JPS6024801B2 - 塩素化炭化水素系樹脂の製造方法 - Google Patents

塩素化炭化水素系樹脂の製造方法

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JPS6024801B2
JPS6024801B2 JP14779477A JP14779477A JPS6024801B2 JP S6024801 B2 JPS6024801 B2 JP S6024801B2 JP 14779477 A JP14779477 A JP 14779477A JP 14779477 A JP14779477 A JP 14779477A JP S6024801 B2 JPS6024801 B2 JP S6024801B2
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JP
Japan
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chlorinated hydrocarbon
hydrocarbon resin
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chlorinated
chlorination
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徹 森田
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Sanyo Kokusaku Pulp Co Ltd
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Sanyo Kokusaku Pulp Co Ltd
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  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は塩素化炭化水素系樹脂の製造方法、詳しくはそ
の製造工程に用いられる耐塩素化反応性溶媒の除去、乾
燥方法に関する。
炭化水素系高分子物質を塩素化することによって得られ
る塩素化ポリマーは耐薬品性、耐候性、耐熱性等が優れ
ているために塗料、インキ、接着剤、雛燃剤等の樹脂と
して用いられている。
従来当該樹脂の塩素イQ客煤として用いられている塩素
化炭化水素を除去するには該溶媒を熱水や水蒸気を用い
て反応溶媒の沸点以上に加熱するか、沸点より高い熱風
中にスプレーするなどの方法で除去しそれでも残存する
溶剤は更に高温度で長時間を要して除去している。しか
し上記の方法では−たん反応溶媒から遊離し固形化した
上記塩素化炭化水素樹脂粉末は再乾燥して反応溶媒を除
くのが非常にむつかしく、従って残溶剤除去のための再
乾燥工程は通常高温かつ長時間を要して品質劣化を伴う
こと、しかも残溶剤除去が十分に行なわれ難いので、残
余の溶剤の量によっては衛生上好ましくないこと、更に
乾燥に要する熱効率が劣るなど多くの欠点があった。本
発明は上記の欠点を除くべく種々検討した結果赤外線が
当該残留溶剤を蒸発乾燥させるのに極めて有効であるこ
とを発見して本発明を完成したものである。
本発明に於ける塩素化炭化水素系樹脂とはポリエチレン
、ポリプロピレン、エチレン、プロピレン共重合物、エ
チレン酢ビ共重合物、ポリィソプレン、天然ゴム、ポリ
ブタジェン、ポリエチレングラフト化物、ポリプロピレ
ングラフト化物、ポリィソプレングラフト化物等の塩素
化物を含むもので、安定性を賦与するために塩素化炭化
水素に添加されるェポキシ系の安定剤や可塑剤又は他の
樹脂を含むものであってもよい。
次に本発明に用いる耐塩素化反応性溶媒とは四塩化炭素
、クロロホルム、塩化メチレン、クロルエタン、ジクロ
ルエタン、トリクロルエタン、テトラクロルェタン等の
塩素化炭化水素である。
赤外線は可視光線より波長が長く、マイクロ波より波長
の短い0.72〜1000rの電磁波で多くの有機物質
はこの領域に特性吸収を有するものである。対象物質の
分子の振動波長と同じ波長の光を放射すると分子が共振
現象を起こしてそれ自体が発熱し、高温体となるため塩
素化炭化水素系樹脂は軟化し、残留している耐塩素化溶
媒自体も赤外線を吸収し、高温体となると共に蒸発速度
を増し軟化して物質移動しやすくなった塩素化炭化水素
系樹脂の中をすみやかに離脱して系外に飛散してしまう
ものと考えられる。本発明に用いる反応溶媒はすべてこ
の領域に強い吸収を示し、また塩素化炭化水素系の樹脂
も同様にこの領域に強い吸収を有するものである。
本発明による乾燥条件は必要とする乾燥度、製品の品質
などによっているいるな条件の選択が可能であるが、好
ましくは表面温度80〜150qo、乾燥物の層の厚さ
を2〜10m/のにするのが好ましい。これは乾燥物の
層の厚さが1仇凧以上では表面のみが乾燥し、遂に融着
して下層の溶剤の蒸発が妨げられるだけでなく変質しや
すくなる。
また2腿以下で乾燥能率がわるいためである。更に又本
発明方法の実施に当っては流動層によって総体を流動さ
せながら乾燥するなどの方法を加えることによって、従
釆の方法では不可能であった実質上残溶剤のない高品質
のものが非常に短時間で製造できるようになった。
実施例 1 ポリィソプレンラバー(平均分子量滋0×1ぴ)4kg
を四塩化炭素160k9に溶解した後70ooまで昇溢
し、窒素ガスで溶存酸素をパージし塩素化触媒としてペ
ンゾイルパーオキサイド40夕を加えてよく蝿拝した。
次いでガス状塩素16.5kgを1刻時間かけて吹き込
み、塩素含有量66.5%の塩素化ポリィソブレンを得
た。この反応液を熱水中に、激しく燈拝しながら徐々に
添加して白色の粉末を得た。これを遠心脱水した後60
qoで2独時間乾燥したものをサンプルAとする。別に
