JPS6026202B2 - 透明絶縁被膜及び透明絶縁被膜形成用ペ−スト - Google Patents
透明絶縁被膜及び透明絶縁被膜形成用ペ−ストInfo
- Publication number
- JPS6026202B2 JPS6026202B2 JP13395080A JP13395080A JPS6026202B2 JP S6026202 B2 JPS6026202 B2 JP S6026202B2 JP 13395080 A JP13395080 A JP 13395080A JP 13395080 A JP13395080 A JP 13395080A JP S6026202 B2 JPS6026202 B2 JP S6026202B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- paste
- insulation coating
- transparent insulation
- group
- organic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133345—Insulating layers
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、液晶ル等の透明絶縁被膜に係り、特に液晶セ
ルの下部基板等よりのアルカリイオン溶出防止膜、基板
上に形成された電極層と、液晶層とを分離する絶縁膜、
ＴＮ型液晶表示装置等における液晶配向膜などとして用
いられる透明絶縁被膜及び透明絶縁被膜形成用ペースト
に関する。
ルの下部基板等よりのアルカリイオン溶出防止膜、基板
上に形成された電極層と、液晶層とを分離する絶縁膜、
ＴＮ型液晶表示装置等における液晶配向膜などとして用
いられる透明絶縁被膜及び透明絶縁被膜形成用ペースト
に関する。
従来、この種の透明絶縁被膜は、Ｓｉ０２を主成分とし
た膜で、真空黍着法、浸簿法などにより形成てし、た。
しかし、真空蒸着法は、生産性が悪く、設備も大型にな
りがちであった。又、浸糟法は、不必要な箇所にも被膜
が形成され、パターンの微細化に対応できない欠点があ
った。これらの欠点を解消するため、スクリーン印刷法
により基板上等にペーストを所望形状に印刷し孫成して
透明絶縁被膜を形成する方法が試みられているが、形成
された被膜は、もろく、ポーラスであることが多く、被
膜自体の特性は、真空蒸着法、浸簿法により形成された
被膜より劣っていた。
た膜で、真空黍着法、浸簿法などにより形成てし、た。
しかし、真空蒸着法は、生産性が悪く、設備も大型にな
りがちであった。又、浸糟法は、不必要な箇所にも被膜
が形成され、パターンの微細化に対応できない欠点があ
った。これらの欠点を解消するため、スクリーン印刷法
により基板上等にペーストを所望形状に印刷し孫成して
透明絶縁被膜を形成する方法が試みられているが、形成
された被膜は、もろく、ポーラスであることが多く、被
膜自体の特性は、真空蒸着法、浸簿法により形成された
被膜より劣っていた。
本発明は、従来の欠点を解消し、透明度良好、被膜強度
大で繊密な透明絶縁膜を提供する目的でなされたもので
ある。
大で繊密な透明絶縁膜を提供する目的でなされたもので
ある。
本発明の特徴は、第１に、焼成により成される透明絶縁
被膜組成物としてアセチルアセトンの酸素原子がアルミ
ニウム原子に直接結合したトリスアセチレンアセテート
アルミニウムと、有機化合物中の酸素原子が珪素原子に
夏接結合した一般式：（ＲＯ）ぶｉ−ＣＨ＝ＣＨ２（式
中、ＲはＣＨ３０ＣＨ２ＣＱ−基又はＣ２日５０ＣＨ２
ＣＨ２一基を表わす）で表わされる有機珪素化合物とを
焼成して得られるＡＩ２０３−Ｓｉ０２系酸化物を選択
したことにある。
被膜組成物としてアセチルアセトンの酸素原子がアルミ
ニウム原子に直接結合したトリスアセチレンアセテート
