JPS60246334A - ヘミアセタール・エステル類を介しかつコバルトのカルボニル錯体によつて触媒されるアルデヒド類の還元カルボニル化方法 - Google Patents

ヘミアセタール・エステル類を介しかつコバルトのカルボニル錯体によつて触媒されるアルデヒド類の還元カルボニル化方法

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JPS60246334A
JPS60246334A JP60100358A JP10035885A JPS60246334A JP S60246334 A JPS60246334 A JP S60246334A JP 60100358 A JP60100358 A JP 60100358A JP 10035885 A JP10035885 A JP 10035885A JP S60246334 A JPS60246334 A JP S60246334A
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JP
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group
anhydride
acetal
formula
aldehydes
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JP60100358A
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フランソワ・ユーグ
ドミニツク・コムルーク
イヴ・シヨーバン
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IFP Energies Nouvelles IFPEN
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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    • C07C41/01Preparation of ethers
    • C07C41/18Preparation of ethers by reactions not forming ether-oxygen bonds
    • C07C41/30Preparation of ethers by reactions not forming ether-oxygen bonds by increasing the number of carbon atoms, e.g. by oligomerisation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/49Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reaction with carbon monoxide

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明の対象は、アルキレン・グリコール類の誘導体例
えばアルキレン−グリコール・モノエーテル類、アルキ
レン・グリコール−モノエーテル・エステル類およびエ
ーテル化2−ヒドロキシ・アルデヒド類の製造を可能に
する、アルデヒドのへミアセタール・エステル類を介す
るアルデヒド類の還元カルボニル化方法である。
反応は、コバルトベースの触媒の存在下に、−酸化炭素
と水素とを含む合成ガスを用いて行なわれる。
得られたアルキレン・グリコール類の誘導体は、所望で
あれば、従来の方法により容易にアルキレン・グリコー
ル類に変換されうる。
従来技術およびその問題点 アルキレン・グリコール類特にエチレン・グリコールの
種々の合成方法が、文献において提案された。
特開昭52−42809号公報は、特に−酸化炭素と水
素とを含む気体混合物からのロジウムベース触媒の存在
下におけるエチレン・グリコールの合成方法を記載して
いる。しかしながらこの方法は、50メガパスカル(M
Pa)程度またはそれ以上の高圧を必要とし、従ってほ
とんど魅力のないものであり、工業的な開発は難しい。
エチレン・グリコールのもう1つの合成方法が、米国特
許第4087470号明細書に記載されている。
この方法は、ホルムアルデヒドからの一連の工程を用い
る。すなわちホルムアルデヒドかまず−酸化炭素による
カルボニル化反応によってグリコール酸に転換され、次
にこのグリコール酸がエステル化によりグリコール酸エ
ステルに変換され、最後にこれが水素化されてグリコー
ルになる。
この方法ではまた、高圧を要しかつフッ化水素酸のよう
な非常に腐蝕性の酸化触媒の存在下に行なわれるホルム
アルデヒドのカルボニル化工程を工業的に実施するのが
難しい。
同様に、ロジウムをベースとしたまたはコバルトとロジ
ウムをベースとした触媒の存在下に、合成ガスとの反応
により、ホルムアルデヒドからエチレン・グリコールお
よびエチレン・グリコール・エーテル類を直接得ること
が提案された(米国特許第4079085号、同第41
