JPS60250211A - 磁気スケ−ルの製造方法 - Google Patents
磁気スケ−ルの製造方法Info
- Publication number
- JPS60250211A JPS60250211A JP10647584A JP10647584A JPS60250211A JP S60250211 A JPS60250211 A JP S60250211A JP 10647584 A JP10647584 A JP 10647584A JP 10647584 A JP10647584 A JP 10647584A JP S60250211 A JPS60250211 A JP S60250211A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- mark
- energy beam
- manufacturing
- attached
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Transmission And Conversion Of Sensor Element Output (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、位置や角度の変化をデジタルに検出し、これ
により速度の検出をも行ない得る直線式又は回転式のエ
ンコーダ等に用いられる磁気スケールの製造方法に関す
る。
により速度の検出をも行ない得る直線式又は回転式のエ
ンコーダ等に用いられる磁気スケールの製造方法に関す
る。
上記の如き磁気スケールは、磁気媒体に多数の磁気マー
クを等間隔に記録したものであるが、磁気媒体について
も、或いはこれに磁気マークを記録するための着磁ヘッ
ドについても数多くの改良が重ねられ、今日では極めて
高精度の磁気スケールが提供されている。
クを等間隔に記録したものであるが、磁気媒体について
も、或いはこれに磁気マークを記録するための着磁ヘッ
ドについても数多くの改良が重ねられ、今日では極めて
高精度の磁気スケールが提供されている。
而して、磁気スケールの精度並びに分解能を向上させる
ためには、磁気マーク自体の幅や磁気マーク相互間の間
隔を可能な限り狭くし且つＳ／Ｎ比を高くする必要があ
るが、磁気マークを付するための着磁ヘッドを如何に精
密に作製しようとしてもこれには機械的並びに電気的な
限界があり、従って従来の磁気スケールに於ては、成る
段階以（４） 上の分解能を付与することは困難であった。
ためには、磁気マーク自体の幅や磁気マーク相互間の間
隔を可能な限り狭くし且つＳ／Ｎ比を高くする必要があ
るが、磁気マークを付するための着磁ヘッドを如何に精
密に作製しようとしてもこれには機械的並びに電気的な
限界があり、従って従来の磁気スケールに於ては、成る
段階以（４） 上の分解能を付与することは困難であった。
本発明は、」二部の問題点を解決するためなされたもの
であり、その目的とするところは、着磁ヘット等の精度
の限界を越えて、従来の磁気スケールよりもはるかに高
密度の磁気マークの記録が可ｆｊヒな磁気スケールの製
造方法を提供することにある。
であり、その目的とするところは、着磁ヘット等の精度
の限界を越えて、従来の磁気スケールよりもはるかに高
密度の磁気マークの記録が可ｆｊヒな磁気スケールの製
造方法を提供することにある。
而して、上記の目的は、所望の磁気媒体に対し、磁気マ
ークを付すべき部分又は然らざる部分にレーデ光その伯
の高エネルギビームを照射し、磁気特性を局部的に変化
させるよう構成することによって達成される。
ークを付すべき部分又は然らざる部分にレーデ光その伯
の高エネルギビームを照射し、磁気特性を局部的に変化
させるよう構成することによって達成される。
上記の如く構成すれば、レーザ光等を照射した部分とそ
れ以外の部分とでは、磁気媒体の保磁力、硼化方向性等
々の磁気特性及びその表面の幾何学的形状等の相違が生
じるため、これを着磁すればレーザ光等の照射の有無に
対応して磁気マークが（５） 施されるものであり、その場合上記レーザ光等の照射は
極めて微細且つ精密に施し得るため、着磁ヘッドの性能
に関係なく、分解能の高い磁気スケールが製造されるも
のである。
れ以外の部分とでは、磁気媒体の保磁力、硼化方向性等
々の磁気特性及びその表面の幾何学的形状等の相違が生
じるため、これを着磁すればレーザ光等の照射の有無に
対応して磁気マークが（５） 施されるものであり、その場合上記レーザ光等の照射は
極めて微細且つ精密に施し得るため、着磁ヘッドの性能
に関係なく、分解能の高い磁気スケールが製造されるも
のである。
以下、図面に示した実施例を参照しつ−、本発明方法の
構成の詳細を説明する。
構成の詳細を説明する。
第１図は本発明方法を実施するために使用する装置の一
実施例の概略を示す説明図、第２図はリニアスケールを
作製する場合に於けるレーザ光照射形態の一実施例を示
す説明図、第３図はロータリスケールを作製する場合に
於けるレーザ光照射形態の一実施例を示す説明図、第４
図及び第５図はレーザ光照射後の磁気媒体に対する磁気
マークの着磁形態のそれぞれ異なった実施例を示す説明