アルミニウムと、有機化合物中の酸素原子が珪素原子に
夏接結合した一般式：（ＲＯ）ぶｉ−ＣＨ＝ＣＨ２（式
中、ＲはＣＨ３０ＣＨ２ＣＱ−基又はＣ２日５０ＣＨ２
ＣＨ２一基を表わす）で表わされる有機珪素化合物とを
焼成して得られるＡＩ２０３−Ｓｉ０２系酸化物を選択
したことにある。
ＡＩ２Ｑ−Ｓｉ０２系酸化物絶縁被膜は、強度大で、繊
密で透明度良好である。さらに、本発明の第２の特徴は
、透明絶縁被膜を形成するためのペーストの主成分とし
て、アチルアセトンの酸素原子がアルミニウム原子に直
接結合したトリスアセチルアセトナーアルミニウム（略
号Ａ】（ａｃａｃ）３と、有機化合物中の酸素原子が珪
素原子に直接結合した一般式：Ｒ３Ｓｉ−ＣＨ＝Ｃ比（
式中、ＲはＣはＯＣＨ２Ｃ比０−基又はＣ２日５０ＣＨ
２ＣＨ２０−基を表わす）で表わされる機桂素化合物と
の混合物を使用したことである。透明絶縁被膜をスクリ
−ン印刷法にて形成可能ならしめるには、アルミニウム
化合物、珪素化合物が、高沸点有機溶媒に、安定に溶解
する必要があり、かつ、４５０〜７０ぴ０の熱処理中に
完全に酸化物となるものでなけるぱならない。これらの
条件を満足するアルミニウム化合物として、酸素の直接
結合した有機アルミニウムを、桂素化合物として、酸素
の直接結合した有機珪素化合物を選択して、ペースト化
に成功した。トリスアセチルアセトナートアルミニウム
と上記有機珪素化合物との混合割合は、トリスアセチル
アセトナートアルミニゥムが有機珪素化合物に対して１
：１の割合より大きい比率となるようにする。なお、上
記有機珪素化合物としては、ピニルトリス（２ーメトキ
シェトキシ）シラン（略号Ｖ−５０００）が特に好まし
い。透明絶縁被膜形成用ペーストは、有機アルミニウム
化合物と有機珪素化合物との混合物を、有機溶媒に溶解
し、さらに粘性剤を添加混合して作成するが、有機溶媒
としては、有機アルミニウム化合物び有機桂素化合物に
対して反応性が乏しく沸点がスクリーン印刷中の溶媒の
飛散による粘度変化が少なく、力脂熟によって最終に溶
媒を完全に飛散させられる。
密で透明度良好である。さらに、本発明の第２の特徴は
、透明絶縁被膜を形成するためのペーストの主成分とし
て、アチルアセトンの酸素原子がアルミニウム原子に直
接結合したトリスアセチルアセトナーアルミニウム（略
号Ａ】（ａｃａｃ）３と、有機化合物中の酸素原子が珪
素原子に直接結合した一般式：Ｒ３Ｓｉ−ＣＨ＝Ｃ比（
式中、ＲはＣはＯＣＨ２Ｃ比０−基又はＣ２日５０ＣＨ
２ＣＨ２０−基を表わす）で表わされる機桂素化合物と
の混合物を使用したことである。透明絶縁被膜をスクリ
−ン印刷法にて形成可能ならしめるには、アルミニウム
化合物、珪素化合物が、高沸点有機溶媒に、安定に溶解
する必要があり、かつ、４５０〜７０ぴ０の熱処理中に
完全に酸化物となるものでなけるぱならない。これらの
条件を満足するアルミニウム化合物として、酸素の直接
結合した有機アルミニウムを、桂素化合物として、酸素
の直接結合した有機珪素化合物を選択して、ペースト化
に成功した。トリスアセチルアセトナートアルミニウム
と上記有機珪素化合物との混合割合は、トリスアセチル
アセトナートアルミニゥムが有機珪素化合物に対して１
：１の割合より大きい比率となるようにする。なお、上
記有機珪素化合物としては、ピニルトリス（２ーメトキ
シェトキシ）シラン（略号Ｖ−５０００）が特に好まし
い。透明絶縁被膜形成用ペーストは、有機アルミニウム
化合物と有機珪素化合物との混合物を、有機溶媒に溶解
し、さらに粘性剤を添加混合して作成するが、有機溶媒
としては、有機アルミニウム化合物び有機桂素化合物に
対して反応性が乏しく沸点がスクリーン印刷中の溶媒の
飛散による粘度変化が少なく、力脂熟によって最終に溶
媒を完全に飛散させられる。
１８０〜３５０℃の温度範囲内にあるものは好ましい。
ペンジルアルコール、ジプロピレングリコール、２エチ