44401号)。この反応は、溶媒としてアルコールの
存在下、20MPa程度の圧力下で行なわれる。しかし
この方法ではエチレン舎グリコール選択性が低く、モノ
エーテル化遊離エチレン・グリコール収率は、ホルムア
ルデヒドに対して35チを超えない。
最近、ホルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドのアセ
タール類が出発物質として使用されて、合成ガスとの反
応により、コバルトのカルボニル化誘導体を含む触媒の
存在下、特にエチレン◆グリフールまたはプロピレン・
グリコールのモノエーテル類か得られた。これらのモノ
エーテル類は、ついて酸性媒質で加水分解されて対応す
るグリコール類を生じる。
反応式は下記のとおりである。
Ra −CH−CH20H−1−RbOHRb Rb Ra −CHOH−CH20H+Rb0H(式中Raは
水素またはメチル基を表わし、Rbはアルキル基を表わ
す。) 英国特許第2070002号明細書は、ホルムアルデヒ
ドeアセタール類のグリコール・モノアルキル・エーテ
ル類への還元カルボニル化ついでこのエーテル類のグリ
コール類への加水分解について記載している。
全体のエチレン−グリコール収率は76%に達するが、
還元カルボニル化工程に用いられた操作条件はかなり厳
しく、(温度180〜190℃、圧力20〜3 Q M
Pn )、これはこのような方法においては非常な欠点
となる。
アセトアルデヒドのアセタール類の還元カルボニル化は
ほとんど研究されておらず、米国特許第4356327
号および同第4390734号に見られるように、比較
的低いプロピレン・グリコール・エーテル類の収率のた
めに、厳しい操作条件を必要とする。
問題点の解決手段 驚くべきことに、穏やかな圧力と温度の条件下において
、触媒としてのコバルトのカルボニル化錯体の存在下に
、アルデヒド類のへミアセタールーエステル類の還元カ
ルボニル化により、アルキレン・グリコール・モノエー
テル類、アルキレンログリコール−モノエーテル・エス
テル類および2−アルコキシ・アルデヒド類の混合物を
高収率で得ることが可能であることが発見された。
反応式は下記のとおりである。
OR2(I) 0 0R2cA) OR2(B) −O−C−R3+ R1−CH−CHO11 00R2、、。
(式中R1、R2およびR3は、互いに独立して水素原
子、例えばC1〜C12のアルキル基、例えばC6〜C
14のアリール基、例えば07〜C14のアラルキル基
または例えば03〜C12のシクロアルキル基を示す。
基R1、R2およびR3は、場合によっては、例えばア
ミド、エステルまたはエーテルのような、カルボニル化
反応の障害とならない官能基キャリヤーであってもよい
。) 本発明による方法において、式(I)のへミアセタール
ーエステル類は、オートクレーブ内で不連続に、または
装置内において連続して、成体)(B) (C)のグリ
コール類の誘導体に転換されうる。
式(I)の化合物は、これらの化合物の既知の調製方法
に従って、異なる予備工程で、例えばビニルエーテルと
カルボン酸から、または式中に基R3COO−を有する
酸無水物に対する式RICH(OR2)2 のアセター
ル反応により調製されうる。また式(I)の化合物は、
還元カルボニル化反応器内において、その場で、特に式
中にR3COO−基を有する酸無水物、好ましくは式0
式% と同一または異なり、R3について上で示した定義と同
じである)のカルボン酸無水物に対するアセタールの反
応により再生されうる。
好ましい式(I)の出発化合物は、基R1が水素原子ま
たはメチル基を示し;基R2がC1〜C4のアルキル基
、すなわちメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
n−ブチル、第ニブチルまたは第三ブチルを示し;基R
3がC1〜C4のアルキル基特に好ましくはメチル基で
あるようなものである。
式<I)の化合物か、その場で、式RICH(OR2)
20 0 物とから形成される場合、R1およびR2は好ましくは
上記の基であり、好ましくは、R4とR3がともにアル
キル基、より好ましくはメチル基を示す無水物を用いる
上記式(5)(B) Ic)の化合物が、上記条件下に
おける式(I)の基質の還元カルボニル化反応の3つの
主生成物である。
後で実施例において示すように、操作条件に従い、特に
Co/H2比に応じて、化合物(C)は、化合物(A)
 (B)に対して多少大きな割合で形成されうる。
従来の方法では、化合物CB)は、加水分解により、容
易に化合物(A)に転換されうる。同様に、式(C)の
アルデヒドを、既知の方法により容易に成仏)の化合物
に水素化しうる。これらの加水分解反応および水素化反
応は、化合物の分離なしに還元カルボニル化により得ら
れた混合物に対して、または予め例えば蒸留により分離
された化合物に対して行なわれうる。
アルキレン・グリコールを得たい場合、得られたアルキ
レンeグリコール・モノエーテルは、従来の方法により
加水分解され得、特に英国特許第2070002号に記
載された方法を用いることができる。
