従来技術の複写機でな
いとしても、照射源の相対位置とともに厚い原画の端部
は、原画の端部に沿って階領域を形成し、その階領域に
よって複写基体上に好ましくない階端部が生じる。

さらに、複写紙の大きさが溶像を含む感光部材の領域に
相当し、かつ複写紙と像とが適当に整合されるならば、
端部の現像として知られる現象は生じない。

しかしながら、前記のような場合でないことはいまいま
あり、端部領域が順次転写によって現像されて好ましく
ないコピーを生じる。前記端部現像問題を解決するため
に多数の方法が設けられ、たとえば、複写機のプラテン
カバ−の下側に米国特許第３６４２３７１号明細書に記
載のような拡散反射器が設けられている。この装置によ
って、原画を越えて延びる反射器の各部は嫁領域に対応
した所定領域を越えて感光部材上を反射照射するよう作
動してそれによってその領域が現像されないようにその
部分を放電される。米国特許第３７概７３７号明細書に
記載の総部溶暁すなわちエッジフェードアウトを与える
別の装置はプラテンカバーの一部を形成する照射装置か
ら成り、それによって照射源を原画の端部を越えるよう
に配置して像形成領域に対応した領域に隣接する感光部
材を放電させるようになっている。

本発明の主要な目的は、静電写真複写装置に対して改良
された走査光学装置を与えることである。簡単に言えば
、本発明の目的は複写シート上に端部を現像しない露光
装置を設けることによって達成される。

種々の状態に応じて、設けられた露光装置は端部溶明す
なわちエッジフェードアウトを有効にする手段から成り
、そのフェードアウトは原画から反射された光パターン
に対応する所定領域に隣接した感光部材を原画を光で縁
取りするように放電することによって形成される。原画
が黒い緑を有する場合には、所定領域は感光体上の像領
域と対応する。このために、前記静電写真複写機のブラ
テンカバーは複数の角度づけられた面（すなわち、複写
されるべき原画を支持する原画プラテンに関して所定の
角度に配置された）から成る正反射器を包むように構成
される。

加えて、その角度をもって配置された複数の面は、直線
状に延び、そして交互に平行であるが隣接した面は角度
を形成するように配置されている。動作にあたって、プ
ラテンカバーが閉じられると、面のいくつかは原画の部
分を越えて延びてその面上に走査露光装置からの照射光
が当たるように位置決めされる。

この照射光は複写機の光路に沿って反射されて順次感光
部材上に当たり、それによって端部領域を放電させる。
面が形成された反射器は本質的に知られており、たとえ
ば米国特許第３２９３斑２言明細書は大きな径と傾斜を
もつ円すし、状の正反射面から成る非対称反射支持段を
開示している。

しかしながら、この正反射面の円すし、状装鷹は、ここ
で意図される型のフェードアワト装置の構造体を用いる
のを妨げる。その上、連続した面は大きな額斜を有する
ので、この反射器は走査光学型の露光装置に適していな
い。静電写真複写装置とともに用いられる正反射器に関
して、米国特許第３９１４０４ｙ号には興味がもたれる
。

この特許は、感光体において直接光を反射するのを避け
るようにプラテンに直角な方向に対してある角度で光を
反射するように設計され、像形成面すなわち感光体にお
いて一定の放射照度を維持するように用いられる正反射
面を開示する。本発明の他の目的及び利点は、以下の詳
細な説明及び図面を参照することによって明らかになる
であろう。図面、特に第１図を参照すれば、透明なプラ
テン１０が複写されるべき原画１１を支持するために設
けられている。

実線及び点線で示されるその最も左側及び最も右側の位
置にそれぞれ図示される２つの可動ミラー１２及び１３
を含む走査ミラー装置が設けられている。ミラー１３は
、走査中はミラー１２の速度よりも４・さな速度で移動
して原画１１としンズ１４との間の光学距離を一定に維
持するようになっている。ミラーに対して平行にプラテ
ンを横切って延びている管状ランプ１５と反射器１６は
ミラー１２と同期して移動する。ランプ１５及び反射器
１６は、走査中プラテン１０を介して原画１１を照射す
るための照射手段として設けられている。プラテン１０
からしンズ１４まで延びている光路は、レンズを越えて
延び、ミラー１７及び１８によって順次光パターンを反
射し、その光パターンは結局感光体ドラム１９上に当た
る。