ルヘキシルアルコール、等の高沸点アルコール類、ベン
ジルアセテート、力ルビトールアセテート等の高潔点ェ
ステル類、ブチルセロソルブ等の高沸点エーテル類など
の高沸点有機溶媒が適用でき、二種類以上の高沸溶媒を
混合して用いてもよい。又、粘性剤としては、前記有機
溶媒に対して溶解館がよく、熱解性の良いものがいい。
難燃性のものは高温で焼成しないと残秀が残り、被膜の
膜質を劣化させるからである。従って粘性剤としては、
ペーストの焼成温度以下で完全に熱分解し、残澄を残ら
せない、エチルセルロース、ニトロセルローズ等のセル
ローズ系粘剤が薄できる。なお、粘性剤の添加剤は、上
記有機化合物の混合物に対し、同等あいはそれより多い
重量部を持つように添加する。また、ペースト全体重量
に対し有機金属化合物の混合物が重量比で２０％以下に
なるようにこの混合部を配合する。本発明ペーストを、
スクリーン印刷法により、絶縁基板上に印刷、焼成して
得られる絶縁被膜は、繊密で、被膜強度大、かつ電気絶
縁性、透明度共に良好であった。
ルヘキシルアルコール、等の高沸点アルコール類、ベン
ジルアセテート、力ルビトールアセテート等の高潔点ェ
ステル類、ブチルセロソルブ等の高沸点エーテル類など
の高沸点有機溶媒が適用でき、二種類以上の高沸溶媒を
混合して用いてもよい。又、粘性剤としては、前記有機
溶媒に対して溶解館がよく、熱解性の良いものがいい。
難燃性のものは高温で焼成しないと残秀が残り、被膜の
膜質を劣化させるからである。従って粘性剤としては、
ペーストの焼成温度以下で完全に熱分解し、残澄を残ら
せない、エチルセルロース、ニトロセルローズ等のセル
ローズ系粘剤が薄できる。なお、粘性剤の添加剤は、上
記有機化合物の混合物に対し、同等あいはそれより多い
重量部を持つように添加する。また、ペースト全体重量
に対し有機金属化合物の混合物が重量比で２０％以下に
なるようにこの混合部を配合する。本発明ペーストを、
スクリーン印刷法により、絶縁基板上に印刷、焼成して
得られる絶縁被膜は、繊密で、被膜強度大、かつ電気絶
縁性、透明度共に良好であった。
濃厚は厚くなりすぎるとクラップが生じまた薄くなりす
ぎると抵抗が減少することから７００〜９００Ａ内であ
ることが好ましい。以下、実施例にもとづいて、さらに
詳しく本発明を説明する。実施例 １ 有機アルミニウム化合物と有機珪素化合物の混合物（金
属部）の全重量を５Ｍ％と固定し、有機アルミニウム化
合物、有機珪素化合物の混合比を変化させ、種々べート
を作成し、特性比較を行った。
ぎると抵抗が減少することから７００〜９００Ａ内であ
ることが好ましい。以下、実施例にもとづいて、さらに
詳しく本発明を説明する。実施例 １ 有機アルミニウム化合物と有機珪素化合物の混合物（金
属部）の全重量を５Ｍ％と固定し、有機アルミニウム化
合物、有機珪素化合物の混合比を変化させ、種々べート
を作成し、特性比較を行った。
ペースト組成比は、次の通りである。
金属部 （Ｎ（ａｃａｃ）３十Ｖ５０００） ５ｗ
ｔ％溶媒部２ーエチルヘキサノール ５９ｗｔ
％ペンジルアルコール ２５ｗｔ％粘性
剤エチルセルローズＮ２００ １１ｗｔ％作成
した各種ペーストを、ステン２５０メッュレジスト厚ｌ
ｏＡｍのスクリーン版で、ソーダガラス基板上に印刷し
た後、１５０℃で１８分予備乾燥し５００℃で３０分暁
成し、得られた被膜の特性を比較したのが第１表である
。
ｔ％溶媒部２ーエチルヘキサノール ５９ｗｔ
％ペンジルアルコール ２５ｗｔ％粘性
剤エチルセルローズＮ２００ １１ｗｔ％作成
した各種ペーストを、ステン２５０メッュレジスト厚ｌ
ｏＡｍのスクリーン版で、ソーダガラス基板上に印刷し
た後、１５０℃で１８分予備乾燥し５００℃で３０分暁
成し、得られた被膜の特性を比較したのが第１表である
。
表中の試験項副ま、通常行われている試験方法により行