図、第６図ないし第８図は本発明方法によって付される
磁気マークのそれぞれ異なった実施例を示す説明図であ
る。なお、各図中、同一の符号を付したものは同−又は
同等の作用効果を有する構成要素を示している。
実施例の概略を示す説明図、第２図はリニアスケールを
作製する場合に於けるレーザ光照射形態の一実施例を示
す説明図、第３図はロータリスケールを作製する場合に
於けるレーザ光照射形態の一実施例を示す説明図、第４
図及び第５図はレーザ光照射後の磁気媒体に対する磁気
マークの着磁形態のそれぞれ異なった実施例を示す説明
図、第６図ないし第８図は本発明方法によって付される
磁気マークのそれぞれ異なった実施例を示す説明図であ
る。なお、各図中、同一の符号を付したものは同−又は
同等の作用効果を有する構成要素を示している。
（６）
而して、第１図中、１は磁気スケールの素材となる磁気
媒体、２は基台３」二で図中左右方向に移動せしめられ
その上面に処理すべき上記磁気媒体１が取り伺げられる
移動テーブル、４は上記移動テーブル２を移動せしめる
モータ、５は上記移動テーブル２にその移動方向に沿っ
て取り付けられたリニアスケール、６及び７は上記基台
３に取り伺けられ上記リニアスケールの目盛を読み取る
読取りヘッド、８ば上記読取りヘッド６及び７の出力を
増幅する増幅器、９は波形成形回路、１０は上記移動テ
ーブルの移動量等を制御する数値制御装置、１１ば上記
数値制御装置１０からの指令に基づきモータ４を駆動す
るモータ駆動装置、１２はレーザ発振器、１３はレーザ
発振器１２−・制御された所定の作動電力を供給する電
力制御装置、１４は反射鏡、１５はスリット、１６は集
束レンズである。
媒体、２は基台３」二で図中左右方向に移動せしめられ
その上面に処理すべき上記磁気媒体１が取り伺げられる
移動テーブル、４は上記移動テーブル２を移動せしめる
モータ、５は上記移動テーブル２にその移動方向に沿っ
て取り付けられたリニアスケール、６及び７は上記基台
３に取り伺けられ上記リニアスケールの目盛を読み取る
読取りヘッド、８ば上記読取りヘッド６及び７の出力を
増幅する増幅器、９は波形成形回路、１０は上記移動テ
ーブルの移動量等を制御する数値制御装置、１１ば上記
数値制御装置１０からの指令に基づきモータ４を駆動す
るモータ駆動装置、１２はレーザ発振器、１３はレーザ
発振器１２−・制御された所定の作動電力を供給する電
力制御装置、１４は反射鏡、１５はスリット、１６は集
束レンズである。
磁気媒体１としては、硬質若しくは半硬質の各種永久磁
石材料を使用でき、一般的には、フェライト系磁石、
Ｍｎ−へ１系磁石＋ Ｆｅ Ｃｒ Ｃｏ系磁石。
石材料を使用でき、一般的には、フェライト系磁石、
Ｍｎ−へ１系磁石＋ Ｆｅ Ｃｒ Ｃｏ系磁石。
Ｉ’ｔ−Ｃｏ系磁石、希土類系磁石等が利用でき、望ま
（７） しくは機械的に強固なねばりのあるものが選ばれる。
（７） しくは機械的に強固なねばりのあるものが選ばれる。
第１図に示した例に於ては、リニアスケールを製造する
場合を想定しており、従って磁気媒体１は図中左右方向
に帯状に区民の形態を有しており、これを移動テーブル
２に取り付け、テーブルを図中左方向へ送りつ＼、磁気
媒体の表面の磁気マークを施ずべき部分にレーザ発振器
１２からのレーザ光を間歇的に照射するよう構成しであ
る。
場合を想定しており、従って磁気媒体１は図中左右方向
に帯状に区民の形態を有しており、これを移動テーブル
２に取り付け、テーブルを図中左方向へ送りつ＼、磁気
媒体の表面の磁気マークを施ずべき部分にレーザ発振器
１２からのレーザ光を間歇的に照射するよう構成しであ
る。
即ち、移動テーブル２の移動に伴い、移動テーブルに取
り付けられたリニアスケール５の目盛が基台３に取り付
けた読取りヘッド６及び７によって順次読み取られ、上
記両ヘッドからの出力信号は増幅器８並びに波形成形回
路９を経て数値制御装置１０にもたらされる。然るとき
は、数値制御装置１０は上記信号に基づき移動テーブル
２の移動量を判別して予め定められたプログラムに従っ
て、モータ駆動装置１１に指令を送って移動テーブル２
の移動を制御すると共に、読取りヘッド６及び７からの
信号に一対一に対応して電力制御装置１３へ（８） 信号を送り、これに基づいてレーザ発振器１２から間歇
的にレーデ光を発射せしめる。
り付けられたリニアスケール５の目盛が基台３に取り付
けた読取りヘッド６及び７によって順次読み取られ、上
記両ヘッドからの出力信号は増幅器８並びに波形成形回
路９を経て数値制御装置１０にもたらされる。然るとき
は、数値制御装置１０は上記信号に基づき移動テーブル
２の移動量を判別して予め定められたプログラムに従っ
て、モータ駆動装置１１に指令を送って移動テーブル２
の移動を制御すると共に、読取りヘッド６及び７からの
信号に一対一に対応して電力制御装置１３へ（８） 信号を送り、これに基づいてレーザ発振器１２から間歇
的にレーデ光を発射せしめる。
レーザ発振器１２から発せられたレーザ光は、反射鏡１
４で反射され、スリット１５を通過した後、集束レンズ
１６で収斂されて磁気媒体１の表面に照射される。スリ
ット１５には、所望の磁気マークの形状と相似形の光線
透過孔が明けられている。