本発明の方法により、特に、比較的穏やかな条件下にお
いて、遊離またはエステル化エチレン・グリコール・モ
ノエーテル類またはプロピレン・グリコール・モノエー
テル類および/または2−アルコキシOアセトアルデヒ
ド類および/または2−アルコキシ・プロピオンアルデ
ヒド類を高収率で得ることが可能になる。
本発明による方法の実施に必要なカルボニル化触媒は、
コバルトのカルボニル錯体であり、これは反応媒質中に
例えばジコバルト・オクタカルボニル、水素化コバルト
・テトラカルボニル、酢酸コバルトまたはあらゆるコバ
ルト化合物の形で導入されうるものであって、一般に所
謂「オキソ」反応に使用され、反応条件下において、そ
の場で、コバルトのカルボニル錯体の形成につながるも
のである。コバルト/出発基質モル比で表示されたコバ
ルト濃度は、0.1〜0.0001モル1モル、好まし
くは0.05〜0.001モル1モルであってもよい。
場合によっては助触媒特にアセタール類のカルボニル化
反応について先行文献において提案されたものが使用で
きる。
還元カルボニル化を、純粋のまたは有機溶媒中溶液状基
質に対して行なってもよい。この溶媒は飽和炭化水素、
ベンゼンまたはトルエンのような芳香族炭化水素、エー
テル、ニトリルまたは反応条件において反応性を示さず
、かつついで得られた生成物から容易に分離されうるそ
の他のあらゆる溶媒である。
反応に使用される合成ガスは、約0.05:1〜約10
:1、好ましくは約01:1〜4約3二1のモル比にお
ける、水素と一酸化炭素を含む混合物である。H2/C
O比が約0.05:1〜約0.5:1の場合、形成され
た2−アルコキシ拳アルデヒド類の割合はその際勝って
いる。2−アルコキシ・アルデヒド類を得たい場合、合
成ガスは、好ましくは約0.1:1〜約0.5:1のH
2/Co比を有する。
H2/CO比が約1:1〜約10:1の場合、形成され
た遊離またはエステル化グリコール・モノエーテル類の
割合はその際勝っている。遊離またはエステル化グリコ
ール・モノエーテル類を形成したい場合、好ましくは、
H2/C0比が約1:l〜約3:1の合成ガスを選ぶ。
合成ガスが中間の比、例えば約05:1〜約1:1を有
する場合、一般に化合物(A) fB) (c)の混合
物を形成する。
式(I)の生成物が、アセタールと酸無水物とからその
場で形成される場合、エステル化グリコール・モノエー
テル類の形成は、過剰の無水物を使用する場合、非エス
テル化生成物の形成に対して、促進される。
圧力と温度の条件は、使用される出発基質に従って様々
であるが、圧力については5〜2.、。
メガパスカル(MPa)好ましくは7〜13MPaであ
り、温度については70〜250℃好ましくは100〜
170℃である。
出発基質が、アセタールに対する無水物の反応により形
成される場合、酸無水物/アセタールモル比は、有効に
は約0.5:1〜約20:1好ましくは約1:1〜約4
:1である。
発明の効果 以上の次第で、本発明によれば、穏やかな圧力と温度の
条件下において、触媒としてのコバルトのカルボニル化
錯体の存在下に、アルデヒド類のヘミアセタール・エス
テル類の還元カルボニル化により、アルキレン・グリコ
ール−モノエーテル類、アルキレン・グリコール噛七ノ
エーテル・エステル類および2−アルコキシ・アルデヒ
ド類の混合物を高収率で得ることか可能である。
実 施 例 下記実施例は本発明を例証するか、その範囲を限定する
ものではない。
実施例1 電気加熱による温度調整装置と磁気撹拌装置を備えた3
00cdの有効容積のステンレス鋼製オートクレーブ内
に、ベンゼン40rnl、ジコバルトオクタカルボニル
C02(Co)8 2ミリモルおよび酢酸1−エトキシ
・エチル CH3−CH−0−C−CH30,1モルを導l ll 0C2)T5 0 人する。
反応器を閉じ、CO/H2比1:1の一酸化炭素・水素
混合物IMPaにより反応器の内部を4回パージする。
次にCo/H2モル比3.5:1の合成ガスを用いて室
温て、14MPaに加圧する。
ついて120℃に加熱する。
120℃における6時間の反応後、オートクレーブを室
温で冷却する。再上昇され当初条件に戻された圧力の低
下は2.4 MPaである。液体内容物を、ガス相クロ
マトグラフィ(以下VPCと記す)により分析する。ヘ
ミアセタール・エステルの変換率は100%である。得
られた主要生成物およびそれらの各々に対する選択率は
下記のとおりである。
生じた生成物についての選択率は、この生成物に変換さ
れたヘミアセタール・エステルマタはアセタールの割合
に等しい。
実施例2 実施例1と同じ装置においてかつ同じ操作条件に従い、
CO/H2モル比1:1の合成ガスにより、酢酸1−エ
トキシ・エチルの還元カルボニル化を実施する。その他
の点て、他のすへての操作条件は、実施例1と同しであ
る。
得られた液体内容物を■PCにより分析する。
変換率は100%である。得られた生成物およびそれら
の各々についての選択率は次のとおりである。
実施例3 実施例1と同じ装置においてかつ同し操作方法により、
1,1−ジェトキシ・エタンO,1モル、無水酢酸0.