った。第１表 第１表中の○、△、×の基準は下記の通りである。
った。第１表 第１表中の○、△、×の基準は下記の通りである。
密着強度とは、ガラス基板への密着度である。
表面抵抗の単位は、ＭＱ／口である。第１表からわかる
ように、有機アルミニウム化合物の添加量の多い方が、
形成された被膜の表面抵抗、密着強度等の特性が良くな
る鏡向にある。
ように、有機アルミニウム化合物の添加量の多い方が、
形成された被膜の表面抵抗、密着強度等の特性が良くな
る鏡向にある。
なお、形成された被膜厚は、７００〜９００Ａであった
。実施例 ２ 有機アルミニウム化合物と有機珪素化合物の混合比を３
：１と固定し、金属部全重量を変化させて、種々ペース
トを作成した。
。実施例 ２ 有機アルミニウム化合物と有機珪素化合物の混合比を３
：１と固定し、金属部全重量を変化させて、種々ペース
トを作成した。
ペースト組成比は、次の通りである。金属部（山（ａｃ
ａｃ）３：Ｖ−５０００＝３：１）Ｘｗｔ％溶媒部 ２ーエチルヘキサノール（８９一Ｘ）×７０／１００
ｗｔ％ペンジルアルコ
ール（８９一Ｘ）×３０／１００ｗｔ％粘性剤 エチルセルローズＮ２００ １１ｗｔ％作成し
た各ペーストを、実施例１と同様にして、被膜を形成し
、特性比較を行った結果が、第２表である。
ａｃ）３：Ｖ−５０００＝３：１）Ｘｗｔ％溶媒部 ２ーエチルヘキサノール（８９一Ｘ）×７０／１００
ｗｔ％ペンジルアルコ
ール（８９一Ｘ）×３０／１００ｗｔ％粘性剤 エチルセルローズＮ２００ １１ｗｔ％作成し
た各ペーストを、実施例１と同様にして、被膜を形成し
、特性比較を行った結果が、第２表である。
表中の謙中の謎項目は、通常行われている試験方法によ
り行った。第２表第２表中の○、△、×の基準は印刷性
、膜状態、透明度、密着強度の項目については第１表と
同じである。
り行った。第２表第２表中の○、△、×の基準は印刷性
、膜状態、透明度、密着強度の項目については第１表と
同じである。
ただし透明度の◎は９５％以上を示す。また、ペースト
についての○、△、×の基準は下記の通りである。密着
強度とは、ガラス基板への密着度である。
についての○、△、×の基準は下記の通りである。密着
強度とは、ガラス基板への密着度である。
表面抵抗単位は、ＭＱ／口である。第２表よくわかるよ
うに、金属部量の増加し、２仇九％以上になると、酸化
物の結晶化が始まり、３触れ％を越すと、被膜形成が困
難となる。
うに、金属部量の増加し、２仇九％以上になると、酸化
物の結晶化が始まり、３触れ％を越すと、被膜形成が困
難となる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ アセチルアセトンの酸素原子がアルミニウム原子に
直接結合したトリスアセチルアセトナートアルミニウム
と、有機化合物中の素原子が硅素原子に直接結合した一
般式：Ｒ＿３Ｓｉ−ＣＨ＝ＣＨ＿２（式中、ＲはＣＨ＿
３ＯＣＨ＿２ＣＨ＿２−基又はＣ＿２Ｈ＿５ＯＣＨ＿２
ＣＨ＿２Ｏ−基を表わす）で表わされる有機硅素化合物
を焼成して得られるＡｌ＿２Ｏ＿３−ＳｉＯ＿２系酸化
物を組成物とした透明絶縁被膜。 ２ アセチルアセトンの酸素原子がアルミニウム原子に
直接結合したトリスアセチルアセトナートアルミニウム
と、有機化合物中の酸素原子が硅素原子に直接結合した
一般式：Ｒ＿３Ｓｉ−ＣＨ＝ＣＨ＿２（式中、ＲはＣＨ
＿３ＯＣＨ＿２ＣＨ＿２Ｏ−基又ははＣ＿２Ｈ＿５ＯＣ
Ｈ＿２ＣＨ＿２Ｏ−基を表わす）で表わされる有機硅素
化合物との混合物を有機溶媒に溶解し、さらにセルロー
ズ系粘性剤を添加混合して得られる透明絶縁覆形成用ペ