４で反射され、スリット１５を通過した後、集束レンズ
１６で収斂されて磁気媒体１の表面に照射される。スリ
ット１５には、所望の磁気マークの形状と相似形の光線
透過孔が明けられている。
而して、読取りヘッド６と７との間の間隔は、リニアス
ケール５の目盛間隔をＳとした場合、（”十％）ｓに設
定されており （ここでｎは正の整数）、従って移動テ
ーブル２が’ＡＳ移動するごとに読取りヘット６又は７
が交互に磁気マークを検出し、その都度レーザ発振器１
２からレーザ光が発振される。従って、磁気媒体１には
リニアスケール５の目盛間隔の２の間隔でレーザ光が間
歇的に照射されることになり、リニアスケール５の２倍
の磁気マーク密度を有する磁気スケールが製造されるこ
とになる。
ケール５の目盛間隔をＳとした場合、（”十％）ｓに設
定されており （ここでｎは正の整数）、従って移動テ
ーブル２が’ＡＳ移動するごとに読取りヘット６又は７
が交互に磁気マークを検出し、その都度レーザ発振器１
２からレーザ光が発振される。従って、磁気媒体１には
リニアスケール５の目盛間隔の２の間隔でレーザ光が間
歇的に照射されることになり、リニアスケール５の２倍
の磁気マーク密度を有する磁気スケールが製造されるこ
とになる。
第２図は上記の如くしてレーザ照射を行なった磁気媒体
を示しており、Ｉａ、 Ｉａがレーザ光の照射（９） された箇所であって、ここに着磁処理を施すことによっ
て当該箇所が磁気マークとなるものである。
を示しており、Ｉａ、 Ｉａがレーザ光の照射（９） された箇所であって、ここに着磁処理を施すことによっ
て当該箇所が磁気マークとなるものである。
第３図は、ロータリスケールを製造する場合の磁気媒体
に対するレーザ光照射状態を示しており、円形若しくは
円環状の磁気媒体１′にレーザ光照射部分１ｂ、 ｌｂ
が形成される。
に対するレーザ光照射状態を示しており、円形若しくは
円環状の磁気媒体１′にレーザ光照射部分１ｂ、 ｌｂ
が形成される。
而して、第４図及び第５図は、」二部の如くしてレーザ
照射を行なった磁気媒体に対する着磁処理方法の二つの
態様を示している。先ず第４図に示したものは、各レー
ザ照射部分１ａ、Ｉａを、磁気媒体１の長手方向と直交
する方向に磁化する例を示しており、着磁ヘッド１７の
一方の極１７ａと他方の極１７ｂとを磁気媒体１の長手
方向と直交する向きに配置し、磁気媒体１を上記両極間
に形成される磁場内を通過させる。然るときは、レーザ
照射により保磁力が非照射部分よりも高くなっている上
記照射部分１ａ、 ｌａのみが磁気媒体１の長手方向と
は直交する向きに強く磁化され、これにより磁気マーク
が形成されることになる。
照射を行なった磁気媒体に対する着磁処理方法の二つの
態様を示している。先ず第４図に示したものは、各レー
ザ照射部分１ａ、Ｉａを、磁気媒体１の長手方向と直交
する方向に磁化する例を示しており、着磁ヘッド１７の
一方の極１７ａと他方の極１７ｂとを磁気媒体１の長手
方向と直交する向きに配置し、磁気媒体１を上記両極間
に形成される磁場内を通過させる。然るときは、レーザ
照射により保磁力が非照射部分よりも高くなっている上
記照射部分１ａ、 ｌａのみが磁気媒体１の長手方向と
は直交する向きに強く磁化され、これにより磁気マーク
が形成されることになる。
第５図は、各レーザ照射部分１ａ、 Ｉａを、磁気媒（
１０） 体１の長手方向と同一方向に磁化する例を示しでおり、
着磁ヘッド１７の一方の極１７ａと他方の極１７ｂとを
磁気媒体１の長平方向と同一の向きに配置し、磁気媒体
１を」二部両極間の磁場内を通過させる。
１０） 体１の長手方向と同一方向に磁化する例を示しでおり、
着磁ヘッド１７の一方の極１７ａと他方の極１７ｂとを
磁気媒体１の長平方向と同一の向きに配置し、磁気媒体
１を」二部両極間の磁場内を通過させる。
然るときは、レーザ照射により保磁力が非照射部分より
も高くなっている上記照射部分１ａ、ｌａのみが磁気媒
体１の長手方向と同一の向き（磁気媒体の厚さ方向）に
着磁され、これにより磁気マークが形成されることにな
る。
も高くなっている上記照射部分１ａ、ｌａのみが磁気媒
体１の長手方向と同一の向き（磁気媒体の厚さ方向）に
着磁され、これにより磁気マークが形成されることにな
る。
或いばまた、着磁ヘッドの両極を、図面の紙面の手前側
と裏側とになるように配置して、レーザ照射部分を紙面
と直交する向きに着磁するようにすることも可能である
。
と裏側とになるように配置して、レーザ照射部分を紙面
と直交する向きに着磁するようにすることも可能である
。
而して、第４図又は第５図から判るように、本発明方法
によるときは、着磁ヘッド１７の磁極先端の寸法を、必
ずしも従来の如く磁気マークの幅より小さくしておく必
要がない。何故なら、着磁ヘッドの両極間に形成される
磁場領域が、記録すべき磁気マークの幅より広くても、
レーザ照射によってその照射部分１ａ、ｌａの保磁力は
非照射部分に比べて大幅に増大しているため、レーザ照
射部分のみが強く磁化され、非照射部分は磁場内に置か
れても殆ど磁化されず、従って、着磁ヘッドの寸法に関
係なくレーザ照射部分のみが磁気マークとして残るから
である。この場合、レーザ照射は公知の手段により極め