11モルおよびベンゼン4〇−中CO2(CO)8 2
ミリモルを反応させる。オートクレーブの圧力を、Co
/H2モル比1:1の合成ガスを用いて14 MPaに
し、温度を120℃にする。
120℃における6時間の反応後、アセタールの変換率
は80%である。得られた生成物は、実施例1と同じで
ある。vPCによる分析によると下記結果が生じる。
実施例4 実施例1と同じ装置内においてかつ同じ操作方法に従っ
て、酢酸1−メトキシ争メチルCH30−CH2−0−
C−CH30,1モルとベン1 ゼン40m1中C02(Co)8 1ミリモルとを反応
させる。オートクレーブの圧力を、CO/H2比1:1
の合成ガスを用いて12MPaにし、温度を120℃に
する。
7時間の反応後、・\ミアセタールφエステルの変換率
は78チである。
得られた主生成物およびそれらの各々についての選択率
は下記のとおりである。
実施例5 実施例1と同じ装置内においてかつ同じ操作方法に従っ
て、メチクール(ホルムアルデヒド・ジメチルアセター
ルCH2(OCH3)2 ) 0.1モル、無水酢酸0
1モルおよびベンゼン40m/中C02(Co)8 ]
 ミリモルを反応させる。オートクレーブの圧力を、C
o/H2比1:1の合成ガスを用いて12MPaにし、
温度を120℃にする。
7時間の反応後、アセクールの変換率は67チである。
VPCにより明らかにされた主要な形成された生成物は
下記のとおりである。
C以下余白) 実施例6 本実施例は比較例として挙げられている。実施例1と同
し装置内においてかつ同し操作方法に従って、メチシー
ル01モルとベンゼン4〇−中C02(Co)8 1 
ミリモルとを反応させる。
オートクレーブの圧力をCo/H2比1:1の合成ガス
を用いて12MPaにし、温度を120℃にする。
7時間の反応後、アセタールの変換率は5%以下である
。vPCによる分析によって、カルボニル化生成物が痕
跡状態にあることが明らかにされる。
実施例5との比較により、アセタールのみに対して、ア
セタール・無水酢酸混合物の最も大きな反応性が示され
る。
以 上 特許出願人 アンステイテユ・フランセ・デュ・ベトロ
ール 外4名 第1頁の続き @発明者 イヴ拳ショーパン フランス国ルエネラル・
ル ・ペック(78230) ・アブニュー・デュ・ジクレ
ール自番地

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1) コバルトのカルボニル錯体の存在下に、アルデ
    ヒドと、水素および一酸化炭素を含むガスとを反応させ
    るアルデヒドの還元カルボニル化方法において、アルデ
    ヒドがヘミアセタール・エステルの形態下で使用される
    ことを特徴とする方法。 (2) へミアセタール・エステルが、アセタールと酸
    無水物との反応により、還元カルボニル化工程とは異な
    る工程において調製される、特許請求の範囲第1項記載
    の方法。 (3) へミアセタール・エステルが、アセタールと酸
    無水物との反応により、カルボニルカ化範囲第1項記載
    の方法。 (4) へミアセタール・エステル力、式%式% (式中R1、R2およびR3が、各々水素原子、アルキ
    ル基、アリール基、アラルキル基およびシクロアルキル
    基から成る群から選ばれる)の化合物群から選ばれる、
    特許請求の範囲第1〜3項のうちいずれか1項記載の方
    法。 f51 R1が水素またはメチル基、R2がC1〜C4
    のアルキル基、R3が水素原子または01〜C4のアル
    キル基を表わす、特許請求の範囲第4項記載の方法。 +61 R1が水素原子またはメチル基、R2がメチル
    またはエチル基、R3かメチル基を表わす、特許請求の
    範囲第5項記載の方法。 (7) へミアセタール・エステルが、式 R1−〇H
    (OR2)2 のアセタールと、式の無水物(式中R1
    、R2、R3は前記と同意義であり、R4はR3と同一
    または異なって、R3と同じ群から選ばれる)との反応
    により得られ、無水物/アセタールモル比が約0.5:
    1〜約20:1である、特許請求の範囲第1〜6項のう
    ちいずれか1項記載の方法。 (8)無水物が対称無水物であり、R4がR3と同一で
    あり、無水物/アセタール比が約1:1〜約4=1であ
    る、特許請求の範囲第7項記載の方法。 (9) 反応温度が70〜250℃であり、圧力が5〜
    25 MPaであり、合成ガスがH2/COモル比約1
    :1〜約10:1であるような組成を有し、好ましくは
    アルキレン・グリコール・モノエーテル類およびそれら
    のエステル類を形成するようにすることを特徴とする特
    許請求の範囲第1〜8項のうちいずれか1項記載の方法
    。 aひ 反応温度が70〜250℃、圧力が5〜25MP
    a、合成ガスがH2/Coモル比約0.05:1〜約0
    .5:1であるような組成を有し、好ましくは2−アル
    コキンeアルデヒド類を形成するようにすることを特徴
    とする特許請求の範囲第1〜8項のうちいずれか1項記
    載の方法。
JP60100358A 1984-05-11 1985-05-10 ヘミアセタール・エステル類を介しかつコバルトのカルボニル錯体によつて触媒されるアルデヒド類の還元カルボニル化方法 Pending JPS60246334A (ja)

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FR8407280 1984-05-11
FR8407280A FR2564090B1 (fr) 1984-05-11 1984-05-11 Procede de carbonylation reductrice d'aldehydes par l'intermediaire d'hemiacetal-esters, catalysee par les complexes carbonyles du cobalt

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