光学スリット（図示せず）が、カバープレート（図示せ
ず）に設けられてよい。このスリットは、周知の概念に
従って像の質を保護するために設けられて像領域の範囲
を定める。複写機のハウジング（図示せず）にヒンジ手
段で取付けられるようになっているブラテンカバー２２
は、プラテソ１０上に設けられかつその一体となった部
分として反射器構造体２４を有している。

作動にあたって、原画１１は（第１図に図示されるよう
に）ミラー１２及び１３を左から右へ稀引することによ
って走査され、それによって原画から反射されたパター
ンを、ミラー１２及び１３の運動と同期して回転する感
光体１９上に転写する。

この光パターンは適当な静電的帯電構造体（図示せず）
によって前もって一様帯電された感光体１９上の所定領
域に当たる。周知の方法で、一様帯電領域はその上に当
たる光パターンに従って放電させられ、それによって感
光体上に静函潜像を残してその潜像は通常トナーとして
知られる検電性現像粒子で現像することによって可視化
される。第２図に図示されるような従釆技術の照射装置
では、時像２６は、原画の様部の厚さと照射源（たとえ
ばランプ１５）の相対位置とによってひき起される。

この階像は原画の端部と同一の広がりを有する階端部を
構成し、反射器２４がなければ、階像は光学装置を介し
て転写され、それによって感光体上に暗端部が現像され
る。言換えれば、この端部に対応する感光体上に領域ま
たは線は放電されず、したがって現像されて複写紙に転
写される。第３図において点線で図示された放射線１５
′は原画の階端部すなわち影を溶暁すなわちフェードア
ウトするのに必要な放射照度を与える。ミラー２８はラ
ンプ１５からの放射線をレンズ１４の開口内へ向け直す
よう位置決めされ得る。ミラー２８はランプ１５の運動
と同期してプラテン１０に関して移動されなければなら
ない。明らかに、これは実際的ではない。従って、反射
器機造体２４にはプラテンとそれによって支持される原
画との上に配置される一連の小さなミラーすなわち面３
０及び３２（第１図及び第５図を参照）が設けられ、プ
ラテンに沿った任意走査点において、ランプの関口部分
からの光は必ずレンズの関口を通る。ランプの放射光線
がレンズの関口内へ反射される角度は一定に維持されて
いるから、すべてのミラーすなわち面の角度は同じであ
る。第４図に図示されるように、面の角度のま次の公式
に従って決定される。８ｉＱｉＱ′＝８／２＝（〇．十
０２）／４ただし、８＝入射光線と反射光線のなす角 Ｑ＝入射角 Ｑ′＝反射角 ０＝面の角 とすれば Ｑ＝Ｑ′＝０＝３／２ ８＝（ぐ，十○２）／２ ８＝（ぐ，十◇２）／４ である。

ここで、Ｊ・＝エッジフェードアウト反射器の所望の主
平面と光軸との交点までのラ ン プ閉口からの第１境界光線 ◇２ ＝エッジフェードアウト反射器の所望 の主平面と光軸との交点までのラ ン プ開口からの第２境界光線、 である。

ランプ１５と反射器１６が第１図に図示されるように原
画の右側すなわち端部に隣接して配置されるとき、対向
した反射器の放射線を反射する面３２の角度は面３０の
角度を決定するのと同じ方法で決定される。