て微細且つ精密に行ない得るから、本発明方法によると
きは、従来の如く全体的に均一な磁気特性を有する磁気
媒体に精密な着磁ヘッドを用いて磁気マークを付するよ
りも、はるかに容易、しかも、はるかに高精度の磁気マ
ークを記録し得るものである。勿論、上記の如くレーザ
照射した磁気媒体に対して、精密な着磁ヘッドを用いて
磁化処理を行なえば、より一層高精度、高分解能の磁気
スケールが製造され得ることは云うまでもない。
によるときは、着磁ヘッド１７の磁極先端の寸法を、必
ずしも従来の如く磁気マークの幅より小さくしておく必
要がない。何故なら、着磁ヘッドの両極間に形成される
磁場領域が、記録すべき磁気マークの幅より広くても、
レーザ照射によってその照射部分１ａ、ｌａの保磁力は
非照射部分に比べて大幅に増大しているため、レーザ照
射部分のみが強く磁化され、非照射部分は磁場内に置か
れても殆ど磁化されず、従って、着磁ヘッドの寸法に関
係なくレーザ照射部分のみが磁気マークとして残るから
である。この場合、レーザ照射は公知の手段により極め
て微細且つ精密に行ない得るから、本発明方法によると
きは、従来の如く全体的に均一な磁気特性を有する磁気
媒体に精密な着磁ヘッドを用いて磁気マークを付するよ
りも、はるかに容易、しかも、はるかに高精度の磁気マ
ークを記録し得るものである。勿論、上記の如くレーザ
照射した磁気媒体に対して、精密な着磁ヘッドを用いて
磁化処理を行なえば、より一層高精度、高分解能の磁気
スケールが製造され得ることは云うまでもない。
而して、上記の説明では、レーザ照射によって当該照射
部分の保磁力が非照射部分のそれに比べて大きく場合を
想定したが、これは磁気媒体の材質、或いはレーザ照射
に先立つ磁気媒体に対する前処理等に応じて、上記の場
合とは逆に、レーザ照射部分を非磁性化して非照射部分
より保磁力を低くしたり、或いはまた、照射部分と非照
射部分との磁化の方向性を異ならせたり（磁化異方性の
形成）、更には、レーザ光照射により、磁気媒体の磁気
マークを付すべき部分の材質の一部を除去して凹部を形
成し、これにより上記磁気マークを付すべき部分の保磁
力を非照射部分のそれよりも低くするようにすることも
可能である。
部分の保磁力が非照射部分のそれに比べて大きく場合を
想定したが、これは磁気媒体の材質、或いはレーザ照射
に先立つ磁気媒体に対する前処理等に応じて、上記の場
合とは逆に、レーザ照射部分を非磁性化して非照射部分
より保磁力を低くしたり、或いはまた、照射部分と非照
射部分との磁化の方向性を異ならせたり（磁化異方性の
形成）、更には、レーザ光照射により、磁気媒体の磁気
マークを付すべき部分の材質の一部を除去して凹部を形
成し、これにより上記磁気マークを付すべき部分の保磁
力を非照射部分のそれよりも低くするようにすることも
可能である。
以下、これらの幾つかについて具体例を掲げて説明する
。
。
磁気スケールの磁気媒体として、重量百分率で、Ｃｒ：
２６％、Ｃｏ：６％、残部Ｆｅから成るＦｅ−Ｃｒ−Ｃ
。
２６％、Ｃｏ：６％、残部Ｆｅから成るＦｅ−Ｃｒ−Ｃ
。
磁石合金を使用し、その表面全体にＣＯ粉末を塗布し、
磁気マークを付すべき部分に前記の如くレーザ光を照射
した結果、当該照射部分では上記ＣＯ粉末の一部が上記
磁石合金内に融解して照射部分のＣｏ含有量が２２％と
なり、その部分の保磁力が周りに比べて増加した。即ち
、上記照射処理後の磁気媒体全体を磁束密度１０日Ｗｂ
１０ｆの磁場内を通過さく１３） せて磁化したところ、照射部分に於てはｌ１ｃ＝ １２
００エルステツド、非照射部分に於ては１ｌｃ＝ ６７
０エルステツドの磁界の相違がみられた。
磁気マークを付すべき部分に前記の如くレーザ光を照射
した結果、当該照射部分では上記ＣＯ粉末の一部が上記
磁石合金内に融解して照射部分のＣｏ含有量が２２％と
なり、その部分の保磁力が周りに比べて増加した。即ち
、上記照射処理後の磁気媒体全体を磁束密度１０日Ｗｂ
１０ｆの磁場内を通過さく１３） せて磁化したところ、照射部分に於てはｌ１ｃ＝ １２
００エルステツド、非照射部分に於ては１ｌｃ＝ ６７
０エルステツドの磁界の相違がみられた。
磁気媒体として、ＳｍＣｏ５磁石合金を使用し、これに
レーザ光を照射した結果、当該照射部分ではＳｍの含有
量が低下し、その保磁力が減少した。即ち、上記照射処
理後の磁気媒体全体を磁束密度１０８Ｗｂ／ ｒｒｒの
磁場内を通過させて磁化したところ、照射部分に於ては
１Ｉｃ＝ １２００エルステツド、非照射部分に於ては
１ｌｃ＝６４００エルステツドとなった。
レーザ光を照射した結果、当該照射部分ではＳｍの含有
量が低下し、その保磁力が減少した。即ち、上記照射処
理後の磁気媒体全体を磁束密度１０８Ｗｂ／ ｒｒｒの
磁場内を通過させて磁化したところ、照射部分に於ては
１Ｉｃ＝ １２００エルステツド、非照射部分に於ては
１ｌｃ＝６４００エルステツドとなった。
磁気媒体として、Ｍｎ−ＡＩ−Ｇ（炭素）磁石合金を使
用し、これの片面を冷却しつ＼磁束密度１０゜Ｗｂ／
ｒｒｌの磁場内でレーザ光を照射した結果、照射部分の
深さ０．５ｍの領域が異方化され、当該照射部分の磁化
率は非照射部分のほぼ４分の１となった。
用し、これの片面を冷却しつ＼磁束密度１０゜Ｗｂ／