反応液50k9を採取してェアレススプレ−により15
0qoの熱風中に噴射して固形物を得た。
これを60℃で2独特間乾燥したものをサンプルBとし
た。更に上記サンプルA、サンプルBを赤外線乾燥機を
用いて次の表1の条件により乾燥した結果を表2及び表
3として示した。サンプルAとサンプルBの四塩化炭素
含量はそれぞ8.5%と7.5%であった。表1 赤外
線乾燥機の設定条件 またサンプルAとBを100℃と12ぴ0で熱風乾燥し
た場合を比較例として表2、表3に併記して示した。
表 2 サンプルAの場合( 層の厚 10※所要
時間 残四塩化炭素含有量8.5%が1多以下とをるに
要する時間(分)※※360分後も4.7多で1※以下
は不可であった。
※※※360分後も1.7%でi※以下は不可であった
。表 3 サンプルBの場合※サンプルAの場合と同
じ。
※※360分でも1%以下にはをらなかった。
上記の結果で明らかなように従来法の熱風匠乾燥法によ
っては5〜6の片というような短時間で残四塩化炭素量
を1%以下にすることはできないこと、更に高温度で仮
に1%以下にしても分解又は着色などの品質低下を伴な
うことがわかつた。これを赤外線法で実施することによ
って品質の変化なく短時間で乾燥が可能になった。実施
例 2 実施例1で得たサンプルAを用いて一定条件に設定した
(電圧90V、表面温度90℃、光源距離20仇舷、総
体層の厚み5肌)赤外線乾燥機で10分、20分、3び
分、6の片乾燥したときの残四塩化炭素の量を測定した
結果を次の表4に示す。
表4 比較例 実施例2で用いたと同じサンプルAを従来の熱風乾燥法
によって乾燥した結果を次の表5に示す。
表5 実施例2と比較例からも明らかなように従来の熱風乾燥
法では150℃以上という高温度でないと残四塩化炭素
量を1%以下にすることは不可能であり、150ooで
3び分では粉末が分解して茶褐色に変色し融着や団塊化
を起こしてしまうので実用的でない。
これにくらべて赤外線は乾燥時間が短かく効果的である
ため、粉末の変質を伴うことなく短時間で乾燥ができる
。実施例 3 高圧法ポリエチレン(密度=0.915)lk9を四塩
化炭素40k9に溶解して加圧しながら10ぴ0迄温度
を上昇させ、完全に溶液とした後光を照射しつつ5k9
の塩素を6時間に亘つて通気し塩素化反応を完了した。
生成した塩素化ポリエチレンの塩素含有率は70.5%
であった。この反応液を熱水中に徐々に加えながら白色
の固形物を得た。これを更に遠心脱水して6ぴ○の熱風
乾燥機で2■時間乾燥した。この固形物中には残留四塩
化炭素が7.8%含有されていた。これをサンプルCと
する。これを赤外線乾燥機及び熱風乾燥機で乾燥し次の
表6の如き結果を得た。表 6 ポリィソプレンの塩素化物にくるべて塩素化ポリエチレ
ンは更に穏和な条件でも乾燥できることがわかる。
しかしその場合でも従来の熱風乾燥法ではやはり20〜
3針音の時間を必要とした。実施例 4ポリプロピレン
(刀=1.8MI=3)1kgを四塩化炭素40k9に
加温、加圧下に均一に溶解して塩化ガス4.5k9を1
潮時間に亘つて通気し塩素化反応を完了した。
この反応液は窒素ガスで溶存ガスを十分にパージした後
塩素化ポリプロピレンの重量に対して5%(重量)に相
当するェポキシ系安定剤ェピオールG−100(日本油
脂製品)を添加し完全に混合した。これを熱水中に徐々
に注いで固形物として取出し60qoで2岬時間乾燥し
た。この総体の塩素含有量は63.8%で、残四塩化炭
素は6.9%であった。続いてこの総体を赤外線で電圧
105V、光源間距離25仇岬、表面温度110CC、
粉末層の厚さ5の/肌で20分乾燥したところ、残四塩
化炭素含有量は0.6%であった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 塩素化炭化水素系樹脂の耐塩素化反応性溶媒溶液を
    水蒸気、熱水または熱風中に導入して耐塩素化反応性溶
    媒の主部を除去した後、該溶媒残部を赤外線乾燥機によ
    つて除去することを特徴とする塩素化炭化水素系樹脂の
    製造方法。 2 塩素化炭化水素系樹脂は塩素含有量が重量で60%
    から75%であるポリオレフインの塩素化物である特許
    請求の範囲第1項記載の塩素化炭化水素系樹脂の製造方
    法。 3 耐塩素化反応性溶媒が、塩化メチレン、クロロホル
    ム、四塩化炭素、クロルエタン、ジクロルエタン、トリ
    クロルエタン、テトラクロルエタンのいずれか1種又は
    2種以上である特許請求の範囲第1項又は第2項記載の
    塩素化炭化水素系樹脂の製造方法。 4 赤外線の波長分布領域が2μ〜50μであるところ
    の赤外線乾燥機を用いる特許請求の範囲第1項から第3
    項までのいずれか1項記載の塩素化炭化水素系樹脂の製
    造方法。
JP14779477A 1977-12-09 1977-12-09 塩素化炭化水素系樹脂の製造方法 Expired JPS6024801B2 (ja)

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JPS5480390A JPS5480390A (en) 1979-06-27
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0588364B2 (ja) * 1986-07-09 1993-12-22 Honda Motor Co Ltd

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JPH0588364B2 (ja) * 1986-07-09 1993-12-22 Honda Motor Co Ltd

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