中心光線（第４図）は、面３０すなわち反射器の表面に
おける入射点から眺められるランプの関口３３の中心に
ある。

中心光線と光藤との間の角度は、Ｂ＝（０，十ぐ２）／
２である。エッジフェードアウト反射器２４の主平面は
物体平面に対して平行でかつ光軸に対して垂直であるの
で面の角は入射角及び反射角に等しい。これは、光軸に
沿って中心光線を反射してそれにより面の角０が上記公
式に等しくなるのが望ましい場所に保持される。反射器
機造体２４は、例として図面に図示されるように実質的
に平面の上部領域３４と多面の下部領域３６とを有する
シート状物質から成るのが好ましい。反射器構造体は、
ゼネラルェレクトリツクカンパニ−（Ｑｎｅ則Ｅｌｅｃ
ｔｒｉｃＣｏｍｐａｎｙ）からしキサンポリカルボネー
トー０１０７（Ｌｅ滋ｎＰｏｌｙｃａｒかｎａｔｅ−０
１０７）の商標名で市販されている熱可塑性炭素結合ポ
リマーから作られることが好ましい。これとは別に、メ
チルメタクリレート、あるいは、多面の正反射面を得る
よう処理され得る他の物質が用いられてよい。多面領域
３６は第１組の平行な面と第２組の平行な面とから成り
、それらの面は隣接した１対の面３０と３２とが、その
間に８ランプ十８対向した反射器＝１８０ｏとなる角度
を形成すぐように配置されている。この面は、またプラ
テン１０のある藤に対してほぼ直角に延びるように直線
上に配置されるようになっている。面の対３０と３２の
空間的な頻度数は、光学装置の分解館の１／２倍よりも
大きいことが好ましい。面３０及び３２の表面は３８で
示されるように被覆され、それによってその面は５９０
ナノメータの波長の光を０．９０の正反射度で反射する
ようにされる。

表面を被覆する好ましい方法では、アルミニウムがその
上に真空蒸着される。前記反射器機造体２４は、感光体
の階像２６に応答する領域を現像するのを防止するよう
になっている。

このために、第５図に図示されるように反射器機造体２
４はランプ１５と反射器１６からの照射光を反射し、そ
れによって、後述するような方法で感光体のその領域を
放電させる。第５図に図示されるように、ランプ１５と
反射器１６とが原画１０の先端（すなわち第１図に図示
されるようなプラテン１１の左側）に対向すると、ラン
プが照射源として作動する。

原画の先端に隣接した面３０は放射線（すなわちランプ
Ｉ５）と共倒して階端部が光学装置を介して転写される
のを防止する。内側及び外側の端部（すなわち原画の上
面と下面）における放射線強度は、先端部及び後輪部に
おける放射線強度と同じである。

従って、反射器は、同様にコピーの上部及び下部に沿っ
て端部を現像しないように働く。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明を表わす光学走査露光装置の概略図で
ある。 第２図は、従来技術の露光装置の概略図である。第３図
は、本発明の一部を形成するエッジフェードアウト反射
器の基礎をなす理論を示す概略図である。第４図は、エ
ッジフェードアウト反射器の面の角度を決定するための
公式に用いられる照射源及び反射源の概略図である。第
５図は本発明によるエッジフェードアウト反射器に組込
む露光装置の概略図である。１０……プラテン、１１…
…原画、１２，１３，１７，１８……ミフー、１４……
レンズ、１５……ランプ、１６……反射器、１９……ド
ラム、２２・・・・・・ブラテンカバー、２４・・・・
・・反射器機造体、２６・・・・・・階像、２８・・・
・・・ミフー、３３・・・ランプの関口。 ｒノＧ ′ ｒ／６．２ 「ノＧ．〆 ｈ 葦 ‘ソＧ５

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 透明な支持部材によつて固定位置に保持された原画
   から反射した光パターンを感光体の面で終端する所定器
   に沿つて投影し、光パターンが対応する感光体の一様帯
   電部分を放電してその上に静電潜像を残すようになつた
   露光装置において、前記透明な支持部材を介して前記原
   画を照射し、前記原画を越えて延びる支持部材の部分も
   照射する光源と、前記光源と反対側の、原画の側に隣接
   して配置され、前記原画を越えて延びる光源からの照射
   光を前記所定光路に沿つて反射し、前記光パターンが当
   つた領域に隣接した感光体の領域が放電されるようにな
   つた正反射器とから成り、前記正反射器は、複数対の平
   らな反射面から成り、その反射面は、それぞれ前記透明
   な支持部材に関して所定の角度に配置され、一つの対の
   正反射器の一方の面は、他方の対の正反射器の各対応す
   る面に平行であり、前記一方の対の反射器の他方の面は
   前記他方の対の反射器の各対応する面に平行であること
   を特徴とする露光装置。 ２ 前記照射源はランプと反射器とから成り、ランプは
   前記原画の１端に隣接する少なくとも１つの平面と共働
   し、反射器は前記原画の反対端に隣接して配置された少
   なくとも１つの平面と共働し、前記一端と共働する少な
   くとも１つの平面と、前記反対端部に共働する少なくと
   も１つの平面とは相互に平行でないことを特徴とする特
   許請求の範囲第１項による装置。