ｒｒｌの磁場内でレーザ光を照射した結果、照射部分の
深さ０．５ｍの領域が異方化され、当該照射部分の磁化
率は非照射部分のほぼ４分の１となった。
磁気媒体として、厚さ０．５ｍのＦｅ −Ｃｒ −Ｃｏ
磁石（１４） 合金を用い、これを磁束密度１０９Ｗｂ／ ｍの磁場内
でレーザ照射し、照射部分に深さ０．１２ｉｉ＠の凹部
を形成した。その結果、照射部分に於ては厚さが減少し
たこと並びに照射時の加熱によって、その磁化率は非照
射部分のほぼ６分の１となった。
磁石（１４） 合金を用い、これを磁束密度１０９Ｗｂ／ ｍの磁場内
でレーザ照射し、照射部分に深さ０．１２ｉｉ＠の凹部
を形成した。その結果、照射部分に於ては厚さが減少し
たこと並びに照射時の加熱によって、その磁化率は非照
射部分のほぼ６分の１となった。
上記いずれの場合に於ても、レーザ照射によって当該照
射部分の磁気特性を非照射部分のそれと変化させるもの
であるが、その変化領域の幅は３〜１０μ程度まで細か
くすることが可能である。
射部分の磁気特性を非照射部分のそれと変化させるもの
であるが、その変化領域の幅は３〜１０μ程度まで細か
くすることが可能である。
第６図ないし第８図には、本発明方法により製造される
磁気スケールの磁気マークのそれぞれ異なった形成状態
が示しである。
磁気スケールの磁気マークのそれぞれ異なった形成状態
が示しである。
第６図に示したリニアスケールは、磁気媒体１にスポッ
ト状のレーザ照射を行ない、当該照射部分の保磁力を増
大させて、円形の磁気マークＩＣ９ＩＣを記録したもの
である。その磁化処理は、磁気媒体の厚さ方向に施しで
ある。
ト状のレーザ照射を行ない、当該照射部分の保磁力を増
大させて、円形の磁気マークＩＣ９ＩＣを記録したもの
である。その磁化処理は、磁気媒体の厚さ方向に施しで
ある。
第７図に示したリニアスケールは、磁気媒体１のｌｄ、
ｌｄ部分にレーザ照射を行ない、当該照射部分の保磁
力を低下させると共に、非照射部分１ｄ′。
ｌｄ部分にレーザ照射を行ない、当該照射部分の保磁
力を低下させると共に、非照射部分１ｄ′。
ｌｄ’を磁化して磁気マークとしである。
第８図に示したリニアスケールは、磁気媒体１に紡錘形
若しくは舟形の磁気マークｌｅ、 ｌｅを形成したもの
である。このような磁気マークを形成するには、例えば
第１図に示した装置に於て、スリット１５のレーザ光透
過孔の形状を紡錘形若しくは舟形とし、これを通過した
レーザ光を磁気媒体表面に結像させることによって可能
である。磁気マークをこのような形状にして、その両端
のエツジ状に尖った部分に磁極が形成されるように着磁
処理を施せば、当該エツジ部分に磁束が集中せしめられ
るので、スケールのＳ／Ｎ比を向上させるのに有効であ
る。上記の如き特殊な形状の磁気マークを形成すること
は、従来の着磁方法では不可能であり、本発明方法によ
り初めて可能となるものである。
若しくは舟形の磁気マークｌｅ、 ｌｅを形成したもの
である。このような磁気マークを形成するには、例えば
第１図に示した装置に於て、スリット１５のレーザ光透
過孔の形状を紡錘形若しくは舟形とし、これを通過した
レーザ光を磁気媒体表面に結像させることによって可能
である。磁気マークをこのような形状にして、その両端
のエツジ状に尖った部分に磁極が形成されるように着磁
処理を施せば、当該エツジ部分に磁束が集中せしめられ
るので、スケールのＳ／Ｎ比を向上させるのに有効であ
る。上記の如き特殊な形状の磁気マークを形成すること
は、従来の着磁方法では不可能であり、本発明方法によ
り初めて可能となるものである。
本発明は叙上の如く構成されるので、本発明方法による
ときは、磁気媒体に対してレーザ光を精密、微細に照射
し、当該照射部分の保磁力、磁化方向性等々の磁気特性
を非照射部分のそれと変化させることにより、着磁ヘッ
ドの性能に関係なく磁気マーク自体の幅や磁気マーク相
互間の間隔を極めて微小且つ精密に設定することが可能
となり、また磁気マーク自体の形状も任意に形成し得る
ものであるから、これにより高精度、高分解能の磁気ス
ケールを製造し得るものである。
ときは、磁気媒体に対してレーザ光を精密、微細に照射
し、当該照射部分の保磁力、磁化方向性等々の磁気特性
を非照射部分のそれと変化させることにより、着磁ヘッ
ドの性能に関係なく磁気マーク自体の幅や磁気マーク相
互間の間隔を極めて微小且つ精密に設定することが可能
となり、また磁気マーク自体の形状も任意に形成し得る
ものであるから、これにより高精度、高分解能の磁気ス
ケールを製造し得るものである。
なお、本発明の構成は上記の実施例に限定されるもので
はない。即ち例えば、上記の説明では、主として磁気媒
体にレーザ光の照射処理を行なった後で着磁処理を施す
よう説明したが、これとは逆に、磁気媒体を全体的に着
磁した後、磁気マークとして残すべき部分以外の部分に
レーザ光を照射して、当該照射部分の消磁を行なうよう
にしても良く、或いはまた、前記第三例又は第四例の如
く、照射処理と着磁処理を同時に行なうようにしても良
い。更にまた、磁気媒体の磁気特性を変化させるため、
レーザ光のみでなく、目的に応じて、電子ビーム、イオ
ンビーム、電磁波ビーム等々のエネルギビームを利用す