ースト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13395080A JPS6026202B2 (ja) | 1980-09-26 | 1980-09-26 | 透明絶縁被膜及び透明絶縁被膜形成用ペ−スト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13395080A JPS6026202B2 (ja) | 1980-09-26 | 1980-09-26 | 透明絶縁被膜及び透明絶縁被膜形成用ペ−スト |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5758123A JPS5758123A (en) | 1982-04-07 |
| JPS6026202B2 true JPS6026202B2 (ja) | 1985-06-22 |
Family
ID=15116854
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13395080A Expired JPS6026202B2 (ja) | 1980-09-26 | 1980-09-26 | 透明絶縁被膜及び透明絶縁被膜形成用ペ−スト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6026202B2 (ja) |
-
1980
- 1980-09-26 JP JP13395080A patent/JPS6026202B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5758123A (en) | 1982-04-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6406646B1 (en) | Resistive paste for the formation of electrically heat-generating thick film | |
| US5100702A (en) | Thin platinum film-forming composition | |
| JPH01224240A (ja) | 誘電体組成物 | |
| JPS645629B2 (ja) | ||
| JP3338966B2 (ja) | 透明導電膜形成用塗布液 | |
| JPS6026202B2 (ja) | 透明絶縁被膜及び透明絶縁被膜形成用ペ−スト | |
| JPS6159351B2 (ja) | ||
| JPS635742B2 (ja) | ||
| JPS6350385B2 (ja) | ||
| CN101723597B (zh) | 用于形成电介质层的玻璃粉、浆料组合物、应用其的显示器及包含该显示器的电器 | |
| JPS6159352B2 (ja) | ||
| US4545928A (en) | Paste for forming a transparent, electrically conductive film | |
| US4780248A (en) | Thick film electronic materials | |
| JPH0225490B2 (ja) | ||
| JPS61215668A (ja) | 透明絶縁被膜形成用ペースト | |
| JPS6310844B2 (ja) | ||
| JPH0277485A (ja) | 封入用組成物 | |
| JPH0144788B2 (ja) | ||
| JPH0656461A (ja) | ガラスペースト組成物 | |
| JPS6116130B2 (ja) | ||
| JP3246128B2 (ja) | 半導体または液晶デバイスのコーティング液組成物 | |
| JPS6310843B2 (ja) | ||
| JPS5927961A (ja) | 透明被膜形成用ペ−ストおよび透明被膜 | |
| JPH0530001B2 (ja) | ||
| JPS59198606A (ja) | 透明導電膜形成用組成物 |