ることも可能である。そ（１７） してまた、本発明者が例えば特公昭５５−２５６６号公
報で開示した如く、磁気マークの方向を磁気媒体の長手
方向と斜交するように形成することも可能である。従っ
て、本発明はその目的の範囲内で上記の説明から当業者
が容易に想到し得るすべての変更実施例を包摂するもの
である。
はない。即ち例えば、上記の説明では、主として磁気媒
体にレーザ光の照射処理を行なった後で着磁処理を施す
よう説明したが、これとは逆に、磁気媒体を全体的に着
磁した後、磁気マークとして残すべき部分以外の部分に
レーザ光を照射して、当該照射部分の消磁を行なうよう
にしても良く、或いはまた、前記第三例又は第四例の如
く、照射処理と着磁処理を同時に行なうようにしても良
い。更にまた、磁気媒体の磁気特性を変化させるため、
レーザ光のみでなく、目的に応じて、電子ビーム、イオ
ンビーム、電磁波ビーム等々のエネルギビームを利用す
ることも可能である。そ（１７） してまた、本発明者が例えば特公昭５５−２５６６号公
報で開示した如く、磁気マークの方向を磁気媒体の長手
方向と斜交するように形成することも可能である。従っ
て、本発明はその目的の範囲内で上記の説明から当業者
が容易に想到し得るすべての変更実施例を包摂するもの
である。
第１図は本発明方法を実施するために使用する装置の一
実施例の概略を示す説明図、第２図はリニアスケールを
作製する場合に於けるレーザ光照射形態の一実施例を示
す説明図、第３図はロータリスケールを作製する場合に
於けるレーザ光照射形態の一実施例を示す説明図、第４
図及び第５図はレーザ光照射後の磁気媒体に対する磁気
マークの着磁形態のそれぞれ異なった実施例を示す説明
図、第６図ないし第８図は本発明方法によって付される
磁気マークのそれぞれ異なった実施例を示す説明図であ
る。 １ 、 １ ’ −−−−−−−−−−−−−一磁気媒
体（１８） １ａ＋１ａ＋１ｂ＋１ｂ＋］ｃ＋１ｃ＋ １ｄ′、ｌｄ
’ 。 Ｉｅ、 Ｉｅ−−−−−−−−−−−−−−一磁気マー
ク２−−−−−−−−−−−−−−−−−−−一移動テ
ーブル３−−−−−−−−−−−−−−−−基台４−−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−モータ５−−−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−リニアスケー
ル６ 、 ７−−−−−−−−−−一読取りヘッド８−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−増幅器９−
−−−−−−−−−−−−−−−−−波形成形回路１（
１−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−一数値制
御装置１１−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
−モータ駆動装置１２−−−−−−−−−−−−−−−
−−−−−レーザ発振器１３−−−−−−−−−−−−
−−−−−−−−−電力制御装置ｌ ｔ−−−−−−−
−−−−−−−−−−−−−一反射鏡１５−−−−−−
−−−−−−−−−−−−−−−−−スリット１６−−
−−−−−−−−−−−−−−−一集束レンズ特許出
願人 株式会社井上ジャパックス研究所代理人（７５２
４）最上型太部 （１９）
実施例の概略を示す説明図、第２図はリニアスケールを
作製する場合に於けるレーザ光照射形態の一実施例を示
す説明図、第３図はロータリスケールを作製する場合に
於けるレーザ光照射形態の一実施例を示す説明図、第４
図及び第５図はレーザ光照射後の磁気媒体に対する磁気
マークの着磁形態のそれぞれ異なった実施例を示す説明
図、第６図ないし第８図は本発明方法によって付される
磁気マークのそれぞれ異なった実施例を示す説明図であ
る。 １ 、 １ ’ −−−−−−−−−−−−−一磁気媒
体（１８） １ａ＋１ａ＋１ｂ＋１ｂ＋］ｃ＋１ｃ＋ １ｄ′、ｌｄ
’ 。 Ｉｅ、 Ｉｅ−−−−−−−−−−−−−−一磁気マー
ク２−−−−−−−−−−−−−−−−−−−一移動テ
ーブル３−−−−−−−−−−−−−−−−基台４−−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−モータ５−−−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−リニアスケー
ル６ 、 ７−−−−−−−−−−一読取りヘッド８−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−増幅器９−
−−−−−−−−−−−−−−−−−波形成形回路１（
１−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−一数値制
御装置１１−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
−モータ駆動装置１２−−−−−−−−−−−−−−−
−−−−−レーザ発振器１３−−−−−−−−−−−−
−−−−−−−−−電力制御装置ｌ ｔ−−−−−−−
−−−−−−−−−−−−−一反射鏡１５−−−−−−
−−−−−−−−−−−−−−−−−スリット１６−−
−−−−−−−−−−−−−−−一集束レンズ特許出
願人 株式会社井上ジャパックス研究所代理人（７５２
４）最上型太部 （１９）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）磁気マークを付すべき部分又は然らざる部分にエネ
ルギビームを照射することにより、磁気特性を局部的に
変化させた磁気媒体を使用することを特徴とする磁気ス
ケールの製造方法。 ２）上記エネルギビーム照射処理を施した後、上記磁気
マークを付すべき部分又は然らざる部分を磁化すること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気スケール
の製造方法。 ３）上記磁気媒体を全体的に磁化した後、磁気マークと
して残すべき部分以外の部分に上記エネルギビーム照射
処理を施すことにより当該照射部分の消磁を行なうこと
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気スケール
の製造方法。 ４）上記エネルギビーム照射処理と同時に着磁処理を施
すことを特徴とする特許請求の範囲第１（１） 項記載の磁気スケールの製造方法。 ５）上記エネルギビームがレーザ光である特許請求の範
囲第１項ないし第４項のうちいずれか−に記載の磁気ス
ケールの製造方法。 ６）上記エネルギビームが電子ビームである特許請求の
範囲第１項ないし第４項のうちいずれか−に記載の磁気
スケールの製造方法。 ７）上記エネルギビームがイオンビームである特許請求
の範囲第１項ないし第４項のうちいずれか−に記載の磁
気スケールの製造方法。 ８）上記エネルギビームが電磁波ビームである特許請求
の範囲第１項ないし第４項のうちいずれか−に記載の磁
気スケールの製造方法。 ９）上記エネルギビーム照射により、上記磁気媒体の磁
気マークを付すべき部分と然らざる部分との保磁力を変
化させる特許請求の範囲第１項ないし第８項のうちいず
れか−に記載の磁気スケールの製造方法。 １０）上記エネルギビーム照射により、上記磁気媒体の
磁気マークを付すべき部分と然らざる部分（２） との間に磁化異方性を生せしめる特許請求の範囲第１項
ないし第８項のうちいずれか−に記載の磁気スケールの
製造方法。 １１）上記エネルギビーム照射により、上記磁気媒体の
磁気マークを付すべき部分の材質の一部を除去して四部
を形成し、これにより上記磁気マークを付すべき部分と
然らざる部分との保磁力を変化させる特許請求の範囲第
１項ないし第８項のうちいずれか−に記載の磁気スケー
ルの製造方法。 １２） ｌ記磁気媒体の表面に上記磁気媒体とは異なっ
た元素から成る微粉末を予め塗布し、これに上記エネル
ギビームを照射してその照射部分の磁気媒体組成を変化
せしめる特許請求の範囲第１項ないし第１１項のうちい
ずれか−に記載の磁気スケールの製造方法。 １３）上記エネルギビーム照射の形状を、磁気マークの
磁極となる箇所がエツジ状となるように形成することを
特徴とする特許請求の範囲第１項ないし第１２項のうち
いずれか−に記載の磁気スケールの製造方法。 （３）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10647584A JPS60250211A (ja) | 1984-05-28 | 1984-05-28 | 磁気スケ−ルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10647584A JPS60250211A (ja) | 1984-05-28 | 1984-05-28 | 磁気スケ−ルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60250211A true JPS60250211A (ja) | 1985-12-10 |
Family
ID=14434533
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10647584A Pending JPS60250211A (ja) | 1984-05-28 | 1984-05-28 | 磁気スケ−ルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60250211A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63288486A (ja) * | 1987-05-20 | 1988-11-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 磁気カードの処理方法 |
| JPH0287013A (ja) * | 1988-09-26 | 1990-03-27 | Japan Atom Energy Res Inst | 磁気スケールの製造方法 |
| JPH02234017A (ja) * | 1989-03-08 | 1990-09-17 | Yamaha Corp | エンコーダ用磁気記録媒体 |
| JPH095113A (ja) * | 1996-04-25 | 1997-01-10 | Japan Atom Energy Res Inst | 耐熱性磁気スケールの製造方法 |
| US7148447B2 (en) | 2001-03-29 | 2006-12-12 | Gsi Group Corporation | Method and apparatus for laser marking by ablation |
| JP2011043492A (ja) * | 2009-06-01 | 2011-03-03 | Magna-Lastic Devices Inc | 磁気速度センサー及び該磁気速度センサーの製造方法 |
-
1984
- 1984-05-28 JP JP10647584A patent/JPS60250211A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63288486A (ja) * | 1987-05-20 | 1988-11-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 磁気カードの処理方法 |
| JPH0287013A (ja) * | 1988-09-26 | 1990-03-27 | Japan Atom Energy Res Inst | 磁気スケールの製造方法 |
| JPH02234017A (ja) * | 1989-03-08 | 1990-09-17 | Yamaha Corp | エンコーダ用磁気記録媒体 |
| JPH095113A (ja) * | 1996-04-25 | 1997-01-10 | Japan Atom Energy Res Inst | 耐熱性磁気スケールの製造方法 |
| US7148447B2 (en) | 2001-03-29 | 2006-12-12 | Gsi Group Corporation | Method and apparatus for laser marking by ablation |
| JP2011043492A (ja) * | 2009-06-01 | 2011-03-03 | Magna-Lastic Devices Inc | 磁気速度センサー及び該磁気速度センサーの製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5091021A (en) | Magnetically coded device and method of manufacture | |
| US5492572A (en) | Method for thermomagnetic encoding of permanent magnet materials | |
| EP0242837B1 (en) | Magnetooptical recording apparatus | |
| US5089060A (en) | Thermomagnetically patterned magnets and method of making same | |
| JPS58213308A (ja) | 直線位置ぎめシステム | |
| JPS60250211A (ja) | 磁気スケ−ルの製造方法 | |
| US4440106A (en) | Magnetic orientation system | |
| GB1463120A (en) | Magnetic head and method of making same | |
| US4363052A (en) | Thermomagnetic recording device | |
| JP2554151B2 (ja) | 磁気検出装置 | |
| JPH01224902A (ja) | 光磁気ディスク用磁界印加電磁石 | |
| JP2633229B2 (ja) | 多極構造永久磁石の製造方法 | |
| JPH05299247A (ja) | 永久磁石材料の熱磁気的コ−ド化方法 | |
| JP2975953B2 (ja) | 光磁気記録装置用磁気ヘッド | |
| JPH069082B2 (ja) | 磁界印加装置 | |
| JPS5687216A (en) | Multitrack vertical magnetization type magnetic head | |
| JPS5839545Y2 (ja) | 消去用磁気ヘツド | |
| JPS5839544Y2 (ja) | 消去用磁気ヘッド | |
| JPH07153103A (ja) | 駆動装置 | |
| JP2578949B2 (ja) | 磁気情報読取方法 | |
| JPH0453190Y2 (ja) | ||
| JP2982468B2 (ja) | 着磁体およびその製造方法 | |
| JPH01287804A (ja) | 光磁気記録装置用磁気ヘッド | |
| JPS611252A (ja) | 直動電機 | |
| JPS56114133A (en) | Optical pickup device |